આયન બીમ-સહાયિત ડિપોઝિશનના બે મુખ્ય મોડ છે, એક ડાયનેમિક હાઇબ્રિડ છે; બીજો સ્ટેટિક હાઇબ્રિડ છે. પહેલાનો અર્થ એ છે કે વૃદ્ધિ પ્રક્રિયામાં ફિલ્મ હંમેશા ચોક્કસ ઊર્જા અને આયન બોમ્બાર્ડમેન્ટ અને ફિલ્મના બીમ પ્રવાહ સાથે હોય છે; બાદમાં સબસ્ટ્રેટની સપાટી પર ફિલ્મ સ્તરના થોડા નેનોમીટર કરતા ઓછા જાડાઈના સ્તરને પૂર્વ-જમા કરવામાં આવે છે, અને પછી ગતિશીલ આયન બોમ્બાર્ડમેન્ટ, અને ફિલ્મ સ્તરની વૃદ્ધિ ઘણી વખત પુનરાવર્તિત થઈ શકે છે.
પાતળા ફિલ્મોના આયન બીમ સહાયિત નિક્ષેપન માટે પસંદ કરાયેલ આયન બીમ ઉર્જા 30 eV થી 100 keV ની રેન્જમાં હોય છે. પસંદ કરાયેલ ઉર્જા શ્રેણી ફિલ્મ કયા પ્રકારના ઉપયોગ માટે સંશ્લેષણ કરવામાં આવી રહી છે તેના પર આધાર રાખે છે. ઉદાહરણ તરીકે, કાટ સંરક્ષણ, યાંત્રિક વિરોધી વસ્ત્રો, સુશોભન કોટિંગ્સ અને અન્ય પાતળા ફિલ્મોની તૈયારી માટે ઉચ્ચ બોમ્બાર્ડમેન્ટ ઉર્જા પસંદ કરવી જોઈએ. પ્રયોગો દર્શાવે છે કે, જેમ કે આયન બીમ બોમ્બાર્ડમેન્ટની 20 થી 40keV ઉર્જાની પસંદગી, સબસ્ટ્રેટ સામગ્રી અને ફિલ્મ પોતે નુકસાનના પ્રદર્શન અને ઉપયોગને અસર કરશે નહીં. ઓપ્ટિકલ અને ઇલેક્ટ્રોનિક ઉપકરણો માટે પાતળા ફિલ્મોની તૈયારીમાં, ઓછી ઉર્જા આયન બીમ સહાયિત નિક્ષેપ પસંદ કરવો જોઈએ, જે ફક્ત પ્રકાશ શોષણ ઘટાડે છે અને ઇલેક્ટ્રિકલી સક્રિય ખામીઓના નિર્માણને ટાળે છે, પરંતુ પટલની સ્થિર સ્થિતિ રચનાની રચનાને પણ સરળ બનાવે છે. અભ્યાસોએ દર્શાવ્યું છે કે 500 eV કરતા ઓછી આયન ઉર્જા પસંદ કરીને ઉત્તમ ગુણધર્મો ધરાવતી ફિલ્મો મેળવી શકાય છે.
- આ લેખ પ્રકાશિત થયો છેવેક્યુમ કોટિંગ મશીન ઉત્પાદકગુઆંગડોંગ ઝેન્હુઆ
પોસ્ટ સમય: માર્ચ-૧૧-૨૦૨૪