Quandu a deposizione di l'atomi di membrana cumencia, u bombardamentu ionicu hà i seguenti effetti nantu à l'interfaccia membrana/substratu.
(1) Miscelazione fisica. A causa di l'iniezione di ioni à alta energia, a sputtering di l'atomi depositati è l'iniezione di rinculu di l'atomi di superficia è u fenomenu di collisione in cascata, pruvucarà a miscelazione senza diffusione di l'area vicina à a superficia di l'interfaccia membrana/base di l'elementi di u substratu è di l'elementi di a membrana, questu effettu di miscelazione serà favurevule à a furmazione di u "stratu di pseudo-diffusione" di l'interfaccia membrana/base, vale à dì, u stratu di transizione trà l'interfaccia membrana/base, finu à uni pochi di micron di spessore. Uni pochi di micrometri di spessore, in u quale ponu ancu apparisce nuove fasi. Questu hè assai favurevule per migliurà a forza di adesione di l'interfaccia membrana/base.
(2) Diffusione migliorata. L'alta cuncentrazione di difetti in a regione vicina à a superficia è l'alta temperatura aumentanu a velocità di diffusione. Siccomu a superficia hè un difettu puntuale, i picculi ioni anu a tendenza à deflettà a superficia, è u bombardamentu ionicu hà l'effettu di rinfurzà ulteriormente a deflessione di a superficia è di rinfurzà a diffusione mutuale di l'atomi depositati è di u substratu.
(3) Modu di nucleazione miglioratu. E proprietà di l'atomu cundensatu nantu à a superficia di u substratu sò determinate da a so interazione superficiale è da e so proprietà di migrazione nantu à a superficia. S'ellu ùn ci hè micca una forte interazione trà l'atomu cundensatu è a superficia di u substratu, l'atomu si diffonderà nantu à a superficia finu à chì si nuclea in una pusizione d'alta energia o si scontra cù altri atomi diffusori. Stu modu di nucleazione hè chjamatu nucleazione non reattiva. Ancu s'è l'uriginale appartene à u casu di u modu di nucleazione non reattiva, per via di u bumbardamentu ionicu di a superficia di u substratu pò pruduce più difetti, aumentendu a densità di nucleazione, chì hè più favurevule à a furmazione di diffusione - modu di nucleazione reattiva.
(4) Rimozione preferenziale di l'atomi liberamente legati. A sputtering di l'atomi di a superficia hè determinata da u statu di ligame lucale, è u bombardamentu ionicu di a superficia hè più prubabile di sputtering fora l'atomi liberamente legati. Questu effettu hè più pronunciatu in a furmazione di interfacce reattive à a diffusione.
(5) Miglioramentu di a cupertura superficiale è rinfurzamentu di u bypass di placcatura. A causa di l'alta pressione di gas di travagliu di a placcatura ionica, l'atomi evaporati o sputterizzati sò sottumessi à collisione cù l'atomi di gas per migliurà a dispersione, risultendu in bone proprietà di avvolgimentu di u rivestimentu.
–Questu articulu hè statu publicatu dafabricatore di macchine di rivestimentu à vuotoGuangdong Zhenhua
Data di publicazione: 09 dicembre 2023