1. Sasaran Kromium Kromium sebagai bahan filem percikan bukan sahaja mudah digabungkan dengan substrat dengan lekatan yang tinggi, tetapi juga kromium dan oksida untuk menghasilkan filem CrO3, sifat mekanikal, rintangan asid, kestabilan habanya adalah lebih baik. Di samping itu, kromium dalam keadaan pengoksidaan yang tidak lengkap juga boleh menghasilkan filem penyerapan yang lemah. Kromium dengan ketulenan lebih daripada 98% telah dilaporkan dibuat menjadi sasaran segi empat tepat atau sasaran kromium silinder. Di samping itu, teknologi menggunakan kaedah pensinteran untuk membuat sasaran segi empat tepat kromium juga matang.
2. Sasaran ITO Penyediaan bahan sasaran filem ITO yang digunakan pada masa lalu, biasanya menggunakan bahan aloi In-Sn untuk membuat sasaran, dan kemudian dalam proses salutan melalui oksigen, dan kemudian menghasilkan filem ITO. Kaedah ini sukar untuk mengawal gas tindak balas dan mempunyai kebolehulangan yang lemah. Oleh itu, dalam beberapa tahun kebelakangan ini telah digantikan dengan sasaran pensinteran ITO. Proses tipikal bahan sasaran ITO adalah mengikut nisbah kualiti, melalui kaedah pengilangan bola akan dicampur sepenuhnya, dan kemudian menambah agen komposit serbuk organik khas yang akan dicampur ke dalam bentuk yang diperlukan, dan melalui pemadatan bertekanan, dan kemudian plat di udara pada kadar pemanasan 100 ℃/j hingga 1600 ℃ selepas menahan 1 jam, dan kemudian kadar penyejukan 100 ℃/j turun ke suhu bilik dan dibuat. Kadar penyejukan 100 ℃/j turun ke suhu bilik dan dibuat. Semasa membuat sasaran, satah sasaran perlu digilap, untuk mengelakkan titik panas dalam proses percikan.
3. Emas dan aloi emas sasaran emas, kilauan menawan, dengan rintangan kakisan yang baik, merupakan bahan salutan permukaan hiasan yang ideal. Kaedah penyaduran basah yang digunakan pada masa lalu adalah lekatan filem yang kecil, kekuatan rendah, rintangan lelasan yang lemah, serta masalah pencemaran cecair sisa, oleh itu, tidak dapat dielakkan digantikan dengan penyaduran kering. Jenis sasaran mempunyai sasaran satah, sasaran komposit tempatan, sasaran tiub, sasaran tiub komposit tempatan dan sebagainya. Kaedah penyediaannya terutamanya melalui dos peleburan vakum, penjerukan, penggelek sejuk, penyepuhlindapan, penggelek halus, ricih, pembersihan permukaan, pembungkusan komposit penggelek sejuk dan beberapa proses seperti penyediaan proses. Teknologi ini telah lulus penilaian di China, penggunaan hasil yang baik.
4. Sasaran bahan magnet Sasaran bahan magnet terutamanya digunakan untuk menyadur kepala magnet filem nipis, cakera filem nipis dan peranti filem nipis magnet yang lain. Disebabkan penggunaan kaedah percikan magnetron DC untuk bahan magnet, percikan magnetron adalah lebih sukar. Oleh itu, sasaran CT dengan apa yang dipanggil "jenis sasaran jurang" digunakan untuk penyediaan sasaran sedemikian. Prinsipnya adalah untuk memotong banyak jurang pada permukaan bahan sasaran supaya sistem magnet boleh dijana pada permukaan bahan magnet, medan magnet kebocoran sasaran, supaya permukaan sasaran boleh membentuk medan magnet ortogon dan mencapai tujuan filem percikan magnetron. Dikatakan bahawa ketebalan bahan sasaran ini boleh mencapai 20mm.
–Artikel ini dikeluarkan olehpengeluar mesin salutan vakumGuangdong Zhenhua
Masa siaran: 24 Jan-2024