Guangdong Zhenhua Technology Co., Ltd မှ ကြိုဆိုပါတယ်။
သတင်းများ
-
Arc Electron Flow ၏ ဝိသေသလက္ခဏာများနှင့် ထုတ်လုပ်နည်းလမ်းများ
၁။ အာ့ခ်အလင်း အီလက်ထရွန်စီးဆင်းမှု၏ ဝိသေသလက္ခဏာများ အာ့ခ်ထုတ်လွှတ်မှုမှ ထုတ်လုပ်သော အာ့ခ်ပလာစမာတွင် အီလက်ထရွန်စီးဆင်းမှု၊ အိုင်းယွန်းစီးဆင်းမှုနှင့် မြင့်မားသောစွမ်းအင်ကြားနေအက်တမ်များ၏ သိပ်သည်းဆသည် တောက်ပသောထုတ်လွှတ်မှုထက် များစွာပိုမိုမြင့်မားသည်။ ဓာတ်ငွေ့အိုင်းယွန်းများနှင့် သတ္တုအိုင်းယွန်းများ ပိုမိုများပြားပြီး အိုင်းယွန်းဓာတ်ပါဝင်သော၊ လှုံ့ဆော်ထားသော မြင့်မားသောစွမ်းအင်အက်တမ်များနှင့် အမျိုးမျိုးသော တက်ကြွသောဒြပ်ပေါင်းများ ရှိပါသည်။ပိုပြီးဖတ်ပါ -
ပလာစမာမျက်နှာပြင်ပြုပြင်မွမ်းမံခြင်း၏အသုံးချနယ်ပယ်များ
၁) ပလာစမာမျက်နှာပြင်ပြုပြင်မွမ်းမံခြင်းဆိုသည်မှာ အဓိကအားဖြင့် စက္ကူ၊ အော်ဂဲနစ်ဖလင်များ၊ အထည်အလိပ်များနှင့် ဓာတုအမျှင်များကို ပြုပြင်မွမ်းမံခြင်းအချို့ကို ရည်ညွှန်းသည်။ အထည်အလိပ်ပြုပြင်မွမ်းမံခြင်းအတွက် ပလာစမာကိုအသုံးပြုခြင်းသည် activator များကိုအသုံးပြုရန်မလိုအပ်ဘဲ ကုသမှုလုပ်ငန်းစဉ်သည် အမျှင်များ၏ဝိသေသလက္ခဏာများကို မထိခိုက်စေပါ။ ...ပိုပြီးဖတ်ပါ -
အလင်းအလွှာပါးလွှာသော ဖလင်များ နယ်ပယ်တွင် အိုင်းယွန်းအပေါ်ယံလွှာ အသုံးပြုခြင်း
မျက်မှန်၊ ကင်မရာမှန်ဘီလူး၊ မိုဘိုင်းဖုန်းကင်မရာ၊ မိုဘိုင်းဖုန်းများအတွက် LCD မျက်နှာပြင်များ၊ ကွန်ပျူတာနှင့် ရုပ်မြင်သံကြားများ၊ LED မီးများ၊ ဇီဝမက်ထရစ်ကိရိယာများမှသည် မော်တော်ကားများနှင့် အဆောက်အအုံများရှိ စွမ်းအင်ချွေတာသည့် ပြတင်းပေါက်များအထိ၊ ဆေးဘက်ဆိုင်ရာကိရိယာများအထိ၊ အလင်းအမှောင်ပါးလွှာသောဖလင်များ၏ အသုံးချမှုသည် အလွန်ကျယ်ပြန့်ပါသည်။ပိုပြီးဖတ်ပါ -
သတင်းအချက်အလက်ပြသမှုဖလင်များနှင့် အိုင်းယွန်းအပေါ်ယံလွှာနည်းပညာ
