আয়ন রশ্মি-সহায়তায় জমা করার দুটি প্রধান পদ্ধতি আছে, একটি হল গতিশীল সংকর; অন্যটি হল স্থির সংকর। প্রথমটি হল বৃদ্ধির প্রক্রিয়ায় ফিল্মকে বোঝায়, যা সর্বদা আয়ন বোমাবর্ষণ এবং ফিল্মের একটি নির্দিষ্ট শক্তি এবং রশ্মি প্রবাহের সাথে থাকে; দ্বিতীয়টি হল সাবস্ট্রেটের পৃষ্ঠে ফিল্ম স্তরের কয়েক ন্যানোমিটারের কম পুরুত্বের একটি স্তর জমা করা, এবং তারপর গতিশীল আয়ন বোমাবর্ষণ, এবং ফিল্ম স্তরের বৃদ্ধি বহুবার পুনরাবৃত্তি করা যেতে পারে।
পাতলা ফিল্মের আয়ন বিম সহায়ক জমার জন্য নির্বাচিত আয়ন বিম শক্তি 30 eV থেকে 100 keV এর মধ্যে। নির্বাচিত শক্তি পরিসীমা ফিল্মটি কোন ধরণের প্রয়োগের জন্য সংশ্লেষিত হচ্ছে তার উপর নির্ভর করে। উদাহরণস্বরূপ, জারা সুরক্ষা, অ্যান্টি-মেকানিক্যাল ওয়্যার, আলংকারিক আবরণ এবং অন্যান্য পাতলা ফিল্ম প্রস্তুত করার জন্য উচ্চ বোমাবর্ষণ শক্তি নির্বাচন করা উচিত। পরীক্ষাগুলি দেখায় যে, যেমন আয়ন বিম বোমাবর্ষণের 20 থেকে 40keV শক্তির পছন্দ, সাবস্ট্রেট উপাদান এবং ফিল্ম নিজেই ক্ষতির কর্মক্ষমতা এবং ব্যবহারকে প্রভাবিত করবে না। অপটিক্যাল এবং ইলেকট্রনিক ডিভাইসের জন্য পাতলা ফিল্ম তৈরির ক্ষেত্রে, কম শক্তির আয়ন বিম সহায়ক জমা নির্বাচন করা উচিত, যা কেবল আলো শোষণ হ্রাস করে না এবং বৈদ্যুতিকভাবে সক্রিয় ত্রুটি তৈরি এড়ায় না, বরং ঝিল্লির স্থিতিশীল অবস্থা গঠনের সুবিধাও দেয়। গবেষণায় দেখা গেছে যে 500 eV এর চেয়ে কম আয়ন শক্তি নির্বাচন করে চমৎকার বৈশিষ্ট্যযুক্ত ছায়াছবি পাওয়া যেতে পারে।
–এই প্রবন্ধটি প্রকাশিত হয়েছেভ্যাকুয়াম লেপ মেশিন প্রস্তুতকারকগুয়াংডং জেনহুয়া
পোস্টের সময়: মার্চ-১১-২০২৪