ගුවැන්ඩොං ෂෙන්හුවා ටෙක්නොලොජි සමාගම, සීමාසහිත වෙත සාදරයෙන් පිළිගනිමු.
පිටු_බැනරය

පුවත්

  • චාප ඉලෙක්ට්‍රෝන ප්‍රවාහයේ ලක්ෂණ සහ උත්පාදන ක්‍රම

    චාප ඉලෙක්ට්‍රෝන ප්‍රවාහයේ ලක්ෂණ සහ උත්පාදන ක්‍රම

    1. චාප ආලෝක ඉලෙක්ට්‍රෝන ප්‍රවාහයේ ලක්ෂණ චාප විසර්ජනය මගින් ජනනය වන චාප ප්ලාස්මාවේ ඉලෙක්ට්‍රෝන ප්‍රවාහය, අයන ප්‍රවාහය සහ අධි ශක්ති උදාසීන පරමාණුවල ඝනත්වය දිලිසෙන විසර්ජනයට වඩා බෙහෙවින් වැඩි ය. අයනීකෘත, උද්දීපිත අධි ශක්ති පරමාණු වැඩි වායු අයන සහ ලෝහ අයන සහ විවිධ ක්‍රියාකාරී ග්‍රො...
    තවත් කියවන්න
  • ප්ලාස්මා මතුපිට වෙනස් කිරීමේ යෙදුම් ක්ෂේත්‍ර

    ප්ලාස්මා මතුපිට වෙනස් කිරීමේ යෙදුම් ක්ෂේත්‍ර

    1) ප්ලාස්මා මතුපිට වෙනස් කිරීම ප්‍රධාන වශයෙන් කඩදාසි, කාබනික පටල, රෙදිපිළි සහ රසායනික තන්තු වල ඇතැම් වෙනස් කිරීම් වලට යොමු වේ. රෙදිපිළි වෙනස් කිරීම සඳහා ප්ලාස්මා භාවිතය සක්‍රියකාරක භාවිතා කිරීම අවශ්‍ය නොවන අතර ප්‍රතිකාර ක්‍රියාවලිය තන්තු වල ලක්ෂණ වලටම හානි නොකරයි. ...
    තවත් කියවන්න
  • දෘශ්‍ය තුනී පටල ක්ෂේත්‍රයේ අයන ආලේපන යෙදීම

    දෘශ්‍ය තුනී පටල ක්ෂේත්‍රයේ අයන ආලේපන යෙදීම

    දෘශ්‍ය තුනී පටලවල යෙදීම ඉතා පුළුල් වන අතර, වීදුරු, කැමරා කාච, ජංගම දුරකථන කැමරා, ජංගම දුරකථන, පරිගණක සහ රූපවාහිනී සඳහා LCD තිර, LED ආලෝකකරණය, ජෛවමිතික උපාංග, මෝටර් රථ සහ ගොඩනැගිලිවල බලශක්ති ඉතිරිකිරීමේ කවුළු මෙන්ම වෛද්‍ය උපකරණ, තාක්ෂණය දක්වා විහිදේ.
    තවත් කියවන්න
  • තොරතුරු සංදර්ශක පටල සහ අයන ආලේපන තාක්ෂණය

    තොරතුරු සංදර්ශක පටල සහ අයන ආලේපන තාක්ෂණය

    1. තොරතුරු සංදර්ශකයේ ඇති පටල වර්ගය TFT-LCD සහ OLED තුනී පටල වලට අමතරව, තොරතුරු සංදර්ශකයට සංදර්ශක පැනලයේ රැහැන් ඉලෙක්ට්‍රෝඩ පටල සහ විනිවිද පෙනෙන පික්සල් ඉලෙක්ට්‍රෝඩ පටල ද ඇතුළත් වේ. ආලේපන ක්‍රියාවලිය TFT-LCD සහ OLED සංදර්ශකයේ මූලික ක්‍රියාවලියයි. අඛණ්ඩ වැඩසටහන සමඟ...
    තවත් කියවන්න
  • රික්ත වාෂ්පීකරණ ආලේපන පටල ස්ථරයේ වර්ධන නියමය

    රික්ත වාෂ්පීකරණ ආලේපන පටල ස්ථරයේ වර්ධන නියමය

    වාෂ්පීකරණ ආලේපනය අතරතුර, පටල ස්ථරයේ න්‍යෂ්ටිකකරණය සහ වර්ධනය විවිධ අයන ආලේපන තාක්ෂණයේ පදනම වේ 1. න්‍යෂ්ටිකකරණය රික්ත වාෂ්පීකරණ ආලේපන තාක්ෂණයේදී, පටල ස්ථර අංශු පරමාණු ආකාරයෙන් වාෂ්පීකරණ ප්‍රභවයෙන් වාෂ්පීකරණය වූ පසු, ඒවා කෙලින්ම w... වෙත පියාසර කරයි.
    තවත් කියවන්න
  • වැඩිදියුණු කළ දිලිසෙන විසර්ජන අයන ආලේපන තාක්ෂණයේ පොදු ලක්ෂණ

