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La loi de croissance de la couche de film de revêtement par évaporation sous vide

Source de l'article : Aspirateur Zhenhua
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Publié:23-05-24

Pendant le revêtement par évaporation, la nucléation et la croissance de la couche de film sont à la base de diverses technologies de revêtement ionique

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1. Nucléation

Intechnologie de revêtement par évaporation sous vide, après que les particules de la couche de film se soient évaporées de la source d'évaporation sous forme d'atomes, elles volent directement vers la pièce sous vide poussé et forment la couche de film par nucléation et croissance à la surface de la pièce.Pendant l'évaporation sous vide, l'énergie des atomes de la couche de film s'échappant de la source d'évaporation est d'environ 0,2 eV.Lorsque la cohésion entre les particules de la couche de film est supérieure à la force de liaison entre les atomes de la couche de film et la pièce, formez un noyau d'île.Un atome d'une seule couche de film reste à la surface de la pièce pendant la durée du temps en effectuant un mouvement irrégulier, une diffusion, une migration ou une collision avec d'autres atomes pour former des amas atomiques Le nombre d'atomes dans l'amas atomique atteint une certaine valeur critique, une valeur stable noyau se forme, appelé noyau de forme homogène.

lisse, et contient de nombreux défauts et étapes, ce qui provoque la différence de force d'adsorption des différentes parties de la pièce aux atomes radioactifs.L'énergie d'adsorption de la surface du défaut est supérieure à celle de la surface normale, elle devient donc le centre actif, propice à la nucléation préférentielle, dite nucléation hétérogène.Lorsque la force de cohésion est égale à la force de liaison, ou que la force de liaison entre les atomes de la membrane et la pièce est supérieure à la force de cohésion entre les atomes de la membrane, la structure lamellaire est formée.Dans la technologie de placage ionique, un noyau d'îlot est formé dans la plupart des cas.

2.Croissance

Une fois le noyau du film formé, il continue de croître en piégeant les atomes incidents. Les îlots se développent et se combinent pour former des hémisphères plus grands, formant progressivement une couche d'îlot hémisphérique qui s'étend sur la surface de la pièce.

Lorsque l'énergie atomique de la couche de film est élevée, elle peut diffuser suffisamment sur la surface et un film continu lisse peut se former lorsque les amas atomiques entrants suivants sont petits. Si la diffusion des atomes sur la surface est faible et la taille de les amas déposés sont grands, ils existent sous forme de gros noyaux péninsulaires. Le sommet du noyau de l'île a un fort effet d'ombrage sur la partie concave, c'est-à-dire «l'effet d'ombre». La projection de la surface est plus propice à la capture des atomes déposés ultérieurement et une croissance préférentielle, résultant en un degré croissant de concavité sur la surface pour former des cristaux coniques ou colonnaires de taille suffisante.Des vides pénétrants se forment entre les cristaux coniques et la valeur de rugosité de surface augmente. Un tissu fin peut être obtenu sous vide poussé, avec la diminution du degré de vide, la microstructure de la membrane devient de plus en plus épaisse.


Heure de publication : 24 mai 2023