Cuando comienza la deposición de átomos de membrana, el bombardeo de iones tiene los siguientes efectos en la interfaz membrana/sustrato.
(1) Mezcla física. Debido a la inyección de iones de alta energía, la pulverización catódica de los átomos depositados, la inyección de retroceso de los átomos superficiales y el fenómeno de colisión en cascada, se produce una mezcla sin difusión en la zona cercana a la superficie de la interfaz membrana-base de los elementos del sustrato y de la membrana. Este efecto de mezcla favorece la formación de la "capa de pseudodifusión" de la interfaz membrana-base, es decir, la capa de transición entre la interfaz membrana-base, de hasta unas pocas micras de espesor. Incluso algunas micras de espesor, en la que pueden aparecer nuevas fases. Esto favorece la mejora de la resistencia de adhesión de la interfaz membrana-base.
(2) Difusión mejorada. La alta concentración de defectos en la región cercana a la superficie y la alta temperatura aumentan la velocidad de difusión. Dado que la superficie es un defecto puntual, los iones pequeños tienden a desviarla, y el bombardeo iónico aumenta aún más la deflexión superficial y la difusión mutua de los átomos depositados y del sustrato.
(3) Modo de nucleación mejorado. Las propiedades del átomo condensado en la superficie del sustrato están determinadas por su interacción superficial y sus propiedades de migración. Si no existe una interacción fuerte entre el átomo condensado y la superficie del sustrato, este se difundirá en la superficie hasta nuclearse en una posición de alta energía o colisionar con otros átomos en difusión. Este modo de nucleación se denomina nucleación no reactiva. Aunque el modo original pertenece al modo de nucleación no reactiva, el bombardeo iónico de la superficie del sustrato puede producir más defectos, aumentando la densidad de nucleación, lo que favorece la formación del modo de nucleación reactiva por difusión.
(4) Eliminación preferencial de átomos débilmente enlazados. La pulverización catódica de los átomos superficiales está determinada por el estado de enlace local, y el bombardeo iónico de la superficie tiene mayor probabilidad de pulverizar los átomos débilmente enlazados. Este efecto es más pronunciado en la formación de interfases reactivas a la difusión.
(5) Mejora de la cobertura superficial y del bypass del recubrimiento. Debido a la alta presión del gas de trabajo del recubrimiento iónico, los átomos evaporados o pulverizados se someten a colisión con átomos de gas para mejorar la dispersión, lo que resulta en buenas propiedades de recubrimiento envolvente.
–Este artículo es publicado porfabricante de máquinas de recubrimiento al vacíoGuangdong Zhenhua
Hora de publicación: 09-dic-2023