Der binne twa haadmodi fan ionbeam-assistearre ôfsetting, ien is dynamyske hybride; de oare is statyske hybride. De earste ferwiist nei it feit dat de film yn it groeiproses altyd begelaat wurdt troch in bepaalde enerzjy en strielstroom fan ionbombardemint en film; de lêste wurdt foarôf op it oerflak fan it substraat ôfset mei in laach fan minder as in pear nanometers dikte fan 'e filmlaach, en dan dynamysk ionbombardemint, en kin in protte kearen werhelle wurde om de groei fan 'e filmlaach te befoarderjen.
De keazen ionbeam-enerzjy's foar ionbeam-assistearre ôfsetting fan tinne films lizze yn it berik fan 30 eV oant 100 keV. It keazen enerzjyberik hinget ôf fan it type tapassing wêrfoar't de film synthetisearre wurdt. Bygelyks, foar de tarieding fan korrosjebeskerming, anty-meganyske slijtage, dekorative coatings en oare tinne films moat in hegere bombardemintsenerzjy keazen wurde. Eksperiminten litte sjen dat, lykas de kar fan 20 oant 40 keV enerzjy fan it ionbeambombardemint, it substraatmateriaal en de film sels gjin ynfloed hawwe op de prestaasjes en it gebrûk fan 'e skea. By de tarieding fan tinne films foar optyske en elektroanyske apparaten moat legere enerzjy ionbeam-assistearre ôfsetting keazen wurde, wat net allinich de ljochtadsorpsje ferminderet en de foarming fan elektrysk aktivearre defekten foarkomt, mar ek de foarming fan 'e steady-state-struktuer fan it membraan fasilitearret. Undersyk hat oantoand dat films mei poerbêste eigenskippen krigen wurde kinne troch it kiezen fan ionenerzjy's leger as 500 eV.
– Dit artikel wurdt útjûn trochfabrikant fan fakuümcoatingmasinesGuangdong Zhenhua
Pleatsingstiid: 11 maart 2024