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Charakteristika und Erzeugungsmethoden des Lichtbogenelektronenflusses
1. Charakteristika des Elektronenflusses im Lichtbogenplasma: Die Dichte des Elektronenflusses, des Ionenflusses und der hochenergetischen neutralen Atome im durch Lichtbogenentladung erzeugten Lichtbogenplasma ist wesentlich höher als bei einer Glimmentladung. Es gibt mehr ionisierte Gas- und Metallionen, angeregte hochenergetische Atome und verschiedene aktive Gruppen…Mehr lesen -
Anwendungsgebiete der Plasma-Oberflächenmodifizierung
1) Die Plasmaoberflächenmodifizierung bezieht sich hauptsächlich auf bestimmte Modifikationen von Papier, organischen Folien, Textilien und Chemiefasern. Die Anwendung von Plasma zur Textilmodifizierung erfordert keine Aktivatoren, und der Behandlungsprozess beeinträchtigt die Eigenschaften der Fasern selbst nicht.Mehr lesen -
Anwendung der Ionenbeschichtung im Bereich optischer Dünnschichten
Die Anwendung optischer Dünnschichten ist sehr vielfältig und reicht von Gläsern, Kameraobjektiven, Handykameras, LCD-Bildschirmen für Mobiltelefone, Computer und Fernseher, LED-Beleuchtung, biometrischen Geräten bis hin zu energiesparenden Fenstern in Autos und Gebäuden sowie medizinischen Instrumenten, ...Mehr lesen -
Informationsdisplayfolien und Ionenbeschichtungstechnologie
1. Filmtypen in Informationsdisplays: Neben TFT-LCD- und OLED-Dünnschichten umfassen Informationsdisplays auch Leiterbahn- und transparente Pixelleiterbahnen im Displaypanel. Der Beschichtungsprozess ist der Kernprozess von TFT-LCD- und OLED-Displays. Mit dem kontinuierlichen Fortschritt…Mehr lesen -
Das Wachstumsgesetz der Vakuumverdampfungsbeschichtungsschicht
Bei der Aufdampfbeschichtung bilden die Keimbildung und das Wachstum der Schicht die Grundlage verschiedener Ionenbeschichtungstechnologien. 1. Keimbildung: Bei der Vakuumaufdampfbeschichtung werden die Schichtpartikel nach dem Verdampfen aus der Verdampfungsquelle in Form von Atomen direkt auf die Oberfläche aufgebracht.Mehr lesen -
Gemeinsame Merkmale der verbesserten Glimmentladungs-Ionenbeschichtungstechnologie
1. Die Werkstückvorspannung ist gering. Durch den Einsatz einer Vorrichtung zur Erhöhung der Ionisierungsrate wird die Entladungsstromdichte erhöht, die Vorspannung jedoch auf 0,5–1 kV reduziert. Das durch den übermäßigen Beschuss mit hochenergetischen Ionen verursachte Rückspritzen und die damit einhergehende Schädigung der Werkstückoberfläche...Mehr lesen -
Vorteile zylindrischer Ziele
1) Zylindrische Targets weisen eine höhere Ausnutzungsrate als planare Targets auf. Beim Beschichtungsprozess, egal ob es sich um ein rotierendes Magnet- oder ein rotierendes Rohr-Sputtertarget handelt, durchläuft die gesamte Oberfläche des Targetrohrs kontinuierlich die davor erzeugte Sputterzone.Mehr lesen -
Plasma-Direktpolymerisationsverfahren
Plasma-Direktpolymerisationsverfahren: Das Plasma-Polymerisationsverfahren ist sowohl für Polymerisationsanlagen mit interner als auch mit externer Elektrode relativ einfach. Die Parameterwahl ist jedoch bei der Plasma-Polymerisation von größerer Bedeutung, da die Parameter einen erheblichen Einfluss haben.Mehr lesen -
Heißdrahtbogen-verstärkte Plasma-CVD-Technologie
Die Heißdrahtbogen-PECVD-Technologie (Enhanced Plasma Chemical Vapor Deposition) nutzt eine Heißdrahtbogenkanone zur Erzeugung von Lichtbogenplasma. Diese Technologie ähnelt der Heißdrahtbogen-Ionenbeschichtung, der Unterschied besteht jedoch darin, dass der durch die Heißdrahtbogenkanone erzeugte Festkörperfilm...Mehr lesen -
Einführung in konventionelle Verfahren zur Abscheidung harter Beschichtungen
1. Thermische CVD-Technologie: Harte Beschichtungen sind meist metallkeramische Beschichtungen (TiN usw.), die durch die Reaktion von Metall in der Beschichtung und reaktive Vergasung entstehen. Anfänglich wurde die thermische CVD-Technologie eingesetzt, um die Aktivierungsenergie der Kombinationsreaktion durch thermische Energie bereitzustellen ...Mehr lesen -
Was ist eine Widerstandsverdampfungsquellenbeschichtung?
Die Widerstandsverdampfungsbeschichtung ist ein grundlegendes Vakuumverdampfungsverfahren. „Verdampfung“ bezeichnet ein Dünnschichtherstellungsverfahren, bei dem das Beschichtungsmaterial in der Vakuumkammer erhitzt und verdampft wird, sodass die Materialatome oder -moleküle verdampfen und aus der Kammer entweichen.Mehr lesen -
Einführung in die Kathodenbogen-Ionenplattierungstechnologie
Die Kathodenbogen-Ionenbeschichtungstechnologie nutzt die Kaltfeld-Lichtbogenentladungstechnologie. Die erste Anwendung dieser Technologie im Beschichtungsbereich erfolgte durch die Multi Arc Company in den USA. Die englische Bezeichnung für dieses Verfahren ist Arc Ionplating (AIP). Kathodenbogen-Ionenbeschichtung…Mehr lesen -
Die Anwendung optischer Dünnschichten in der beschichteten Glasindustrie
Es gibt viele Arten von Trägermaterialien für Gläser und Linsen, wie z. B. CR39, PC (Polycarbonat), 1,53 Trivex156, Kunststoffe mit mittlerem Brechungsindex, Glas usw. Bei Korrektionslinsen beträgt die Lichtdurchlässigkeit von Kunststoff- und Glaslinsen nur etwa 91 %, und ein Teil des Lichts wird von den beiden Schichten reflektiert.Mehr lesen -
Merkmale der Vakuumbeschichtungsmaschine
1. Der Vakuumbeschichtungsfilm ist sehr dünn (normalerweise 0,01–0,1 µm). 2. Vakuumbeschichtung eignet sich für viele Kunststoffe, z. B. ABS, PE, PP, PVC, PA, PC, PMMA usw. 3. Die Filmbildungstemperatur ist niedrig. In der Eisen- und Stahlindustrie liegt die Beschichtungstemperatur beim Feuerverzinken üblicherweise zwischen 400 °C und …Mehr lesen -
Einführung in die solare Photovoltaik-Dünnschichttechnologie
Nach der Entdeckung des photovoltaischen Effekts in Europa im Jahr 1863 stellten die Vereinigten Staaten 1883 die erste Photovoltaikzelle mit Selen her. Anfangs wurden Photovoltaikzellen hauptsächlich in der Luft- und Raumfahrt, im Militär und anderen Bereichen eingesetzt. In den letzten 20 Jahren ist der Preis für Photovoltaikzellen stark gesunken…Mehr lesen
