Ион нурунун жардамы менен жайгаштыруунун эки негизги режими бар, бири динамикалык гибриддик; экинчиси статикалык гибрид. Биринчи өсүү процессинде пленканы билдирет, ар дайым иондук бомбалоонун жана пленканын белгилүү бир энергиясы жана нур агымы менен коштолот; акыркысы субстраттын бетине пленка катмарынын калыңдыгы бир нече нанометрден аз болгон катмарды, андан кийин динамикалык иондук бомбалоону алдын ала чөктүрөт жана пленка катмарынын өсүшү көп жолу кайталанышы мүмкүн.
Жука пленкалардын ион нурунун жардамы менен жайгаштыруу үчүн тандалган ион нурунун энергиялары 30 эВден 100 кВга чейинки диапазондо. Тандалган энергия диапазону пленка синтезделип жаткан колдонуунун түрүнө жараша болот. Мисалы, коррозиядан коргоо, антимеханикалык эскирүү, кооздук каптоо жана башка жука пленкаларды даярдоодо жогорку бомбалоо энергиясы тандалышы керек. Тажрыйбалар көрсөткөндөй, ион нурунун бомбалоосунун 20дан 40кеВ энергиясына чейинки тандоосу, субстрат материалы жана пленканын өзү зыяндын иштешине жана колдонуусуна таасир этпейт. Оптикалык жана электрондук приборлор үчүн жука пленкаларды даярдоодо төмөнкү энергиялуу ион нурларынын жардамы менен чөктүрүүнү тандоо керек, бул жарыктын адсорбциясын азайтып, электрдик активдештирилген дефекттердин пайда болушун болтурбоо менен бирге мембрананын стабилдүү түзүлүшүнүн түзүлүшүн да жеңилдетет. Изилдөөлөр көрсөткөндөй, эң сонун касиеттери бар пленкаларды 500 эВ төмөн иондук энергияны тандоо менен алууга болот.
– Бул макаланы чыгарганвакуумдук каптоочу машина өндүрүүчүсүГуандун Чжэнхуа
Посттун убактысы: 11-март-2024