Laipni lūdzam uzņēmumā Guangdong Zhenhua Technology Co., Ltd.
Ziņas
-
Loka elektronu plūsmas raksturojums un ģenerēšanas metodes
1. Loka gaismas elektronu plūsmas raksturojums Loka izlādes radītajā loka plazmā elektronu plūsmas, jonu plūsmas un augstas enerģijas neitrālo atomu blīvums ir daudz lielāks nekā kvēlspuldzes izlādes gadījumā. Ir vairāk jonizētu gāzes jonu un metāla jonu, ierosinātu augstas enerģijas atomu un dažādu aktīvo grupu...Lasīt vairāk -
Plazmas virsmas modifikācijas pielietojuma lauki
1) Plazmas virsmas modifikācija galvenokārt attiecas uz noteiktām papīra, organisko plēvju, tekstilizstrādājumu un ķīmisko šķiedru modifikācijām. Plazmas izmantošana tekstilizstrādājumu modifikācijā neprasa aktivatoru izmantošanu, un apstrādes process nebojā pašu šķiedru īpašības. ...Lasīt vairāk -
Jonu pārklājuma pielietojums optisko plāno plēvju jomā
Optisko plāno plēvju pielietojums ir ļoti plašs, sākot no brillēm, kameru objektīviem, mobilo tālruņu kamerām, LCD ekrāniem mobilajiem tālruņiem, datoriem un televizoriem, LED apgaismojuma, biometriskām ierīcēm līdz enerģiju taupošiem logiem automašīnās un ēkās, kā arī medicīnas instrumentiem, te...Lasīt vairāk -
Informācijas displeja plēves un jonu pārklājuma tehnoloģija
1. Informācijas displejā izmantotās plēves veids Papildus TFT-LCD un OLED plānajām plēvēm informācijas displejā ietilpst arī vadu elektrodu plēves un caurspīdīgas pikseļu elektrodu plēves displeja panelī. Pārklāšanas process ir TFT-LCD un OLED displeju pamatprocess. Ar nepārtrauktu programmu...Lasīt vairāk -
Vakuuma iztvaikošanas pārklājuma plēves slāņa augšanas likums
Iztvaikošanas pārklāšanas laikā plēves slāņa kodolu veidošanās un augšana ir dažādu jonu pārklāšanas tehnoloģiju pamatā. 1. Kodolizācija Vakuuma iztvaikošanas pārklāšanas tehnoloģijā pēc tam, kad plēves slāņa daļiņas ir iztvaikotas no iztvaikošanas avota atomu veidā, tās lido tieši uz w...Lasīt vairāk -
Uzlabotās kvēlojošās izlādes jonu pārklājuma tehnoloģijas kopīgās iezīmes
1. Sagataves nobīde ir zema. Pateicoties pievienotajai ierīcei jonizācijas ātruma palielināšanai, izlādes strāvas blīvums palielinās, un nobīdes spriegums samazinās līdz 0,5–1 kV. Pārmērīgas augstas enerģijas jonu bombardēšanas izraisītā atpakaļizsmidzināšana un bojājuma ietekme uz sagataves virsmu...Lasīt vairāk -
Cilindrisko mērķu priekšrocības
1) Cilindriskiem mērķiem ir augstāks izmantošanas līmenis nekā plakaniem mērķiem. Pārklāšanas procesā neatkarīgi no tā, vai tas ir rotējošs magnētiskais vai rotējošas caurules tipa cilindrisks izsmidzināšanas mērķis, visas mērķa caurules virsmas daļas nepārtraukti iziet cauri izsmidzināšanas zonai, kas rodas mērķa caurules priekšā...Lasīt vairāk -
Plazmas tiešās polimerizācijas process