၁။ သတင်းအချက်အလက်ပြသမှုတွင် ဖလင်အမျိုးအစား TFT-LCD နှင့် OLED ပါးလွှာသောဖလင်များအပြင်၊ သတင်းအချက်အလက်ပြသမှုတွင် မျက်နှာပြင်ပြားရှိ ဝါယာကြိုးလျှပ်စစ်ဓာတ်အားပေးစနစ်ဖလင်များနှင့် ပွင့်လင်းမြင်သာသော pixel လျှပ်စစ်ဓာတ်အားပေးစနစ်ဖလင်များလည်း ပါဝင်သည်။ အပေါ်ယံလွှာလုပ်ငန်းစဉ်သည် TFT-LCD နှင့် OLED မျက်နှာပြင်၏ အဓိကလုပ်ငန်းစဉ်ဖြစ်သည်။ စဉ်ဆက်မပြတ်ပရိုဂရမ်ဖြင့်...ပိုပြီးဖတ်ပါ -
လေဟာနယ်အငွေ့ပျံခြင်းအပေါ်ယံလွှာအလွှာ၏ကြီးထွားမှုဥပဒေ
အငွေ့ပျံခြင်းအပေါ်ယံလွှာပြုလုပ်စဉ်အတွင်း ဖလင်အလွှာ၏ နျူကလီးရှင်းဖွဲ့စည်းခြင်းနှင့် ကြီးထွားခြင်းသည် အိုင်းယွန်းအပေါ်ယံလွှာနည်းပညာအမျိုးမျိုး၏ အခြေခံဖြစ်သည်။ ၁။ နျူကလီးရှင်း ဖုန်စုပ်အငွေ့ပျံခြင်းအပေါ်ယံလွှာနည်းပညာတွင် ဖလင်အလွှာအမှုန်များသည် အငွေ့ပျံရင်းမြစ်မှ အက်တမ်ပုံစံဖြင့် အငွေ့ပျံသွားပြီးနောက် ၎င်းတို့သည် w သို့ တိုက်ရိုက်ပျံသန်းသွားသည်...ပိုပြီးဖတ်ပါ -
မြှင့်တင်ထားသော glow discharge ion coating နည်းပညာ၏ အဖြစ်များသော အင်္ဂါရပ်များ
၁။ workpiece bias သည် ionization rate တိုးမြှင့်ရန် device တစ်ခုထည့်သွင်းခြင်းကြောင့် discharge current density တိုးလာပြီး bias voltage ကို 0.5~1kV အထိလျှော့ချသည်။ မြင့်မားသောစွမ်းအင်အိုင်းယွန်းများကို အလွန်အကျွံဗုံးကြဲခြင်းကြောင့်ဖြစ်ပေါ်လာသော backsputtering နှင့် workpiece surf ကိုပျက်စီးစေသောအကျိုးသက်ရောက်မှု...ပိုပြီးဖတ်ပါ -
ဆလင်ဒါပုံပစ်မှတ်များ၏ အားသာချက်များ
၁) ဆလင်ဒါပစ်မှတ်များသည် ပြားချပ်ပစ်မှတ်များထက် အသုံးပြုမှုနှုန်း ပိုမိုမြင့်မားသည်။ အပေါ်ယံလွှာလုပ်ငန်းစဉ်တွင်၊ ၎င်းသည် လည်ပတ်သံလိုက်အမျိုးအစား သို့မဟုတ် လည်ပတ်ပြွန်အမျိုးအစား ဆလင်ဒါပုံသဏ္ဍာန် sputtering ပစ်မှတ်ဖြစ်စေ၊ ပစ်မှတ်ပြွန်၏ မျက်နှာပြင်၏ အစိတ်အပိုင်းအားလုံးသည် ရှေ့တွင် ထုတ်ပေးသော sputtering ဧရိယာကို အဆက်မပြတ်ဖြတ်သန်းသွားသည်...ပိုပြီးဖတ်ပါ -
ပလာစမာ တိုက်ရိုက် ပိုလီမာဓာတ်ပြုမှု လုပ်ငန်းစဉ်