    වැඩිදියුණු කළ දිලිසෙන විසර්ජන අයන ආලේපන තාක්ෂණයේ පොදු ලක්ෂණ

    1. වැඩ ෙකොටස් නැඹුරුව අඩුයි අයනීකරණ අනුපාතය වැඩි කිරීම සඳහා උපකරණයක් එකතු කිරීම නිසා, විසර්ජන ධාරා ඝනත්වය වැඩි වන අතර, පක්ෂග්‍රාහී වෝල්ටීයතාවය 0.5~1kV දක්වා අඩු වේ. අධි ශක්ති අයන අධික ලෙස බෝම්බ හෙලීම සහ වැඩ ෙකොටස් සර්ෆ් වලට හානි කිරීමේ බලපෑම නිසා ඇතිවන පසුපස ස්පටරින්...
    තවත් කියවන්න
  • සිලින්ඩරාකාර ඉලක්ක වල වාසි

    සිලින්ඩරාකාර ඉලක්ක වල වාසි

    1) සිලින්ඩරාකාර ඉලක්ක තල ඉලක්ක වලට වඩා ඉහළ උපයෝගිතා අනුපාතයක් ඇත. ආලේපන ක්‍රියාවලියේදී, එය භ්‍රමණ චුම්භක වර්ගයක් හෝ භ්‍රමණ නල ආකාරයේ සිලින්ඩරාකාර ඉසින ඉලක්කයක් වේවා, ඉලක්කගත නලයේ මතුපිට සියලුම කොටස් අඛණ්ඩව ඉදිරිපසින් ජනනය වන ඉසින ප්‍රදේශය හරහා ගමන් කරයි...
    තවත් කියවන්න
  • ප්ලාස්මා සෘජු බහුඅවයවීකරණ ක්‍රියාවලිය

    ප්ලාස්මා සෘජු බහුඅවයවීකරණ ක්‍රියාවලිය

    ප්ලාස්මා සෘජු බහුඅවයවීකරණ ක්‍රියාවලිය අභ්‍යන්තර ඉලෙක්ට්‍රෝඩ බහුඅවයවීකරණ උපකරණ සහ බාහිර ඉලෙක්ට්‍රෝඩ බහුඅවයවීකරණ උපකරණ යන දෙකටම ප්ලාස්මා බහුඅවයවීකරණ ක්‍රියාවලිය සාපේක්ෂව සරල ය, නමුත් ප්ලාස්මා බහුඅවයවීකරණයේදී පරාමිති තේරීම වඩාත් වැදගත් වේ, මන්ද පරාමිතීන්ට විශාල...
    තවත් කියවන්න
  • උණුසුම් වයර් චාප වැඩිදියුණු කළ ප්ලාස්මා රසායනික වාෂ්ප තැන්පත් කිරීමේ තාක්ෂණය

    උණුසුම් වයර් චාප වැඩිදියුණු කළ ප්ලාස්මා රසායනික වාෂ්ප තැන්පත් කිරීමේ තාක්ෂණය

    උණුසුම් වයර් චාප වැඩිදියුණු කළ ප්ලාස්මා රසායනික වාෂ්ප තැන්පත් කිරීමේ තාක්ෂණය, උණුසුම් වයර් චාප තුවක්කුව භාවිතා කර චාප ප්ලාස්මා විමෝචනය කරයි, එය කෙටියෙන් උණුසුම් වයර් චාප PECVD තාක්ෂණය ලෙස හැඳින්වේ. මෙම තාක්ෂණය උණුසුම් වයර් චාප තුවක්කු අයන ආලේපන තාක්ෂණයට සමාන වේ, නමුත් වෙනස වන්නේ ho... මගින් ලබාගත් ඝන පටලයයි.
    තවත් කියවන්න
  • දෘඩ ආලේපන තැන්පත් කිරීම සඳහා සාම්ප්‍රදායික ශිල්පීය ක්‍රම හඳුන්වාදීම

    දෘඩ ආලේපන තැන්පත් කිරීම සඳහා සාම්ප්‍රදායික ශිල්පීය ක්‍රම හඳුන්වාදීම

    1. තාප CVD තාක්ෂණය දෘඩ ආලේපන බොහෝ දුරට ලෝහ සෙරමික් ආලේපන (TiN, ආදිය) වන අතර ඒවා ආලේපනයේ ලෝහ ප්‍රතික්‍රියාව සහ ප්‍රතික්‍රියාශීලී වායුකරණය මගින් සෑදී ඇත. මුලදී, තාප CVD තාක්ෂණය භාවිතා කරන ලද්දේ ... තාප ශක්තිය මගින් සංයෝජන ප්‍රතික්‍රියාවේ සක්‍රියකරණ ශක්තිය සැපයීම සඳහා ය.
    තවත් කියවන්න
  • ප්‍රතිරෝධක වාෂ්පීකරණ ප්‍රභව ආලේපනය යනු කුමක්ද?

