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Características y métodos de generación del flujo de electrones de arco
1. Características del flujo de electrones en la descarga de arco La densidad del flujo de electrones, el flujo de iones y los átomos neutros de alta energía en el plasma de arco generado por la descarga de arco es mucho mayor que la de la descarga luminiscente. Hay más iones de gas e iones metálicos ionizados, átomos excitados de alta energía y diversos grupos funcionales activos...Leer más -
Campos de aplicación de la modificación de superficies mediante plasma
1) La modificación superficial mediante plasma se refiere principalmente a ciertas modificaciones de papel, películas orgánicas, textiles y fibras químicas. El uso de plasma para la modificación de textiles no requiere el uso de activadores, y el proceso de tratamiento no daña las características de las fibras.Leer más -
Aplicación del recubrimiento iónico en el campo de las películas delgadas ópticas.
La aplicación de películas delgadas ópticas es muy extensa, abarcando desde gafas, lentes de cámaras, cámaras de teléfonos móviles, pantallas LCD para teléfonos móviles, ordenadores y televisores, iluminación LED, dispositivos biométricos, hasta ventanas de ahorro energético en automóviles y edificios, así como instrumentos médicos, te...Leer más -
Películas para visualización de información y tecnología de recubrimiento iónico
1. Tipo de película en la pantalla de información Además de las películas delgadas TFT-LCD y OLED, la pantalla de información también incluye películas de electrodos de cableado y películas de electrodos de píxeles transparentes en el panel de visualización. El proceso de recubrimiento es el proceso central de las pantallas TFT-LCD y OLED. Con el continuo progreso...Leer más -
Ley de crecimiento de la capa de película de recubrimiento por evaporación al vacío
Durante el recubrimiento por evaporación, la nucleación y el crecimiento de la capa de película son la base de diversas tecnologías de recubrimiento iónico. 1. Nucleación En la tecnología de recubrimiento por evaporación al vacío, después de que las partículas de la capa de película se evaporan de la fuente de evaporación en forma de átomos, vuelan directamente hacia el...Leer más -
Características comunes de la tecnología de recubrimiento iónico por descarga luminiscente mejorada
1. La polarización de la pieza de trabajo es baja. Debido a la adición de un dispositivo para aumentar la tasa de ionización, la densidad de corriente de descarga aumenta y la tensión de polarización se reduce a 0,5~1 kV. La retropulverización causada por el bombardeo excesivo de iones de alta energía y el efecto dañino en la superficie de la pieza de trabajo...Leer más -
Ventajas de los objetivos cilíndricos
1) Los blancos cilíndricos tienen una tasa de utilización mayor que los blancos planos. En el proceso de recubrimiento, ya sea un blanco de pulverización cilíndrico de tipo magnético rotatorio o de tipo tubo rotatorio, todas las partes de la superficie del tubo del blanco pasan continuamente a través del área de pulverización generada frente a...Leer más -
Proceso de polimerización directa por plasma
Proceso de polimerización directa por plasma El proceso de polimerización por plasma es relativamente simple tanto para equipos de polimerización con electrodo interno como para equipos de polimerización con electrodo externo, pero la selección de parámetros es más importante en la polimerización por plasma, porque los parámetros tienen una mayor...Leer más -
Tecnología de deposición química de vapor asistida por plasma con arco de alambre caliente
La tecnología de deposición química en fase vapor asistida por arco de alambre caliente utiliza una pistola de arco de alambre caliente para emitir plasma de arco, abreviada como tecnología PECVD de arco de alambre caliente. Esta tecnología es similar a la tecnología de recubrimiento iónico con pistola de arco de alambre caliente, pero la diferencia radica en que la película sólida obtenida mediante...Leer más -
Introducción a las técnicas convencionales para la deposición de recubrimientos duros
1. Tecnología CVD térmica. Los recubrimientos duros son principalmente recubrimientos metalocerámicos (TiN, etc.), que se forman mediante la reacción del metal en el recubrimiento y la gasificación reactiva. Inicialmente, la tecnología CVD térmica se utilizó para proporcionar la energía de activación de la reacción de combinación mediante energía térmica a una temperatura determinada.Leer más -
¿Qué es un recubrimiento de fuente de evaporación por resistencia?
El recubrimiento por evaporación resistiva es un método básico de recubrimiento por evaporación al vacío. La "evaporación" se refiere a un método de preparación de películas delgadas en el que el material de recubrimiento se calienta y evapora en la cámara de vacío, de modo que los átomos o moléculas del material se vaporizan y escapan de la cámara.Leer más -
Introducción a la tecnología de recubrimiento iónico por arco catódico
La tecnología de recubrimiento iónico por arco catódico utiliza la tecnología de descarga de arco de campo frío. La primera aplicación de la tecnología de descarga de arco de campo frío en el campo de los recubrimientos fue realizada por Multi Arc Company en Estados Unidos. El nombre en inglés de este procedimiento es arco iónico (AIP).Leer más -
Aplicación de películas delgadas ópticas en la industria de vidrios recubiertos
Existen muchos tipos de sustratos para gafas y lentes, como CR39, PC (policarbonato), 1.53 Trivex156, plástico de índice de refracción medio, vidrio, etc. En el caso de las lentes correctoras, la transmitancia tanto de las lentes de resina como de las de vidrio es de aproximadamente el 91%, y parte de la luz se refleja en ambos materiales.Leer más -
Características de la máquina de recubrimiento al vacío
1. La película de recubrimiento al vacío es muy delgada (normalmente de 0,01 a 0,1 µm). 2. El recubrimiento al vacío se puede utilizar para muchos plásticos, como ABS, PE, PP, PVC, PA, PC, PMMA, etc. 3. La temperatura de formación de la película es baja. En la industria siderúrgica, la temperatura de recubrimiento del galvanizado en caliente suele estar entre 400 ℃ y...Leer más -
Introducción a la tecnología de película delgada fotovoltaica solar
Tras el descubrimiento del efecto fotovoltaico en Europa en 1863, Estados Unidos fabricó la primera célula fotovoltaica con (Se) en 1883. En sus inicios, las células fotovoltaicas se utilizaban principalmente en la industria aeroespacial, militar y otros campos. En los últimos 20 años, la drástica disminución del coste de la energía fotovoltaica...Leer más
