१. क्रोमियम टार्गेट: स्पटरिंग फिल्म मटेरियल म्हणून क्रोमियम केवळ उच्च आसंजनासह सब्सट्रेटशी सहजपणे जोडले जात नाही, तर क्रोमियम आणि ऑक्साईडपासून CrO3 फिल्म तयार होते, ज्याचे यांत्रिक गुणधर्म, आम्ल प्रतिरोधकता आणि औष्णिक स्थिरता अधिक चांगली असते. याव्यतिरिक्त, अपूर्ण ऑक्सिडेशन अवस्थेतील क्रोमियम एक कमकुवत शोषण फिल्म देखील तयार करू शकते. ९८% पेक्षा जास्त शुद्धतेच्या क्रोमियमपासून आयताकृती किंवा दंडगोलाकार क्रोमियम टार्गेट बनवल्याचे नोंदवले गेले आहे. याव्यतिरिक्त, सिंटरिंग पद्धतीचा वापर करून क्रोमियम आयताकृती टार्गेट बनवण्याचे तंत्रज्ञान देखील प्रगत आहे.
२. आयटीओ (ITO) टार्गेटची तयारी: पूर्वी वापरल्या जाणाऱ्या आयटीओ फिल्म टार्गेट मटेरियलसाठी, सामान्यतः टार्गेट बनवण्यासाठी इंडियम-टिन (In-Sn) मिश्रधातूचा वापर केला जात असे आणि नंतर कोटिंग प्रक्रियेदरम्यान ऑक्सिजनच्या साहाय्याने आयटीओ फिल्म तयार केली जात असे. या पद्धतीमध्ये अभिक्रिया वायूवर नियंत्रण ठेवणे कठीण होते आणि पुनरुत्पादकता कमी होती. त्यामुळे, अलीकडच्या काळात या पद्धतीची जागा आयटीओ सिंटरिंग टार्गेटने घेतली आहे. आयटीओ टार्गेट मटेरियलची सामान्य प्रक्रिया अशी आहे की, गुणवत्तेच्या प्रमाणानुसार, बॉल मिलिंग पद्धतीने ते पूर्णपणे मिसळले जाते, आणि नंतर विशेष सेंद्रिय पावडर कंपोझिट एजंट घालून आवश्यक आकारात मिसळले जाते. त्यानंतर दाब देऊन घट्ट केले जाते आणि मग हवेत १००°C/तास या दराने गरम करून १६००°C पर्यंत १ तास ठेवले जाते, आणि नंतर १००°C/तास या दराने खोलीच्या तापमानापर्यंत थंड करून बनवले जाते. टार्गेट बनवताना, स्पटरिंग प्रक्रियेत हॉट स्पॉट्स टाळण्यासाठी टार्गेटचा पृष्ठभाग पॉलिश करणे आवश्यक असते.
३. सोने आणि सोन्याच्या मिश्रधातूचे लक्ष्य, आकर्षक चमक आणि उत्तम गंज-प्रतिरोधक क्षमता यामुळे ते सजावटीच्या पृष्ठभागाचे लेपन करण्यासाठी एक आदर्श साहित्य आहे. पूर्वी वापरल्या जाणाऱ्या ओल्या लेपन पद्धतीमध्ये फिल्मची चिकटण्याची क्षमता कमी, ताकद कमी, घर्षण-प्रतिरोधक क्षमता कमी, तसेच टाकाऊ द्रवामुळे होणारे प्रदूषण यांसारख्या समस्या होत्या, त्यामुळे अपरिहार्यपणे कोरड्या लेपन पद्धतीचा वापर सुरू झाला. लक्ष्याच्या प्रकारांमध्ये सपाट लक्ष्य, स्थानिक संमिश्र लक्ष्य, नळीच्या आकाराचे लक्ष्य, स्थानिक संमिश्र नळीच्या आकाराचे लक्ष्य इत्यादींचा समावेश होतो. त्याच्या निर्मितीची पद्धत प्रामुख्याने व्हॅक्यूम मेल्टिंग, पिक्लिंग, कोल्ड रोलिंग, ॲनीलिंग, फाइन रोलिंग, शियरिंग, पृष्ठभागाची स्वच्छता, कोल्ड रोलिंग कंपोझिट पॅकेजिंग आणि अशा अनेक प्रक्रियांच्या माध्यमातून केली जाते. या तंत्रज्ञानाला चीनमध्ये मान्यता मिळाली असून, त्याच्या वापराचे चांगले परिणाम दिसून आले आहेत.
४. चुंबकीय पदार्थाचे लक्ष्य (टार्गेट) चुंबकीय पदार्थाचे लक्ष्य प्रामुख्याने पातळ फिल्मचे चुंबकीय हेड, पातळ फिल्मच्या चकत्या आणि इतर चुंबकीय पातळ फिल्म उपकरणांवर प्लेटिंग करण्यासाठी वापरले जाते. चुंबकीय पदार्थांसाठी डीसी मॅग्नेट्रॉन स्पटरिंग पद्धतीचा वापर केल्यामुळे मॅग्नेट्रॉन स्पटरिंग अधिक कठीण होते. त्यामुळे, अशा लक्ष्यांच्या निर्मितीसाठी तथाकथित "गॅप टार्गेट प्रकार" असलेले सीटी लक्ष्य वापरले जातात. याचे तत्त्व असे आहे की, लक्ष्याच्या पदार्थाच्या पृष्ठभागावर अनेक पोकळ्या कापल्या जातात, जेणेकरून चुंबकीय प्रणालीद्वारे लक्ष्याच्या पृष्ठभागावर गळती चुंबकीय क्षेत्र निर्माण करता येईल. यामुळे लक्ष्याच्या पृष्ठभागावर एक लंब चुंबकीय क्षेत्र तयार होते आणि मॅग्नेट्रॉन स्पटरिंगद्वारे फिल्म तयार करण्याचा उद्देश साध्य होतो. असे म्हटले जाते की या लक्ष्याच्या पदार्थाची जाडी २० मिमी पर्यंत पोहोचू शकते.
हा लेख यांनी प्रसिद्ध केला आहेव्हॅक्यूम कोटिंग मशीन उत्पादकग्वांगडोंग झेन्हुआ
पोस्ट करण्याची वेळ: २४ जानेवारी २०२४