Chào mừng đến với Công ty TNHH Công nghệ Zhenhua Quảng Đông.
biểu ngữ trang

Tin tức

  • Đặc điểm và phương pháp tạo dòng electron hồ quang

    Đặc điểm và phương pháp tạo dòng electron hồ quang

    1. Đặc điểm của dòng electron ánh sáng hồ quang: Mật độ dòng electron, dòng ion và các nguyên tử trung tính năng lượng cao trong plasma hồ quang được tạo ra bởi phóng điện hồ quang cao hơn nhiều so với phóng điện phát sáng. Có nhiều ion khí và ion kim loại bị ion hóa, các nguyên tử năng lượng cao bị kích thích và nhiều nhóm hoạt động khác nhau...
    Đọc thêm
  • Các lĩnh vực ứng dụng của phương pháp biến đổi bề mặt bằng plasma

    Các lĩnh vực ứng dụng của phương pháp biến đổi bề mặt bằng plasma

    1) Việc xử lý bề mặt bằng plasma chủ yếu đề cập đến một số phương pháp xử lý khác nhau đối với giấy, màng hữu cơ, vải dệt và sợi hóa học. Việc sử dụng plasma để xử lý vải dệt không cần sử dụng chất hoạt hóa, và quá trình xử lý không làm hỏng các đặc tính của chính sợi vải. ...
    Đọc thêm
  • Ứng dụng công nghệ phủ ion trong lĩnh vực màng mỏng quang học.

    Ứng dụng công nghệ phủ ion trong lĩnh vực màng mỏng quang học.

    Ứng dụng của màng mỏng quang học rất rộng rãi, từ kính mắt, ống kính máy ảnh, camera điện thoại di động, màn hình LCD cho điện thoại di động, máy tính và tivi, đèn LED, thiết bị sinh trắc học, đến cửa sổ tiết kiệm năng lượng trong ô tô và các tòa nhà, cũng như các thiết bị y tế, v.v...
    Đọc thêm
  • màng hiển thị thông tin và công nghệ phủ ion

    màng hiển thị thông tin và công nghệ phủ ion

    1. Loại màng phim trong màn hình hiển thị thông tin: Ngoài màng phim mỏng TFT-LCD và OLED, màn hình hiển thị thông tin còn bao gồm màng phim điện cực dây dẫn và màng phim điện cực điểm ảnh trong suốt trong tấm màn hình. Quá trình phủ màng là quá trình cốt lõi của màn hình TFT-LCD và OLED. Với sự tiến bộ liên tục...
    Đọc thêm
  • Quy luật tăng trưởng của lớp màng phủ bay hơi chân không

    Quy luật tăng trưởng của lớp màng phủ bay hơi chân không

    Trong quá trình phủ màng bằng phương pháp bay hơi, sự hình thành mầm và phát triển của lớp màng là nền tảng của nhiều công nghệ phủ ion khác nhau. 1. Sự hình thành mầm: Trong công nghệ phủ màng bằng phương pháp bay hơi chân không, sau khi các hạt màng bay hơi từ nguồn bay hơi dưới dạng nguyên tử, chúng bay thẳng đến…
    Đọc thêm
  • Các đặc điểm chung của công nghệ phủ ion phóng điện phát sáng cải tiến

    Các đặc điểm chung của công nghệ phủ ion phóng điện phát sáng cải tiến

    1. Điện áp phân cực phôi thấp: Do bổ sung thiết bị tăng tốc độ ion hóa, mật độ dòng phóng điện tăng lên, và điện áp phân cực giảm xuống còn 0,5~1kV. Hiện tượng bắn phá ngược gây ra bởi sự bắn phá quá mức của các ion năng lượng cao và tác động gây hư hại lên bề mặt phôi...
    Đọc thêm
  • Ưu điểm của mục tiêu hình trụ

    Ưu điểm của mục tiêu hình trụ

    1) Mục tiêu hình trụ có tỷ lệ sử dụng cao hơn mục tiêu hình phẳng. Trong quá trình phủ, dù là mục tiêu phún xạ hình trụ loại từ tính quay hay loại ống quay, tất cả các phần trên bề mặt ống mục tiêu đều liên tục đi qua vùng phún xạ được tạo ra phía trước...
    Đọc thêm
  • Quá trình trùng hợp trực tiếp bằng plasma

