Добре дошли в Гуандун Женхуа Технологии Ко., ООД
Новини
-
Характеристики и методи за генериране на поток от дъгови електрони
1. Характеристики на електронния поток от дъгова светлина Плътността на електронния поток, йонния поток и високоенергийните неутрални атоми в дъговата плазма, генерирана от дъгов разряд, е много по-висока от тази на тлеещия разряд. Има повече йонизирани газови йони и метални йони, възбудени високоенергийни атоми и различни активни групи...Прочетете още -
Области на приложение на плазмената повърхностна модификация
1) Модификацията на повърхността с плазма се отнася главно до определени модификации на хартия, органични филми, текстил и химически влакна. Използването на плазма за модификация на текстил не изисква използването на активатори и процесът на обработка не уврежда характеристиките на самите влакна. ...Прочетете още -
Приложение на йонни покрития в областта на оптичните тънки филми
Приложението на оптичните тънки слоеве е много широко, вариращо от очила, обективи за камери, камери за мобилни телефони, LCD екрани за мобилни телефони, компютри и телевизори, LED осветление, биометрични устройства, до енергоспестяващи прозорци в автомобили и сгради, както и медицински инструменти, те...Прочетете още -
Информационни филми и технология за йонно покритие
1. Вид филм в информационния дисплей В допълнение към тънките филми на TFT-LCD и OLED, информационният дисплей включва и филми за окабеляване на електроди и прозрачни филми за пикселни електроди в панела на дисплея. Процесът на нанасяне на покритие е основният процес на TFT-LCD и OLED дисплеите. С непрекъснатия прог...Прочетете още -
Закон за растеж на слоя от филмово покритие, получен чрез вакуумно изпаряване
По време на изпарителното покритие, нуклеацията и растежът на филмовия слой са в основата на различни технологии за йонно покритие 1. Нуклеация При технологията за вакуумно изпарително покритие, след като частиците на филмовия слой се изпарят от източника на изпарение под формата на атоми, те летят директно към...Прочетете още -
Общи характеристики на подобрената технология за йонно покритие с тлеещ разряд
1. Напрежението на детайла е ниско. Поради добавянето на устройство за увеличаване на скоростта на йонизация, плътността на разрядния ток се увеличава и напрежението на отклонение се намалява до 0,5~1 kV. Обратното разпрашаване, причинено от прекомерно бомбардиране с високоенергийни йони, и ефектът на увреждане върху повърхността на детайла...Прочетете още -
Предимства на цилиндричните мишени
1) Цилиндричните мишени имат по-висок коефициент на използване от плоските мишени. В процеса на нанасяне на покритие, независимо дали става въпрос за цилиндрична разпрашителна мишена от ротационен магнитен тип или ротационна тръбна тип, всички части от повърхността на тръбната мишена непрекъснато преминават през зоната на разпрашаване, генерирана пред...Прочетете още -
Процес на директна плазмена полимеризация
Процес на директна плазмена полимеризация Процесът на плазмена полимеризация е сравнително прост както за оборудване за вътрешна електродна полимеризация, така и за оборудване за външна електродна полимеризация, но изборът на параметри е по-важен при плазмената полимеризация, защото параметрите имат по-голямо...Прочетете още -
Технология за плазмохимично отлагане от газова фаза с усилена дъга на гореща тел
Технологията за плазмохимично отлагане от газова фаза с гореща тел използва пистолет за дъга с гореща тел за излъчване на дъгова плазма, съкратено наричана PECVD технология с гореща тел. Тази технология е подобна на технологията за йонно покритие с пистолет за дъга с гореща тел, но разликата е, че твърдият филм, получен чрез гореща тел...Прочетете още -
Въведение в конвенционалните техники за нанасяне на твърди покрития
1. Термична CVD технология Твърдите покрития са предимно металокерамични покрития (TiN и др.), които се образуват чрез реакцията на метала в покритието и реактивната газификация. Първоначално термичната CVD технология се е използвала за осигуряване на активираща енергия на комбинирана реакция чрез топлинна енергия при ...Прочетете още -
Какво е покритие с източник на съпротивление при изпаряване?
Резистивното изпаряване е основен метод за нанасяне на покритие чрез вакуумно изпаряване. „Изпаряване“ се отнася до метод за приготвяне на тънък филм, при който материалът на покритието във вакуумната камера се нагрява и изпарява, така че атомите или молекулите на материала се изпаряват и излизат от...Прочетете още -
Въведение в технологията за катодно-дъгово йонно покритие
Технологията за катодно-дъгово йонно покритие използва технология за студено-дъгов разряд. Най-ранното приложение на технологията за студено-дъгов разряд в областта на покритията е от Multi Arc Company в Съединените щати. Английското наименование на тази процедура е arc ionplating (AIP). Катодно-дъгово йонно покритие...Прочетете още -
Приложение на оптичен тънък филм в индустрията за производство на стъкла с покритие
Има много видове субстрати за очила и лещи, като например CR39, PC (поликарбонат), 1.53 Trivex156, пластмаса със среден индекс на пречупване, стъкло и др. За коригиращите лещи, пропускливостта както на смолните, така и на стъклените лещи е само около 91% и част от светлината се отразява обратно от двете...Прочетете още -
Характеристики на машината за вакуумно покритие
1. Филмът от вакуумното покритие е много тънък (обикновено 0,01-0,1 μm)| 2. Вакуумното покритие може да се използва за много пластмаси, като ABS﹑PE﹑PP﹑PVC﹑PA﹑PC﹑PMMA и др. 3. Температурата на образуване на филма е ниска. В черната металургия температурата на покритието при горещо поцинковане обикновено е между 400 ℃ и...Прочетете още -
Въведение в технологията за тънкослойни соларни фотоволтаични системи
След откриването на фотоволтаичния ефект в Европа през 1863 г., Съединените щати произвеждат първата фотоволтаична клетка със (Se) през 1883 г. В ранните дни фотоволтаичните клетки са се използвали главно в аерокосмическата, военната и други области. През последните 20 години рязкото намаляване на цената на фотоволтаичните...Прочетете още
