1. D'Verdampfungsquote beaflosst d'Eegeschafte vun der verdampter Beschichtung
D'Verdampfungsquote huet e groussen Afloss op de ofgesate Film. Well d'Beschichtungsstruktur, déi duerch eng niddreg Oflagerungsquote geformt gëtt, locker ass a liicht grouss Partikeloflagerunge produzéiert, ass et ganz sécher, eng méi héich Verdampfungsquote ze wielen, fir d'Kompaktheet vun der Beschichtungsstruktur ze garantéieren. Wann den Drock vum Reschtgas an der Vakuumkammer konstant ass, ass d'Bombardementsquote vum Substrat e konstante Wäert. Dofir gëtt de Reschtgas, deen am ofgesate Film enthale ass, no der Auswiel vun enger méi héijer Oflagerungsquote reduzéiert, wouduerch d'chemesch Reaktioun tëscht de Reschtgasmoleküle an de verdampfte Filmpartikelen reduzéiert gëtt. Dofir kann d'Reinheet vum ofgesate Film verbessert ginn. Et sollt bemierkt ginn, datt wann d'Oflagerungsquote ze séier ass, dëst d'intern Spannung vum Film erhéije kann, et zu enger Erhéijung vun de Mängel am Film féiert, a souguer zu engem Broch vum Film féiert. Besonnesch am Prozess vun der reaktiver Verdampfungsplackéierung, fir datt de Reaktiounsgas voll mat de Partikelen vum Verdampfungsfilmmaterial reagéiert, kënnt Dir eng méi niddreg Oflagerungsquote wielen. Natierlech wielen verschidde Materialien ënnerschiddlech Verdampfungsquoten. Als praktescht Beispill – d'Oflagerung vum reflektive Film. Wann d'Filmedicke 600 × 10-8 cm ass an d'Verdampfungszäit 3 Sekonnen ass, ass d'Reflexivitéit 93%. Wann d'Verdampfungsquote awer ënner de selwechte Konditioune vun der Dicke verlangsamt gëtt, dauert et 10 Minutten, fir d'Filmedipositioun ofzeschléissen. Zu dësem Zäitpunkt ass d'Filmedicke déiselwecht. D'Reflexivitéit ass awer op 68% gefall.
2. D'Substrattemperatur beaflosst d'Verdampfungsbeschichtung
D'Substrattemperatur huet e groussen Afloss op d'Verdampfungsbeschichtung. Déi Reschtgasmoleküle, déi bei héijer Substrattemperatur op der Substratoberfläche adsorbéiert sinn, kënne liicht ewechgeholl ginn. Besonnesch d'Eliminatioun vu Waasserdampmoleküle ass méi wichteg. Ausserdeem ass et bei méi héijen Temperaturen net nëmmen einfach, d'Transformatioun vun der physescher Adsorptioun op d'chemesch Adsorptioun ze fërderen, wouduerch d'Bindungskraaft tëscht de Partikelen erhéicht gëtt. Ausserdeem kann et och den Ënnerscheed tëscht der Rekristallisatiounstemperatur vun den Dampmoleküle an der Substrattemperatur reduzéieren, wouduerch d'intern Belaaschtung op der filmbaséierter Grenzfläch reduzéiert oder eliminéiert gëtt. Zousätzlech, well d'Substrattemperatur mam kristallinen Zoustand vum Film zesummenhänkt, ass et dacks einfach, amorph oder mikrokristallin Beschichtungen ënner Bedingunge vun enger gerénger Substrattemperatur oder ouni Heizung ze bilden. Am Géigendeel, wann d'Temperatur héich ass, ass et einfach, eng kristallin Beschichtung ze bilden. D'Erhéijung vun der Substrattemperatur ass och bäidroe fir d'mechanesch Eegeschafte vun der Beschichtung ze verbesseren. Natierlech soll d'Substrattemperatur net ze héich sinn, fir d'Verdampfung vun der Beschichtung ze verhënneren.
3. Reschtgasdrock an der Vakuumkammer beaflosst d'Filmeiegeschafte
Den Drock vum Reschtgas an der Vakuumkammer huet e groussen Afloss op d'Leeschtung vun der Membran. Déi Reschtgasmoleküle mat ze héijem Drock kollidéiere net nëmmen einfach mat de verdampfte Partikelen, wat d'kinetesch Energie vun de Leit um Substrat reduzéiert an d'Adhäsioun vum Film beaflosst. Zousätzlech beaflosst en ze héije Reschtgasdrock d'Rengheet vum Film eescht an d'Leeschtung vun der Beschichtung reduzéiert.
4. Afloss vun der Verdampfungstemperatur op d'Verdampfungsbeschichtung
Den Afloss vun der Verdampfungstemperatur op d'Membranleistung weist sech duerch d'Ännerung vun der Verdampfungsquote mat der Temperatur. Wann d'Verdampfungstemperatur héich ass, hëlt d'Verdampfungswärm of. Wann d'Membranmaterial iwwer der Verdampfungstemperatur verdampft, kann och eng kleng Temperaturännerung eng schaarf Ännerung vun der Verdampfungsquote vum Membranmaterial verursaachen. Dofir ass et ganz wichteg, d'Verdampfungstemperatur während der Oflagerung vum Film präzis ze kontrolléieren, fir e groussen Temperaturgradient ze vermeiden, wann d'Verdampfungsquell erhëtzt gëtt. Fir e Filmmaterial, dat einfach ze subliméieren ass, ass et och ganz wichteg, d'Material selwer als Heizung fir d'Verdampfung an aner Moossnamen ze wielen.
5. Den Reinigungszoustand vum Substrat an der Beschichtungskammer beaflosst d'Beschichtungsleistung.
Den Afloss vun der Rengheet vum Substrat an der Beschichtungskammer op d'Leeschtung vun der Beschichtung kann net ignoréiert ginn. Et beaflosst net nëmmen d'Rengheet vum ofgesate Film eescht, mee reduzéiert och d'Adhäsioun vum Film. Dofir sinn d'Reinigung vum Substrat, d'Botzbehandlung vun der Vakuumbeschichtungskammer a senge verbonnene Komponenten (wéi de Substratrahmen) an d'Uewerflächenentgasung all onverzichtbar Prozesser am Vakuumbeschichtungsprozess.
Zäitpunkt vun der Verëffentlechung: 28. Februar 2023