1. Mục tiêu crom: Crom, với vai trò là vật liệu màng phủ, không chỉ dễ kết hợp với chất nền với độ bám dính cao, mà còn có thể kết hợp với oxit crom để tạo thành màng CrO3, giúp cải thiện các tính chất cơ học, khả năng chống axit và độ ổn định nhiệt. Ngoài ra, crom ở trạng thái oxy hóa chưa hoàn toàn cũng có thể tạo ra một lớp màng hấp thụ yếu. Crom có độ tinh khiết hơn 98% đã được báo cáo là có thể chế tạo thành các mục tiêu hình chữ nhật hoặc hình trụ. Thêm vào đó, công nghệ sử dụng phương pháp thiêu kết để chế tạo mục tiêu hình chữ nhật bằng crom cũng đã hoàn thiện.
2. Chuẩn bị bia ITO Trước đây, vật liệu bia ITO thường được sử dụng là hợp kim In-Sn, sau đó trong quá trình phủ, sử dụng oxy để tạo ra màng ITO. Phương pháp này khó kiểm soát khí phản ứng và có độ tái lập kém. Do đó, trong những năm gần đây, nó đã được thay thế bằng bia ITO thiêu kết. Quy trình điển hình để chế tạo bia ITO là trộn đều theo tỷ lệ khối lượng bằng phương pháp nghiền bi, sau đó thêm chất kết dính bột hữu cơ đặc biệt để trộn thành hình dạng yêu cầu, nén chặt dưới áp suất, rồi nung nóng tấm trong không khí với tốc độ 100 ℃/h đến 1600 ℃ sau khi giữ 1 giờ, sau đó làm nguội với tốc độ 100 ℃/h xuống nhiệt độ phòng. Khi chế tạo bia, cần phải đánh bóng bề mặt bia để tránh các điểm nóng trong quá trình phún xạ.
3. Vàng và hợp kim vàng có độ bóng đẹp, khả năng chống ăn mòn tốt, là vật liệu phủ bề mặt trang trí lý tưởng. Phương pháp mạ ướt được sử dụng trước đây có độ bám dính màng nhỏ, độ bền thấp, khả năng chống mài mòn kém, cũng như vấn đề ô nhiễm chất lỏng thải, do đó, không thể tránh khỏi việc được thay thế bằng mạ khô. Có nhiều loại mục tiêu khác nhau như mục tiêu phẳng, mục tiêu hỗn hợp cục bộ, mục tiêu hình ống, mục tiêu hỗn hợp cục bộ hình ống, v.v. Phương pháp chế tạo chủ yếu thông qua quá trình nấu chảy chân không, tẩy gỉ, cán nguội, ủ, cán mịn, cắt, làm sạch bề mặt, cán nguội và đóng gói hỗn hợp, v.v. Công nghệ này đã được đánh giá cao tại Trung Quốc và cho kết quả sử dụng tốt.
4. Mục tiêu vật liệu từ tính Mục tiêu vật liệu từ tính chủ yếu được sử dụng để mạ màng mỏng cho đầu từ, đĩa màng mỏng và các thiết bị màng mỏng từ tính khác. Do việc sử dụng phương pháp phún xạ magnetron DC cho vật liệu từ tính gặp nhiều khó khăn hơn, nên người ta sử dụng các mục tiêu CT có dạng “mục tiêu khe hở” để chế tạo các mục tiêu này. Nguyên tắc là cắt nhiều khe hở trên bề mặt vật liệu mục tiêu để hệ thống từ tính có thể tạo ra từ trường rò rỉ trên bề mặt vật liệu mục tiêu, nhờ đó bề mặt mục tiêu có thể tạo thành từ trường vuông góc và đạt được mục đích phún xạ màng magnetron. Người ta nói rằng độ dày của vật liệu mục tiêu này có thể đạt tới 20mm.
–Bài viết này được phát hành bởiNhà sản xuất máy phủ chân khôngQuảng Đông Chấn Hoa
Thời gian đăng bài: 24/01/2024