Plazmas tiešās polimerizācijas process Plazmas polimerizācijas process ir relatīvi vienkāršs gan iekšējās elektrodu polimerizācijas iekārtām, gan ārējās elektrodu polimerizācijas iekārtām, taču parametru izvēle ir svarīgāka plazmas polimerizācijā, jo parametriem ir lielāka ietekme...Lasīt vairāk -
Karstās stieples loka pastiprināta plazmas ķīmiskās tvaiku uzklāšanas tehnoloģija
Karstās stieples loka pastiprinātas plazmas ķīmiskās tvaiku uzklāšanas tehnoloģija izmanto karstās stieples loka pistoli loka plazmas izstarošanai, saīsināti saukta par karstās stieples loka PECVD tehnoloģiju. Šī tehnoloģija ir līdzīga karstās stieples loka pistoles jonu pārklāšanas tehnoloģijai, taču atšķirība ir tāda, ka ar karsto stiepli iegūtā cietā plēve...Lasīt vairāk -
Ievads tradicionālajās cieto pārklājumu uzklāšanas tehnikās
1. Termiskā CVD tehnoloģija Cietie pārklājumi pārsvarā ir metālkeramikas pārklājumi (TiN u. c.), kas veidojas pārklājumā esošā metāla reakcijas un reaktīvās gazifikācijas rezultātā. Sākotnēji termiskā CVD tehnoloģija tika izmantota, lai kombinētās reakcijas aktivācijas enerģiju nodrošinātu ar termisko enerģiju pie ...Lasīt vairāk -
Kas ir pretestības iztvaikošanas avota pārklājums?
Pretestības iztvaikošanas avota pārklājums ir pamata vakuuma iztvaikošanas pārklāšanas metode. “Iztvaikošana” attiecas uz plānas plēves sagatavošanas metodi, kurā pārklājuma materiāls vakuuma kamerā tiek uzkarsēts un iztvaikots, lai materiāla atomi vai molekulas iztvaikotu un izkļūtu no...Lasīt vairāk -
Ievads katodiskās loka jonu pārklāšanas tehnoloģijā
Katodiskā loka jonu pārklāšanas tehnoloģija izmanto aukstā lauka loka izlādes tehnoloģiju. Agrākais aukstā lauka loka izlādes tehnoloģijas pielietojums pārklāšanas jomā bija Multi Arc Company Amerikas Savienotajās Valstīs. Šīs procedūras nosaukums angļu valodā ir arc ionplating (AIP). Katodiskā loka jonu pārklāšana...Lasīt vairāk -
Optiskās plānās plēves pielietojums pārklāto stiklu rūpniecībā
Ir daudz veidu briļļu un lēcu substrātu, piemēram, CR39, PC (polikarbonāts), 1,53 Trivex156, vidēja refrakcijas indeksa plastmasa, stikls utt. Korektīvajām lēcām gan sveķu, gan stikla lēcu caurlaidība ir tikai aptuveni 91%, un daļa gaismas tiek atstarota no abām lēcām...Lasīt vairāk -
Vakuuma pārklāšanas mašīnas īpašības
1. Vakuuma pārklājuma plēve ir ļoti plāna (parasti 0,01–0,1 µm)| 2. Vakuuma pārklājumu var izmantot daudzām plastmasām, piemēram, ABS﹑PE﹑PP﹑PVC﹑PA﹑PC﹑PMMA utt. 3. Plēves veidošanās temperatūra ir zema. Dzelzs un tērauda rūpniecībā karstās cinkošanas pārklājuma temperatūra parasti ir no 400 ℃ līdz...Lasīt vairāk -
Ievads saules fotoelektrisko plānplēves tehnoloģijā
Pēc fotoelektriskā efekta atklāšanas Eiropā 1863. gadā, Amerikas Savienotās Valstis 1883. gadā izgatavoja pirmo fotoelektrisko elementu ar (Se). Sākumā fotoelektriskās šūnas galvenokārt tika izmantotas aviācijas un kosmosa, militārajā un citās jomās. Pēdējo 20 gadu laikā fotoelektrisko elementu izmaksas ir strauji kritušās...Lasīt vairāk
