Duo modi praecipui depositionis fasciculo ionico adiuvatae sunt: unus hybridus dynamicus, alter hybridus staticus. Prior modo, dum pellicula in processu accretionis semper certa energia et currente fasciculi bombardamentorum ionicorum comitatur; posterior, cum in superficie substrati stratum minus quam pauca nanometra crassitudinis praedeponitur, deinde bombardamento ionico dynamico fit, quo accretio pelliculae multipliciter repeti potest.
Energiae fasciculi ionici ad depositionem tenuium pellicularum per fasciculum ionicus electae sunt in spatio 30 eV ad 100 keV. Spatium energiae electum pendet a genere applicationis ad quam pellicula synthesizatur. Exempli gratia, ad praeparationem protectionis contra corrosionem, attritionis contra mechanicam, tunicarum decorativarum, aliarumque pellicularum tenuium cum energia bombardamenti maioris eligenda est. Experimenta ostendunt, ut puta energia 20 ad 40 keV pro bombardamento fasciculi ionici eligitur, materiam substrati et pelliculam ipsam effectum et usum damni non afficere. In praeparatione pellicularum tenuium ad machinas opticas et electronicas, depositio per fasciculum ionicus minoris energiae eligenda est, quae non solum adsorptionem lucis minuit et formationem vitiorum electrice activatorum vitat, sed etiam formationem structurae status stabilis membranae facilitat. Studia demonstraverunt pelliculas cum proprietatibus excellentibus obtineri posse eligendo energias ionum inferiores quam 500 eV.
–Hic articulus editus est abFabricator machinae ad obducendum vacuumGuangdong Zhenhua
Tempus publicationis: XI Martii, MMXXIV