    ප්‍රතිරෝධක වාෂ්පීකරණ ප්‍රභව ආලේපනය යනු කුමක්ද?

    ප්‍රතිරෝධක වාෂ්පීකරණ ප්‍රභව ආලේපනය මූලික රික්ත වාෂ්පීකරණ ආලේපන ක්‍රමයකි. "වාෂ්පීකරණය" යනු රික්ත කුටියේ ඇති ආලේපන ද්‍රව්‍ය රත් කර වාෂ්පීකරණය කරන තුනී පටල සකස් කිරීමේ ක්‍රමයකි, එවිට ද්‍රව්‍ය පරමාණු හෝ අණු වාෂ්ප වී...
    තවත් කියවන්න
  • කැතෝඩික් චාප අයන ආලේපන තාක්ෂණය පිළිබඳ හැඳින්වීම

    කැතෝඩික් චාප අයන ආලේපන තාක්ෂණය පිළිබඳ හැඳින්වීම

    කැතෝඩ චාප අයන ආලේපන තාක්ෂණය සීතල ක්ෂේත්‍ර චාප විසර්ජන තාක්ෂණය භාවිතා කරයි. ආලේපන ක්ෂේත්‍රයේ සීතල ක්ෂේත්‍ර චාප විසර්ජන තාක්ෂණයේ මුල්ම යෙදුම එක්සත් ජනපදයේ බහු ආර්ක් සමාගම විසින් සිදු කරන ලදී. මෙම ක්‍රියා පටිපාටියේ ඉංග්‍රීසි නම චාප අයන ආලේපනය (AIP) වේ. කැතෝඩ චාප අයන ආලේපනය...
    තවත් කියවන්න
  • ආලේපිත වීදුරු කර්මාන්තයේ දෘශ්‍ය තුනී පටල යෙදීම

    ආලේපිත වීදුරු කර්මාන්තයේ දෘශ්‍ය තුනී පටල යෙදීම

    CR39, PC (පොලිකාබනේට්), 1.53 ට්‍රයිවෙක්ස්156, මධ්‍යම වර්තන දර්ශක ප්ලාස්ටික්, වීදුරු ආදී වීදුරු සහ කාච සඳහා උපස්ථර වර්ග බොහොමයක් තිබේ. නිවැරදි කිරීමේ කාච සඳහා, දුම්මල සහ වීදුරු කාච දෙකෙහිම සම්ප්‍රේෂණය 91% ක් පමණ වන අතර, ආලෝකයෙන් කොටසක් s දෙකෙන් පරාවර්තනය වේ...
    තවත් කියවන්න
  • රික්ත ආලේපන යන්ත්‍රයේ විශේෂාංග

    රික්ත ආලේපන යන්ත්‍රයේ විශේෂාංග

    1. රික්ත ආලේපන පටලය ඉතා තුනී වේ (සාමාන්‍යයෙන් 0.01-0.1um)| 2. රික්ත ආලේපනය ABS﹑PE﹑PP﹑PVC﹑PA﹑PC﹑PMMA වැනි බොහෝ ප්ලාස්ටික් සඳහා භාවිතා කළ හැක. 3. පටල සෑදීමේ උෂ්ණත්වය අඩුය. යකඩ සහ වානේ කර්මාන්තයේ, උණුසුම් ගැල්වනයිස් කිරීමේ ආලේපන උෂ්ණත්වය සාමාන්‍යයෙන් 400 ℃ a අතර වේ...
    තවත් කියවන්න
  • සූර්ය ප්‍රකාශ වෝල්ටීයතා තුනී පටල තාක්ෂණය පිළිබඳ හැඳින්වීම

    සූර්ය ප්‍රකාශ වෝල්ටීයතා තුනී පටල තාක්ෂණය පිළිබඳ හැඳින්වීම

    1863 දී යුරෝපයේ ප්‍රකාශ වෝල්ටීයතා ආචරණය සොයා ගැනීමෙන් පසුව, එක්සත් ජනපදය 1883 දී (Se) සහිත පළමු ප්‍රකාශ වෝල්ටීයතා සෛලය සාදන ලදී. මුල් දිනවල, ප්‍රකාශ වෝල්ටීයතා සෛල ප්‍රධාන වශයෙන් අභ්‍යවකාශ, හමුදා සහ අනෙකුත් ක්ෂේත්‍රවල භාවිතා කරන ලදී. පසුගිය වසර 20 තුළ, ප්‍රකාශ වෝල්ටීයතා පිරිවැයේ තියුණු පහත වැටීමක්...
    තවත් කියවන්න