Добредојдовте во Гуангдонг Женхуа Технолоџи Ко., ООД.
банер_на_страница

Вести

  • Карактеристики и методи за генерирање на проток на електрони во лакот

    Карактеристики и методи за генерирање на проток на електрони во лакот

    1. Карактеристики на протокот на електрони од лачна светлина Густината на протокот на електрони, протокот на јони и неутралните атоми со висока енергија во лачната плазма генерирана од лачно празнење е многу поголема од онаа на сјајното празнење. Постојат повеќе јонизирани гасни јони и метални јони, возбудени високоенергетски атоми и разни активни групи...
    Прочитај повеќе
  • Области на примена на модификација на површината на плазмата

    Области на примена на модификација на површината на плазмата

    1) Модификацијата на површината со плазма главно се однесува на одредени модификации на хартија, органски филмови, текстил и хемиски влакна. Употребата на плазма за модификација на текстил не бара употреба на активатори, а процесот на третман не ги оштетува карактеристиките на самите влакна. ...
    Прочитај повеќе
  • Примена на јонски премаз во областа на оптички тенки филмови

    Примена на јонски премаз во областа на оптички тенки филмови

    Примената на тенки оптички филмови е многу широка, почнувајќи од очила, леќи за камери, камери за мобилни телефони, LCD екрани за мобилни телефони, компјутери и телевизори, LED осветлување, биометриски уреди, па сè до прозорци за заштеда на енергија во автомобили и згради, како и медицински инструменти, теле...
    Прочитај повеќе
  • Филмови за прикажување информации и технологија за јонско обложување

    Филмови за прикажување информации и технологија за јонско обложување

    1. Вид на филм на информативниот дисплеј Покрај тенки филмови TFT-LCD и OLED, информативниот дисплеј вклучува и фолии за електроди за поврзување и транспарентни фолии за електроди за пиксели на дисплејот. Процесот на обложување е основниот процес на TFT-LCD и OLED дисплеите. Со континуираната програма...
    Прочитај повеќе
  • Законот за раст на слојот на филмска фолија со вакуумска испарување

    Законот за раст на слојот на филмска фолија со вакуумска испарување

    За време на обложувањето со испарување, нуклеацијата и растот на филмскиот слој се основа на различни технологии за јонско обложување 1. Нуклеација Во технологијата за обложување со вакуумско испарување, откако честичките од филмскиот слој ќе испарат од изворот на испарување во форма на атоми, тие летаат директно кон ж...
    Прочитај повеќе
  • Заеднички карактеристики на технологијата за обложување со подобрено сјајно празнење на јони

    Заеднички карактеристики на технологијата за обложување со подобрено сјајно празнење на јони

    1. Пристрасноста на работното парче е ниска Поради додавањето на уред за зголемување на стапката на јонизација, густината на струјата на празнење е зголемена, а напонот на пристрасност е намален на 0,5 ~ 1kV. Задното распрскување предизвикано од прекумерно бомбардирање на јони со висока енергија и ефектот на оштетување врз површината на работното парче...
    Прочитај повеќе
  • Предности на цилиндричните мети

    Предности на цилиндричните мети

    1) Цилиндричните мети имаат поголема стапка на искористеност од рамните мети. Во процесот на обложување, без разлика дали станува збор за ротационен магнетен тип или цилиндрична мета за распрскување од типот на ротациона цевка, сите делови од површината на метата континуирано минуваат низ површината за распрскување генерирана пред...
    Прочитај повеќе
  • Процес на директна полимеризација со плазма

    Процес на директна полимеризација со плазма

    Процес на директна полимеризација со плазма Процесот на полимеризација со плазма е релативно едноставен и за опремата за полимеризација со внатрешна електрода и за опремата за полимеризација со надворешна електрода, но изборот на параметри е поважен кај полимеризацијата со плазма, бидејќи параметрите имаат поголем...
    Прочитај повеќе
  • Технологија за хемиско таложење на пареа со подобрен плазма со жешка жица

    Технологија за хемиско таложење на пареа со подобрен плазма со жешка жица

    Технологијата за хемиско таложење на пареа со подобрена плазма со жешка жица го користи пиштолот за жешка жица за емитување плазма со жешка жица, скратено како PECVD технологија со жешка жица. Оваа технологија е слична на технологијата за јонско обложување со пиштол за жешка жица, но разликата е во тоа што цврстиот филм добиен со хо...
    Прочитај повеќе
  • Вовед во конвенционални техники за нанесување тврди премази

    Вовед во конвенционални техники за нанесување тврди премази

    1. Термичка CVD технологија Тврдите премази се претежно метал-керамички премази (TiN, итн.), кои се формираат со реакција на метал во премазот и реактивна гасификација. На почетокот, термичката CVD технологија се користеше за да се обезбеди енергијата на активирање на комбинираната реакција со топлинска енергија на ...
    Прочитај повеќе
  • Што е премаз со отпорен извор на испарување?

    Што е премаз со отпорен извор на испарување?

    Облогата со извор на отпорна испарување е основен метод на обложување со вакуумска испарување. „Испарувањето“ се однесува на метод на подготовка на тенок филм во кој материјалот за обложување во вакуумската комора се загрева и испарува, така што атомите или молекулите на материјалот испаруваат и излегуваат од...
    Прочитај повеќе
  • Вовед во технологијата на катодно лачно јонско позлатување

    Вовед во технологијата на катодно лачно јонско позлатување

    Технологијата за катодно лачно јонско обложување користи технологија на лачно празнење со лачно поле. Најраната примена на технологијата на лачно лачно празнење во областа на обложување ја направи компанијата Multi Arc во Соединетите Американски Држави. Англиското име на оваа постапка е лачно јонско обложување (AIP). Катодно лачно јонско обложување...
    Прочитај повеќе
  • Примена на тенок оптички филм во индустријата за обложени стакла

    Примена на тенок оптички филм во индустријата за обложени стакла

    Постојат многу видови на подлоги за очила и леќи, како што се CR39, PC (поликарбонат), 1.53 Trivex156, пластика со среден индекс на прекршување, стакло итн. За корективни леќи, пропустливоста и на смолестите и на стаклените леќи е само околу 91%, а дел од светлината се одбива назад од двете...
    Прочитај повеќе
  • Карактеристики на машината за вакуумско обложување

    Карактеристики на машината за вакуумско обложување

    1. Филмот од вакуумско премачкување е многу тенок (нормално 0,01-0,1 μm) | 2. Вакуумското премачкување може да се користи за многу пластики, како што се ABS﹑PE﹑PP﹑PVC﹑PA﹑PC﹑PMMA, итн. 3. Температурата на формирање на филм е ниска. Во индустријата за железо и челик, температурата на премачкување при топло поцинкување е генерално помеѓу 400 ℃ a...
    Прочитај повеќе
  • Вовед во технологијата на тенок филм за соларни фотоволтаични системи

    Вовед во технологијата на тенок филм за соларни фотоволтаични системи

    По откривањето на фотоволтаичниот ефект во Европа во 1863 година, Соединетите Американски Држави ја направија првата фотоволтаична ќелија со (Se) во 1883 година. Во раните денови, фотоволтаичните ќелии главно се користеле во воздухопловството, војската и други области. Во изминатите 20 години, остриот пад на цената на фотоволтаичните...
    Прочитај повеќе