Et ginn zwou Haaptmethoden vun der Ionenstrahl-assistéierter Oflagerung, eng ass dynamesch Hybrid; déi aner ass statesch Hybrid. Déi éischt bezitt sech op de Film am Wuesstumsprozess, deen ëmmer vun enger bestëmmter Energie a Stralstroum vum Ionenbombardement a Film begleet gëtt; déi zweet gëtt op der Uewerfläch vum Substrat mat enger Schicht vun manner wéi e puer Nanometer Déckt ofgesat, an duerno gëtt d'Filmschicht dynamesch ofgesat, wat e puer Mol widderholl ka ginn, fir d'Filmschicht ze wuessen.
D'Ionenstrahlenergien, déi fir d'Ionenstrahl-assistéiert Oflagerung vun dënne Schichten gewielt ginn, leien am Beräich vun 30 eV bis 100 keV. Den Energieberäich hänkt vun der Aart vun der Uwendung of, fir déi de Film synthetiséiert gëtt. Zum Beispill sollten d'Virbereedung vu Korrosiounsschutz, Anti-Mechanik-Verschleiss-, Dekoratiounsbeschichtungen an aner dënn Schichten eng méi héich Bombardementsenergie gewielt ginn. Experimenter weisen, datt, wéi d'Wiel vun der Energie vun 20 bis 40 keV vum Ionenstrahl-Bombardement, d'Substratmaterial an de Film selwer d'Leeschtung an d'Notzung vum Schued net beaflossen. Bei der Virbereedung vun dënne Schichten fir optesch an elektronesch Apparater sollt eng Ionenstrahl-assistéiert Oflagerung mat manner Energie gewielt ginn, déi net nëmmen d'Liichtadsorptioun reduzéiert an d'Bildung vun elektresch aktivéierten Defekter vermeit, mä och d'Bildung vun der stationärer Struktur vun der Membran erliichtert. Studien hunn gewisen, datt Schichten mat exzellenten Eegeschafte kritt kënne ginn, andeems Ionenenergien ënner 500 eV gewielt ginn.
– Dësen Artikel gouf publizéiert vunHiersteller vu VakuumbeschichtungsmaschinnenGuangdong Zhenhua
Zäitpunkt vun der Verëffentlechung: 11. Mäerz 2024