Teknik konvensional kanggo nglebokake lapisan atos

1. Teknologi CVD termal

Lapisan atos biasane lapisan keramik logam (TiN, lsp.), sing dibentuk saka reaksi logam ing lapisan lan gasifikasi reaktif. Sepisanan, teknologi CVD termal digunakake kanggo nyedhiyakake energi aktivasi reaksi Kombinasi kanthi energi termal ing suhu dhuwur 1000 ℃. Suhu iki mung cocok kanggo nyetor TiN lan lapisan atos liyane ing piranti karbida semen. Nganti saiki, isih dadi teknologi penting kanggo nyetor lapisan komposit TiN - Al2O3 ing endhas piranti karbida semen.

1. Lapisan ion katoda berongga lan lapisan ion busur kawat panas

Ing taun 1980-an, lapisan ion katoda berongga lan lapisan ion busur kawat panas digunakake kanggo nyimpen piranti pemotong sing dilapisi. Kaloro teknologi lapisan ion iki minangka teknologi lapisan ion pelepasan busur, kanthi tingkat ionisasi logam nganti 20% ~ 40%.

1. Lapisan ion busur katoda

Munculé panggabungan ion busur katodik wis njalari pangembangan teknologi panyimpenan lapisan atos ing cetakan. Tingkat ionisasi lapisan ion busur katodik yaiku 60% ~ 90%, saéngga akèh ion logam lan ion gas reaksi bisa tekan permukaan benda kerja lan isih njaga aktivitas sing dhuwur, sing nyebabaké pengendapan reaksi lan pambentukan lapisan atos kaya ta TiN. Saiki, teknologi lapisan ion busur katodik utamané digunakaké kanggo panyimpenan lapisan atos ing cetakan.

Sumber busur katoda minangka sumber penguapan solid-state tanpa blumbang cair sing tetep, lan posisi sumber busur bisa diselehake kanthi sembarangan, ningkatake tingkat pemanfaatan ruang ruang lapisan lan nambah kapasitas pemuatan tungku. Wangun sumber busur katoda kalebu sumber busur katoda bunder cilik, sumber busur kolom, lan sumber busur gedhe sing rata persegi panjang. Komponen sumber busur cilik, sumber busur kolom, lan sumber busur gedhe sing beda-beda bisa diatur kanthi kapisah kanggo nyimpen film multi-lapisan lan film nano multilayer. Sauntara kuwi, amarga tingkat ionisasi logam sing dhuwur saka lapisan ion busur katoda, ion logam bisa nyerep luwih akeh gas reaksi, sing nyebabake rentang proses sing amba lan operasi sing gampang kanggo entuk lapisan keras sing apik banget. Nanging, ana tetesan kasar ing struktur mikro lapisan lapisan sing dipikolehi dening lapisan ion busur katoda. Ing taun-taun pungkasan, akeh teknologi anyar sing muncul kanggo nyaring struktur lapisan film, sing wis ningkatake kualitas film lapisan ion busur.