    Quá trình trùng hợp trực tiếp bằng plasma

    Quá trình trùng hợp trực tiếp bằng plasma. Quá trình trùng hợp bằng plasma tương đối đơn giản đối với cả thiết bị trùng hợp điện cực trong và thiết bị trùng hợp điện cực ngoài, nhưng việc lựa chọn thông số quan trọng hơn trong quá trình trùng hợp bằng plasma, bởi vì các thông số có ảnh hưởng lớn...
    Đọc thêm
  • Công nghệ lắng đọng hơi hóa học plasma tăng cường hồ quang dây nóng

    Công nghệ lắng đọng hơi hóa học plasma tăng cường hồ quang dây nóng

    Công nghệ lắng đọng hơi hóa học plasma tăng cường hồ quang dây nóng sử dụng súng bắn hồ quang dây nóng để phát ra plasma hồ quang, viết tắt là công nghệ PECVD hồ quang dây nóng. Công nghệ này tương tự như công nghệ phủ ion bằng súng bắn hồ quang dây nóng, nhưng điểm khác biệt là màng rắn thu được bằng cách...
    Đọc thêm
  • Giới thiệu về các kỹ thuật truyền thống để phủ lớp màng cứng

    Giới thiệu về các kỹ thuật truyền thống để phủ lớp màng cứng

    1. Công nghệ CVD nhiệt: Lớp phủ cứng chủ yếu là lớp phủ gốm kim loại (TiN, v.v.), được hình thành bởi phản ứng giữa kim loại trong lớp phủ và quá trình khí hóa phản ứng. Ban đầu, công nghệ CVD nhiệt được sử dụng để cung cấp năng lượng hoạt hóa cho phản ứng kết hợp bằng năng lượng nhiệt tại...
    Đọc thêm
  • Lớp phủ nguồn bay hơi điện trở là gì?

    Lớp phủ nguồn bay hơi điện trở là gì?

    Phương pháp phủ màng bằng nguồn bay hơi điện trở là một phương pháp phủ màng bay hơi chân không cơ bản. "Bay hơi" ở đây đề cập đến phương pháp chế tạo màng mỏng, trong đó vật liệu phủ được nung nóng và bay hơi trong buồng chân không, khiến các nguyên tử hoặc phân tử vật liệu bay hơi và thoát ra khỏi buồng...
    Đọc thêm
  • Giới thiệu về công nghệ mạ ion hồ quang catốt

    Giới thiệu về công nghệ mạ ion hồ quang catốt

    Công nghệ mạ ion hồ quang catốt sử dụng công nghệ phóng điện hồ quang trường lạnh. Ứng dụng sớm nhất của công nghệ phóng điện hồ quang trường lạnh trong lĩnh vực mạ là của Công ty Multi Arc tại Hoa Kỳ. Tên tiếng Anh của quy trình này là arc ionplating (AIP). Mạ ion hồ quang catốt...
    Đọc thêm
  • Ứng dụng màng mỏng quang học trong ngành công nghiệp kính phủ

    Ứng dụng màng mỏng quang học trong ngành công nghiệp kính phủ

    Có nhiều loại chất nền dùng cho kính và thấu kính, chẳng hạn như CR39, PC (polycarbonate), 1.53 Trivex156, nhựa có chiết suất trung bình, thủy tinh, v.v. Đối với thấu kính điều chỉnh thị lực, độ truyền dẫn của cả thấu kính nhựa và thủy tinh chỉ khoảng 91%, và một phần ánh sáng bị phản xạ ngược lại bởi cả hai lớp...
    Đọc thêm
  • Đặc điểm của máy phủ chân không

    Đặc điểm của máy phủ chân không

    1. Lớp màng phủ chân không rất mỏng (thường là 0,01-0,1 µm) | 2. Phủ chân không có thể được sử dụng cho nhiều loại nhựa, chẳng hạn như ABS, PE, PP, PVC, PA, PC, PMMA, v.v. 3. Nhiệt độ tạo màng thấp. Trong ngành công nghiệp sắt thép, nhiệt độ phủ mạ kẽm nóng thường nằm trong khoảng 400 ℃...
    Đọc thêm
  • Giới thiệu về công nghệ màng mỏng quang điện mặt trời

    Giới thiệu về công nghệ màng mỏng quang điện mặt trời

    Sau khi hiệu ứng quang điện được phát hiện ở châu Âu vào năm 1863, Hoa Kỳ đã chế tạo pin quang điện đầu tiên sử dụng selen (Se) vào năm 1883. Trong giai đoạn đầu, pin quang điện chủ yếu được sử dụng trong ngành hàng không vũ trụ, quân sự và các lĩnh vực khác. Trong 20 năm qua, chi phí sản xuất pin quang điện đã giảm mạnh...
    Đọc thêm