የሜምፕል አተሞች መጣል ሲጀመር፣ ion bombardment በሜምበር/ substrate በይነገጽ ላይ የሚከተለው ተጽእኖ ይኖረዋል።
(1) አካላዊ ድብልቅ. ከፍተኛ ኃይል ባለው ion መርፌ ምክንያት ፣ የተቀመጡት አተሞች መትረፍ እና የገጽታ አተሞች መልሶ ማገገሚያ መርፌ እና ድንገተኛ ግጭት ክስተት ፣ የንዑስ ክፍል አካላት እና የማይሰራጭ ድብልቅ ገለፈት አካላት የገለባ / ቤዝ በይነገጽ አካባቢን ያስከትላል ። ሽፋን/ቤዝ በይነገጽ፣ እስከ ጥቂት ማይክሮን የሚደርስ ውፍረት። ጥቂት ማይሚሜትሮች ውፍረት፣ በዚህ ውስጥ አዳዲስ ደረጃዎች እንኳን ሊታዩ ይችላሉ። ይህ የሽፋኑ / የመሠረት በይነገጽ የማጣበቅ ጥንካሬን ለማሻሻል በጣም ጥሩ ነው።
(2) የተሻሻለ ስርጭት። በአቅራቢያው ባለው ክልል ውስጥ ያለው ከፍተኛ ጉድለት ትኩረት እና ከፍተኛ የሙቀት መጠን ስርጭት ፍጥነት ይጨምራል. ላይ ላዩን የነጥብ ጉድለት ስለሆነ ትናንሽ ionዎች ፊቱን ወደ ጎን የማዞር ዝንባሌ አላቸው፣ እና ion bombardment የወለል ንጣፉን የበለጠ የማሳደግ እና የተቀማጭ እና የከርሰ ምድር አተሞች የጋራ ስርጭትን የማሳደግ ውጤት አለው።
(3) የተሻሻለ የኑክሌር ሁነታ. በንዑስ ወለል ላይ የተጨመቀው አቶም ባህሪያት የሚወሰኑት በመሬት ላይ ባለው መስተጋብር እና በፍልሰት ባህሪያት ነው. በተጨመቀው አቶም እና በንጥረኛው ወለል መካከል ጠንካራ መስተጋብር ከሌለ አተሙ በከፍተኛ ሃይል ቦታ ላይ አስኳል እስኪሆን ድረስ ወይም ከሌሎች አተሞች ጋር እስኪጋጭ ድረስ ላይ ላይ ይሰራጫል። ይህ የኒውክሊየሽን ዘዴ ምላሽ የማይሰጥ ኒውክሊየሽን ይባላል። ምንም እንኳን ኦርጅናሉ ምንም እንኳን ምላሽ የማይሰጥ የኑክሌር አሠራር ሁኔታ ቢሆንም ፣ በ ion bombard substrate surface ላይ ተጨማሪ ጉድለቶችን ሊያመጣ ይችላል ፣ የኑክሌር መጠኑን ይጨምራል ፣ ይህም ለስርጭት ምስረታ የበለጠ ምቹ ነው - ምላሽ ሰጪ nucleation ሁነታ።
(4) ልቅ የታሰሩ አተሞችን በምርጫ ማስወገድ። የገጽታ አተሞች መበተን የሚወሰነው በአካባቢው የመተሳሰሪያ ሁኔታ ነው፣ እና የላይኛው ion ቦምብ መጨፍጨፍ በቀላሉ የተሳሰሩ አተሞችን የመበተን ዕድሉ ከፍተኛ ነው። ይህ ተጽእኖ በስርጭት-አጸፋዊ መገናኛዎች መፈጠር ውስጥ የበለጠ ግልጽ ነው.
(5) የወለል ንጣፎችን ማሻሻል እና የፕላቲንግ ማለፊያን ማሻሻል. ion plating ያለውን ከፍተኛ የሥራ ጋዝ ግፊት ምክንያት, በትነት ወይም sputtered አተሞች መበተንን ለማሻሻል ጋዝ አተሞች ጋር ግጭት የተጋለጡ ናቸው, ምክንያት ጥሩ ሽፋን መጠቅለያ ባህሪያት.
- ይህ ጽሑፍ የተለቀቀው በየቫኩም ሽፋን ማሽን አምራችጓንግዶንግ ዠንዋ
የልጥፍ ሰዓት፡- ዲሴ-09-2023