- Ջերմային CVD տեխնոլոգիա
Կարծր ծածկույթները հիմնականում մետաղ-կերամիկական ծածկույթներ են (TiN և այլն), որոնք առաջանում են ծածկույթում մետաղի ռեակցիայի և ռեակտիվ գազաֆիկացման միջոցով: Սկզբում ջերմային CVD տեխնոլոգիան օգտագործվել է 1000 ℃ բարձր ջերմաստիճանում համակցված ռեակցիայի ակտիվացման էներգիան ջերմային էներգիայի միջոցով ապահովելու համար: Այս ջերմաստիճանը հարմար է միայն TiN-ի և այլ կարծր ծածկույթների ցեմենտացված կարբիդային գործիքների վրա նստեցման համար: Մինչ օրս այն դեռևս կարևոր տեխնոլոգիա է TiN-Al2O3 կոմպոզիտային ծածկույթների ցեմենտացված կարբիդային գործիքների գլխիկների վրա նստեցման համար:
- Խոռոչ կաթոդային իոնային ծածկույթ և տաք մետաղալարային աղեղային իոնային ծածկույթ
1980-ականներին կտրող գործիքները պատված նստեցնելու համար օգտագործվում էին խոռոչ կաթոդային իոնային ծածկույթ և տաք մետաղալարային աղեղային իոնային ծածկույթ: Այս երկու իոնային ծածկույթի տեխնոլոգիաներն էլ աղեղային պարպման իոնային ծածկույթի տեխնոլոգիաներ են՝ մինչև 20%~40% մետաղի իոնացման մակարդակով:
- Կաթոդային աղեղի իոնային ծածկույթ
Կաթոդային աղեղային իոնային ծածկույթի ի հայտ գալը հանգեցրել է կաղապարների վրա կարծր ծածկույթներ նստեցնելու տեխնոլոգիայի զարգացմանը: Կաթոդային աղեղային իոնային ծածկույթի իոնացման արագությունը կազմում է 60%~90%, ինչը թույլ է տալիս մեծ թվով մետաղական իոնների և ռեակցիոն գազի իոնների հասնել աշխատանքային մասի մակերեսին և պահպանել բարձր ակտիվություն, ինչը հանգեցնում է ռեակցիայի նստեցմանը և կարծր ծածկույթների, ինչպիսին է TiN-ը, առաջացմանը: Ներկայումս կաթոդային աղեղային իոնային ծածկույթի տեխնոլոգիան հիմնականում օգտագործվում է կաղապարների վրա կարծր ծածկույթներ նստեցնելու համար:
Կաթոդային աղեղային աղբյուրը պինդ վիճակում գտնվող գոլորշիացման աղբյուր է՝ առանց ֆիքսված հալված ավազանի, և աղեղային աղբյուրի դիրքը կարող է կամայականորեն տեղադրվել՝ բարելավելով ծածկույթի սենյակի տարածքի օգտագործման արագությունը և մեծացնելով վառարանի բեռնման հզորությունը: Կաթոդային աղեղային աղբյուրների ձևերը ներառում են փոքր շրջանաձև կաթոդային աղեղային աղբյուրներ, սյունաձև աղեղային աղբյուրներ և ուղղանկյուն հարթ մեծ աղեղային աղբյուրներ: Փոքր աղեղային աղբյուրների, սյունաձև աղեղային աղբյուրների և մեծ աղեղային աղբյուրների տարբեր բաղադրիչները կարող են առանձին դասավորվել՝ բազմաշերտ թաղանթներ և նանո-բազմաշերտ թաղանթներ նստեցնելու համար: Միևնույն ժամանակ, կաթոդային աղեղային իոնային ծածկույթի բարձր մետաղական իոնացման արագության շնորհիվ, մետաղական իոնները կարող են կլանել ավելի շատ ռեակցիոն գազեր, ինչը հանգեցնում է լայն գործընթացային շրջանակի և պարզ գործողության՝ գերազանց կարծր ծածկույթներ ստանալու համար: Այնուամենայնիվ, կաթոդային աղեղային իոնային ծածկույթով ստացված ծածկույթի շերտի միկրոկառուցվածքում կան կոպիտ կաթիլներ: Վերջին տարիներին ի հայտ են եկել բազմաթիվ նոր տեխնոլոգիաներ՝ թաղանթի շերտի կառուցվածքը կատարելագործելու համար, ինչը բարելավել է աղեղային իոնային ծածկույթի թաղանթի որակը:
Հրապարակման ժամանակը. Հուլիս-20-2023