גורמים המשפיעים על ביצועי ציפוי אידוי בוואקום

1. קצב האידוי ישפיע על תכונות הציפוי המתאדה

לקצב האידוי יש השפעה רבה על הסרט המופקד. מכיוון שמבנה הציפוי שנוצר על ידי קצב שקיעת חלקיקים נמוך הוא רופף וקל לייצר שקיעת חלקיקים גדולים, בטוח מאוד לבחור קצב אידוי גבוה יותר כדי להבטיח את הקומפקטיות של מבנה הציפוי. כאשר לחץ הגז השיורי בתא הוואקום קבוע, קצב ההפצצה של המצע הוא ערך קבוע. לכן, לאחר בחירת קצב שקיעת גבוה יותר, הגז השיורי הכלול בסרט המופקד יופחת, ובכך תפחית את התגובה הכימית בין מולקולות הגז השיורי לחלקיקי הסרט המאודים. לכן, ניתן לשפר את טוהר הסרט המופקד. יש לציין שאם קצב השקיעת מהיר מדי, הדבר עלול להגביר את המאמץ הפנימי של הסרט, להגדיל את הפגמים בסרט, ואף להוביל לקרע בסרט. בפרט, בתהליך ציפוי אידוי ריאקטיבי, על מנת לגרום לגז התגובה להגיב באופן מלא עם חלקיקי חומר סרט האידוי, ניתן לבחור קצב שקיעת חלקיקים נמוך יותר. כמובן, חומרים שונים בוחרים קצבי אידוי שונים. כדוגמה מעשית - הצבת הסרט המחזיר אור. אם עובי הסרט הוא 600×10-8 ס"מ וזמן האידוי הוא 3 שניות, ההחזרה היא 93%. עם זאת, אם קצב האידוי מאט תחת אותם תנאי עובי, ייקח 10 דקות להשלים את הצבת הסרט. בשלב זה, עובי הסרט נשאר זהה. עם זאת, ההחזרה ירדה ל-68%.

2. טמפרטורת התשתית תשפיע על ציפוי האידוי

לטמפרטורת המצע יש השפעה רבה על ציפוי האידוי. מולקולות הגז הנותרות הנספחות על פני המצע בטמפרטורת מצע גבוהה ניתנות להסרה בקלות. במיוחד סילוק מולקולות אדי מים חשוב יותר. יתר על כן, בטמפרטורות גבוהות יותר, קל לא רק לקדם את המעבר מספיחה פיזית לספיחה כימית, ובכך להגדיל את כוח הקישור בין החלקיקים. יתר על כן, זה יכול גם להפחית את ההפרש בין טמפרטורת ההתגבשות מחדש של מולקולות האדים לטמפרטורת המצע, ובכך להפחית או לבטל את הלחץ הפנימי על הממשק מבוסס הסרט. בנוסף, מכיוון שטמפרטורת המצע קשורה למצב הגבישי של הסרט, קל לעתים קרובות ליצור ציפויים אמורפיים או מיקרו-גבישיים בתנאים של טמפרטורת מצע נמוכה או ללא חימום. להיפך, כאשר הטמפרטורה גבוהה, קל ליצור ציפוי גבישי. העלאת טמפרטורת המצע תורמת גם לשיפור התכונות המכניות של הציפוי. כמובן, טמפרטורת המצע לא צריכה להיות גבוהה מדי כדי למנוע אידוי של הציפוי.

3. לחץ גז שיורי בתא הוואקום ישפיע על תכונות הסרט

ללחץ הגז השיורי בתא הוואקום יש השפעה רבה על ביצועי הממברנה. מולקולות הגז השיורי בלחץ גבוה מדי לא רק מתנגשות בקלות בחלקיקים המתאדים, מה שיפחית את האנרגיה הקינטית של האנשים על המצע וישפיע על הידבקות הסרט. בנוסף, לחץ גז שיורי גבוה מדי ישפיע קשות על טוהר הסרט ויפחית את ביצועי הציפוי.

4. השפעת טמפרטורת האידוי על ציפוי האידוי

השפעת טמפרטורת האידוי על ביצועי הממברנה מתבטאת בשינוי קצב האידוי עם הטמפרטורה. כאשר טמפרטורת האידוי גבוהה, חום האידוי יקטן. אם חומר הממברנה מתאדה מעל לטמפרטורת האידוי, אפילו שינוי קל בטמפרטורה יכול לגרום לשינוי חד בקצב האידוי של חומר הממברנה. לכן, חשוב מאוד לשלוט בטמפרטורת האידוי במדויק במהלך הנחת הסרט כדי למנוע מפל טמפרטורה גדול כאשר מקור האידוי מחומם. עבור חומר סרט שקל לסובלים, חשוב מאוד גם לבחור את החומר עצמו כמחמם לאידוי ואמצעים אחרים.

5. מצב הניקוי של המצע ותא הציפוי ישפיע על ביצועי הציפוי

לא ניתן להתעלם מהשפעת ניקיון המצע ותא הציפוי על ביצועי הציפוי. הדבר לא רק ישפיע קשות על טוהר הסרט המופקד, אלא גם יפחית את הידבקות הסרט. לכן, טיהור המצע, טיפול ניקוי תא הציפוי בוואקום והרכיבים הקשורים אליו (כגון מסגרת המצע) וניקוי גזים מפני השטח הם כולם תהליכים הכרחיים בתהליך ציפוי הוואקום.