Vítejte ve společnosti Guangdong Zhenhua Technology Co., Ltd.
banner_stránky

Zprávy

  • Charakteristiky a metody generování toku elektronů v oblouku

    Charakteristiky a metody generování toku elektronů v oblouku

    1. Charakteristika toku elektronů v obloukovém výboji Hustota toku elektronů, toku iontů a vysokoenergetických neutrálních atomů v obloukové plazmě generované obloukovým výbojem je mnohem vyšší než u doutnavého výboje. Je zde ionizováno více plynných iontů a kovových iontů, excitovaných vysokoenergetických atomů a různých aktivních skupin...
    Číst dále
  • Oblasti použití plazmové modifikace povrchu

    Oblasti použití plazmové modifikace povrchu

    1) Modifikace povrchu plazmou se týká především určitých modifikací papíru, organických fólií, textilií a chemických vláken. Použití plazmy pro modifikaci textilií nevyžaduje použití aktivátorů a proces úpravy nepoškozuje vlastnosti samotných vláken. ...
    Číst dále
  • Aplikace iontových povlaků v oblasti optických tenkých filmů

    Aplikace iontových povlaků v oblasti optických tenkých filmů

    Použití optických tenkých vrstev je velmi rozsáhlé a sahá od brýlí, objektivů fotoaparátů, fotoaparátů mobilních telefonů, LCD obrazovek pro mobilní telefony, počítače a televizory, LED osvětlení, biometrických zařízení až po energeticky úsporná okna v automobilech a budovách, stejně jako lékařské přístroje, te...
    Číst dále
  • Informační zobrazovací fólie a technologie iontového povlakování

    Informační zobrazovací fólie a technologie iontového povlakování

    1. Typ filmu v informačním displeji Kromě tenkých filmů TFT-LCD a OLED zahrnuje informační displej také filmy s drátovými elektrodami a průhledné filmy s pixelovými elektrodami v zobrazovacím panelu. Proces nanášení povlaku je základním procesem displejů TFT-LCD a OLED. Díky nepřetržitému prog...
    Číst dále
  • Zákon růstu vrstvy povlakového filmu ve vakuovém odpařování

    Zákon růstu vrstvy povlakového filmu ve vakuovém odpařování

    Během odpařování je nukleace a růst filmové vrstvy základem různých technologií iontového povlakování 1. Nukleace V technologii vakuového odpařování se částice filmové vrstvy po odpaření ze zdroje odpařování ve formě atomů dostanou přímo do ...
    Číst dále
  • Společné vlastnosti vylepšené technologie iontového nanášení doutnavého výboje

    Společné vlastnosti vylepšené technologie iontového nanášení doutnavého výboje

    1. Nízké předpětí obrobku Díky přidání zařízení pro zvýšení ionizační rychlosti se zvyšuje hustota výbojového proudu a předpětí se snižuje na 0,5~1 kV. Zpětné naprašování způsobené nadměrným bombardováním vysokoenergetickými ionty a poškození povrchu obrobku...
    Číst dále
  • Výhody válcových terčů

    Výhody válcových terčů

    1) Válcové terče mají vyšší míru využití než planární terče. V procesu nanášení povlaku, ať už se jedná o rotační magnetický typ nebo rotační trubkový válcový naprašovací terč, všechny části povrchu trubky terče nepřetržitě procházejí naprašovací oblastí vytvořenou před...
    Číst dále
  • Proces přímé polymerace v plazmatu

    Proces přímé polymerace v plazmatu

    Proces přímé polymerace v plazmě Proces plazmové polymerace je relativně jednoduchý jak pro zařízení pro polymeraci s vnitřní elektrodou, tak pro zařízení pro polymeraci s vnější elektrodou, ale výběr parametrů je u plazmové polymerace důležitější, protože parametry mají větší...
    Číst dále
  • Technologie plazmové chemické depozice z plynné fáze vylepšené obloukem horkým drátem

    Technologie plazmové chemické depozice z plynné fáze vylepšené obloukem horkým drátem

    Technologie plazmové chemické depozice z plynné fáze s vylepšeným obloukem horkého drátu využívá k emitování obloukového plazmatu obloukovou pistoli s horkým drátem, zkráceně technologie PECVD s horkým drátem. Tato technologie je podobná technologii iontového nanášení obloukovou pistolí s horkým drátem, ale rozdíl spočívá v tom, že pevný film získaný horkým drátem...
    Číst dále
  • Úvod do konvenčních technik nanášení tvrdých povlaků

    Úvod do konvenčních technik nanášení tvrdých povlaků

    1. Technologie termálního CVD Tvrdé povlaky jsou většinou metalokeramické povlaky (TiN atd.), které vznikají reakcí kovu v povlaku a reaktivním zplyňováním. Technologie termálního CVD se zpočátku používala k zajištění aktivační energie kombinované reakce tepelnou energií při ...
    Číst dále
  • Co je to odporový odpařovací zdroj povlaku?

    Co je to odporový odpařovací zdroj povlaku?

    Nanášení povlaku odporovým odpařováním je základní metoda vakuového odpařování. „Odpařování“ označuje metodu přípravy tenkého filmu, při které se povlakový materiál ve vakuové komoře zahřívá a odpařuje, takže se atomy nebo molekuly materiálu odpařují a unikají z...
    Číst dále
  • Úvod do technologie katodického obloukového iontového pokovování

    Úvod do technologie katodického obloukového iontového pokovování

    Technologie katodického obloukového iontového pokovování využívá technologii obloukového výboje ve studeném poli. Nejranější aplikaci technologie obloukového výboje ve studeném poli v oblasti pokovování provedla společnost Multi Arc Company ve Spojených státech. Anglický název tohoto postupu je obloukové ionizační pokovování (AIP). Katodové obloukové iontové pokovování...
    Číst dále
  • Aplikace optických tenkých vrstev v průmyslu povlakovaných skel

    Aplikace optických tenkých vrstev v průmyslu povlakovaných skel

    Existuje mnoho typů substrátů pro brýle a čočky, jako například CR39, PC (polykarbonát), 1,53 Trivex156, plast se středním indexem lomu, sklo atd. U korekčních čoček je propustnost pryskyřičných i skleněných čoček pouze asi 91 % a část světla se odráží zpět od obou s...
    Číst dále
  • Vlastnosti vakuového lakovacího stroje

    Vlastnosti vakuového lakovacího stroje

    1. Film vakuového povlaku je velmi tenký (obvykle 0,01-0,1 μm) | 2. Vakuové povlakování lze použít pro mnoho plastů, jako je ABS﹑PE﹑PP﹑PVC﹑PA﹑PC﹑PMMA atd. 3. Teplota tvorby filmu je nízká. V železářském a ocelářském průmyslu se teplota povlaku při žárovém zinkování obvykle pohybuje mezi 400 ℃ a...
    Číst dále
  • Úvod do technologie tenkých solárních fotovoltaických vrstev

    Úvod do technologie tenkých solárních fotovoltaických vrstev

    Po objevení fotovoltaického jevu v Evropě v roce 1863 vyrobily Spojené státy v roce 1883 první fotovoltaický článek s (Se). V počátcích se fotovoltaické články používaly hlavně v leteckém, vojenském a dalších oblastech. V posledních 20 letech prudký pokles nákladů na fotovoltaické...
    Číst dále