ပလာစမာတိုက်ရိုက်ပိုလီမာဓာတ်ပြုမှုလုပ်ငန်းစဉ် ပလာစမာပိုလီမာဓာတ်ပြုမှုလုပ်ငန်းစဉ်သည် အတွင်းပိုင်းလျှပ်စစ်ဓာတ်အားပိုလီမာဓာတ်ပြုမှုပစ္စည်းကိရိယာများနှင့် ပြင်ပလျှပ်စစ်ဓာတ်အားပိုလီမာဓာတ်ပြုမှုပစ္စည်းကိရိယာများ နှစ်မျိုးလုံးအတွက် အတော်လေးရိုးရှင်းသော်လည်း၊ ပလာစမာပိုလီမာဓာတ်ပြုမှုတွင် ကန့်သတ်ချက်ရွေးချယ်မှုသည် ပိုအရေးကြီးပါသည်၊ အဘယ်ကြောင့်ဆိုသော် ကန့်သတ်ချက်များသည် ပိုမိုကောင်းမွန်သောကြောင့်ဖြစ်သည်။ပိုပြီးဖတ်ပါ -
Hot wire arc မြှင့်တင်ထားသော plasma ဓာတုဗေဒအငွေ့စုပုံခြင်းနည်းပညာ
hot wire arc enhanced plasma chemical vapor deposition နည်းပညာသည် hot wire arc gun ကို အသုံးပြု၍ hot wire arc PECVD နည်းပညာဟု အတိုကောက်ခေါ်သော arc plasma ကို ထုတ်လွှတ်သည်။ ဤနည်းပညာသည် hot wire arc gun ion coating နည်းပညာနှင့် ဆင်တူသော်လည်း ကွာခြားချက်မှာ ho မှရရှိသော solid film သည်...ပိုပြီးဖတ်ပါ -
မာကျောသော အပေါ်ယံလွှာများ ಲೇಪခြင်းအတွက် ရိုးရာနည်းစနစ်များ မိတ်ဆက်ခြင်း
၁။ Thermal CVD နည်းပညာ မာကျောသော အပေါ်ယံလွှာများသည် အများအားဖြင့် သတ္တုကြွေ အပေါ်ယံလွှာများ (TiN စသည်) ဖြစ်ပြီး၊ ၎င်းတို့သည် အပေါ်ယံလွှာတွင် သတ္တုဓာတ်ပြုမှုနှင့် ဓာတ်ပြုဓာတ်ငွေ့ဖွဲ့စည်းမှုတို့မှ ဖွဲ့စည်းထားသည်။ အစပိုင်းတွင်၊ Thermal CVD နည်းပညာကို အပူစွမ်းအင်ဖြင့် ပေါင်းစပ်ဓာတ်ပြုမှု၏ အသက်ဝင်စွမ်းအင်ကို ပေးစွမ်းရန် အသုံးပြုခဲ့သည်။ပိုပြီးဖတ်ပါ -
ရေငွေ့ပျံခြင်းကို ခံနိုင်ရည်ရှိသော အပေါ်ယံလွှာဆိုတာ ဘာလဲ။
ခုခံမှုအငွေ့ပျံအရင်းအမြစ်အပေါ်ယံလွှာသည် အခြေခံလေဟာနယ်အငွေ့ပျံအပေါ်ယံလွှာနည်းလမ်းတစ်ခုဖြစ်သည်။ “အငွေ့ပျံခြင်း” ဆိုသည်မှာ လေဟာနယ်အခန်းထဲရှိ အပေါ်ယံလွှာပစ္စည်းကို အပူပေးပြီး အငွေ့ပျံစေသောကြောင့် ပစ္စည်းအက်တမ်များ သို့မဟုတ် မော်လီကျူးများသည် အငွေ့ပျံပြီး လွတ်မြောက်သွားသည့် အလွှာပါးပြင်ဆင်မှုနည်းလမ်းကို ရည်ညွှန်းသည်။ပိုပြီးဖတ်ပါ -
ကက်သိုဒစ် အာ့ခ် အိုင်းယွန်း ပြားခြင်း နည်းပညာ မိတ်ဆက်
