1. Uppgufunarhraði hefur áhrif á eiginleika uppgufaðrar húðunar
Uppgufunarhraðinn hefur mikil áhrif á filmuna sem er sett á. Þar sem húðunarbyggingin sem myndast við lágan útfellingarhraða er laus og auðvelt er að mynda stórar agnir, er mjög öruggt að velja hærri uppgufunarhraða til að tryggja þéttleika húðunarbyggingarinnar. Þegar þrýstingur afgangsgassins í lofttæmishólfinu er stöðugur, er sprengjuhraði undirlagsins stöðugur. Þess vegna mun afgangsgasið í útfelldu filmunni minnka eftir að hærri útfellingarhraði er valinn, sem dregur úr efnahvörfum milli afgangsgassameindanna og uppgufuðu filmuagnanna. Þess vegna er hægt að bæta hreinleika útfelldu filmunnar. Það skal tekið fram að ef útfellingarhraðinn er of mikill getur það aukið innri spennu filmunnar, aukið galla í filmunni og jafnvel leitt til rofs á filmunni. Sérstaklega í ferli við hvarfgjörn uppgufunarhúðun, til að láta hvarfgasið hvarfast að fullu við agnirnar í uppgufunarfilmuefninu, er hægt að velja lægri útfellingarhraða. Að sjálfsögðu velja mismunandi efni mismunandi uppgufunarhraða. Sem dæmi um framkvæmd endurskinsfilmu. Ef þykkt filmunnar er 600 × 10-8 cm og uppgufunartíminn er 3 sekúndur, þá er endurskinsgetan 93%. Hins vegar, ef uppgufunarhraðinn hægir á við sömu þykktarskilyrði, tekur það 10 mínútur að ljúka uppsetningu filmunnar. Á þessum tímapunkti er þykkt filmunnar sú sama. Hins vegar hefur endurskinsgetan lækkað í 68%.
2. Hitastig undirlagsins hefur áhrif á uppgufunarhúðun
Hitastig undirlagsins hefur mikil áhrif á uppgufunarhúðunina. Leifar af gassameindum sem aðsogast á yfirborð undirlagsins við hátt undirlagshitastig er auðvelt að fjarlægja. Sérstaklega er útrýming vatnsgufusameinda mikilvægari. Ennfremur, við hærra hitastig, er ekki aðeins auðvelt að stuðla að umbreytingu frá eðlisfræðilegri aðsogi í efnafræðilega aðsog, sem eykur bindingarkraftinn milli agnanna. Ennfremur getur það einnig dregið úr mismuninum á endurkristöllunarhita gufusameindanna og undirlagshitastigsins, sem dregur úr eða útrýmir innri álagi á yfirborð filmunnar. Þar að auki, vegna þess að undirlagshitastigið tengist kristöllunarástandi filmunnar, er oft auðvelt að mynda ókristölluð eða örkristallað húðun við lágt undirlagshitastig eða enga upphitun. Þvert á móti, þegar hitastigið er hátt, er auðvelt að mynda kristölluð húðun. Að auka undirlagshitastigið er einnig til þess fallið að bæta vélræna eiginleika húðunarinnar. Að sjálfsögðu ætti undirlagshitastigið ekki að vera of hátt til að koma í veg fyrir uppgufun húðunarinnar.
3. Leifargasþrýstingur í lofttæmishólfinu mun hafa áhrif á eiginleika filmunnar
Þrýstingur afgangsgassins í lofttæmishólfinu hefur mikil áhrif á virkni himnunnar. Of háþrýstingur veldur því að afgangsgassameindir rekast auðveldlega á uppgufandi agnir, sem dregur úr hreyfiorku fólksins á undirlaginu og hefur áhrif á viðloðun filmunnar. Að auki mun of hár þrýstingur afgangsgassins hafa alvarleg áhrif á hreinleika filmunnar og draga úr virkni húðunarinnar.
4. Áhrif uppgufunarhita á uppgufunarhúðun
Áhrif uppgufunarhitastigs á afköst himnunnar sjást með breytingum á uppgufunarhraða með hitastigi. Þegar uppgufunarhitastigið er hátt lækkar uppgufunarhitinn. Ef himnuefnið gufar upp yfir uppgufunarhitastigið getur jafnvel lítilsháttar breyting á hitastigi valdið mikilli breytingu á uppgufunarhraða himnuefnisins. Þess vegna er mjög mikilvægt að stjórna uppgufunarhitastiginu nákvæmlega við uppsetningu filmunnar til að forðast mikinn hitahalla þegar uppgufunargjafinn er hitaður. Fyrir filmuefni sem auðvelt er að sublimera er einnig mjög mikilvægt að velja efnið sjálft sem hitara fyrir uppgufun og aðrar ráðstafanir.
5. Hreinsunarástand undirlagsins og húðunarhólfsins hefur áhrif á húðunarafköstin.
Ekki er hægt að hunsa áhrif hreinleika undirlagsins og húðunarklefans á afköst húðunarinnar. Það mun ekki aðeins hafa alvarleg áhrif á hreinleika filmunnar sem sett er niður, heldur einnig draga úr viðloðun filmunnar. Þess vegna eru hreinsun undirlagsins, hreinsun lofttæmishúðunarklefans og tengdra íhluta þess (eins og undirlagsgrindarinnar) og afgasun yfirborðsins allt ómissandi ferli í lofttæmishúðunarferlinu.
Birtingartími: 28. febrúar 2023