ကက်သိုဒစ် အာ့ခ် အိုင်းယွန်း အပေါ်ယံလွှာ နည်းပညာသည် အအေးဓာတ်စက်ကွင်း အာ့ခ် စွန့်ထုတ်ခြင်း နည်းပညာကို အသုံးပြုသည်။ အပေါ်ယံလွှာ နယ်ပယ်တွင် အအေးဓာတ်စက်ကွင်း အာ့ခ် စွန့်ထုတ်ခြင်း နည်းပညာကို အစောဆုံး အသုံးပြုခဲ့သည်မှာ အမေရိကန်ပြည်ထောင်စုရှိ Multi Arc ကုမ္ပဏီဖြစ်သည်။ ဤလုပ်ငန်းစဉ်၏ အင်္ဂလိပ်အမည်မှာ arc ionplating (AIP) ဖြစ်သည်။ ကက်သိုဒစ် အာ့ခ် အာ့ခ် အာ့ခ် အိုင်းယွန်း အပေါ်ယံလွှာ...ပိုပြီးဖတ်ပါ -
အလွှာပါးလွှာသော မျက်မှန်လုပ်ငန်းတွင် Optical Thin Film အသုံးချမှု
CR39၊ PC (polycarbonate)၊ 1.53 Trivex156၊ အလတ်စား refractive index ပလတ်စတစ်၊ ဖန် စသည်တို့ကဲ့သို့သော မျက်မှန်နှင့် မှန်ဘီလူးများအတွက် အောက်ခံအမျိုးအစားများစွာရှိပါသည်။ ပြင်ဆင်သည့်မှန်ဘီလူးများအတွက်၊ resin နှင့် ဖန်မှန်ဘီလူးနှစ်မျိုးလုံး၏ ဖြတ်သန်းနိုင်မှုမှာ 91% ခန့်သာရှိပြီး အလင်းအချို့ကို အလင်းတန်းနှစ်ခုမှ ပြန်လည်ရောင်ပြန်ဟပ်ပါသည်...ပိုပြီးဖတ်ပါ -
ဖုန်စုပ်အလွှာစက်၏အင်္ဂါရပ်များ
၁။ ဖုန်စုပ်အပေါ်ယံလွှာသည် အလွန်ပါးလွှာသည် (ပုံမှန်အားဖြင့် 0.01-0.1um) | ၂။ ဖုန်စုပ်အပေါ်ယံလွှာကို ABS﹑PE﹑PP﹑PVC﹑PA﹑PC﹑PMMA ကဲ့သို့သော ပလတ်စတစ်များစွာအတွက် အသုံးပြုနိုင်သည်။ ၃။ ဖလင်ဖွဲ့စည်းခြင်းအပူချိန်သည် နိမ့်သည်။ သံနှင့်သံမဏိလုပ်ငန်းတွင် အပူပေးသွပ်ရည်စိမ်ခြင်း၏ အပေါ်ယံလွှာအပူချိန်သည် ယေဘုယျအားဖြင့် ၄၀၀ ℃ အကြားတွင်ရှိသည်။ပိုပြီးဖတ်ပါ -
ဆိုလာ photovoltaic thin film နည်းပညာမိတ်ဆက်
၁၈၆၃ ခုနှစ်တွင် ဥရောပ၌ photovoltaic effect ကို ရှာဖွေတွေ့ရှိပြီးနောက် အမေရိကန်ပြည်ထောင်စုသည် ၁၈၈၃ ခုနှစ်တွင် (Se) ဖြင့် ပထမဆုံး photovoltaic cell ကို ပြုလုပ်ခဲ့သည်။ အစောပိုင်းကာလများတွင် photovoltaic cell များကို အဓိကအားဖြင့် အာကာသ၊ စစ်ရေးနှင့် အခြားနယ်ပယ်များတွင် အသုံးပြုခဲ့ကြသည်။ လွန်ခဲ့သော နှစ် ၂၀ အတွင်း photovoltaic ၏ ကုန်ကျစရိတ် သိသိသာသာ ကျဆင်းသွားသည်...ပိုပြီးဖတ်ပါ
