১. ক্রোমিয়াম টার্গেট: স্পাটারিং ফিল্ম উপাদান হিসেবে ক্রোমিয়াম শুধু উচ্চ আসঞ্জনশীলতার সাথে সাবস্ট্রেটের সাথে সহজে সংযুক্ত হয় তাই নয়, বরং ক্রোমিয়াম এবং অক্সাইডের সাথে বিক্রিয়া করে CrO3 ফিল্ম তৈরি করার ফলে এর যান্ত্রিক বৈশিষ্ট্য, অ্যাসিড প্রতিরোধ ক্ষমতা এবং তাপীয় স্থিতিশীলতাও উন্নত হয়। এছাড়াও, অসম্পূর্ণ জারণ অবস্থায় থাকা ক্রোমিয়াম একটি দুর্বল শোষণকারী ফিল্মও তৈরি করতে পারে। ৯৮% এর বেশি বিশুদ্ধতার ক্রোমিয়াম ব্যবহার করে আয়তাকার বা নলাকার ক্রোমিয়াম টার্গেট তৈরি করা হয়েছে বলে জানা গেছে। এছাড়াও, সিন্টারিং পদ্ধতি ব্যবহার করে ক্রোমিয়াম আয়তাকার টার্গেট তৈরির প্রযুক্তিও এখন বেশ উন্নত।
২. আইটিও (ITO) টার্গেট প্রস্তুতি: অতীতে আইটিও ফিল্ম টার্গেট উপাদান তৈরির জন্য সাধারণত ইনডিয়াম-টিন (In-Sn) সংকর ধাতু ব্যবহার করা হতো এবং কোটিং প্রক্রিয়ায় অক্সিজেনের মাধ্যমে আইটিও ফিল্ম তৈরি করা হতো। এই পদ্ধতিতে বিক্রিয়ার গ্যাস নিয়ন্ত্রণ করা কঠিন এবং এর পুনরাবৃত্তিযোগ্যতা কম। তাই, সাম্প্রতিক বছরগুলোতে এটি আইটিও সিন্টারিং টার্গেট দ্বারা প্রতিস্থাপিত হয়েছে। আইটিও টার্গেট উপাদান তৈরির সাধারণ প্রক্রিয়াটি হলো: প্রথমে গুণগত অনুপাত অনুযায়ী বল মিলিং পদ্ধতির মাধ্যমে উপাদানগুলো ভালোভাবে মেশানো হয়, তারপর বিশেষ জৈব পাউডার কম্পোজিট এজেন্ট যোগ করে প্রয়োজনীয় আকারে মেশানো হয় এবং চাপ প্রয়োগ করে সংকুচিত করা হয়। এরপর প্লেটটিকে বাতাসে ১০০℃/ঘণ্টা হারে ১৬০০℃ পর্যন্ত উত্তপ্ত করে ১ ঘণ্টা ধরে রাখা হয় এবং তারপর ১০০℃/ঘণ্টা হারে শীতল করে কক্ষ তাপমাত্রায় আনা হয়। টার্গেট তৈরির সময় টার্গেটের তল মসৃণ করা প্রয়োজন, যাতে স্পাটারিং প্রক্রিয়ায় হট স্পট তৈরি না হয়।
৩. সোনা এবং সোনার সংকর টার্গেট, এর আকর্ষণীয় ঔজ্জ্বল্য এবং ভালো ক্ষয় প্রতিরোধ ক্ষমতা রয়েছে, যা আলংকারিক পৃষ্ঠতল আবরণের জন্য একটি আদর্শ উপাদান। অতীতে ব্যবহৃত ওয়েট প্লেটিং পদ্ধতিতে ফিল্মের আনুগত্য কম, শক্তি কম, ঘর্ষণ প্রতিরোধ ক্ষমতা দুর্বল এবং বর্জ্য তরল দূষণের সমস্যা ছিল, তাই এটি অনিবার্যভাবে ড্রাই প্লেটিং দ্বারা প্রতিস্থাপিত হয়েছে। টার্গেটের প্রকারভেদের মধ্যে রয়েছে সমতল টার্গেট, স্থানীয় যৌগিক টার্গেট, নলাকার টার্গেট, স্থানীয় যৌগিক নলাকার টার্গেট ইত্যাদি। এর প্রস্তুতি পদ্ধতি প্রধানত ভ্যাকুয়াম গলানো, পিকলিং, কোল্ড রোলিং, অ্যানিলিং, ফাইন রোলিং, শিয়ারিং, পৃষ্ঠ পরিষ্কার, কোল্ড রোলিং যৌগিক প্যাকেজিং এবং এই জাতীয় ধারাবাহিক প্রক্রিয়ার মাধ্যমে সম্পন্ন হয়। এই প্রযুক্তি চীনে মূল্যায়নে উত্তীর্ণ হয়েছে এবং এর ব্যবহারে ভালো ফলাফল পাওয়া গেছে।
৪. ম্যাগনেটিক মেটেরিয়াল টার্গেট প্রধানত থিন ফিল্ম ম্যাগনেটিক হেড, থিন ফিল্ম ডিস্ক এবং অন্যান্য ম্যাগনেটিক থিন ফিল্ম ডিভাইসে প্লেটিং করার জন্য ব্যবহৃত হয়। ম্যাগনেটিক মেটেরিয়ালের জন্য ডিসি ম্যাগনেট্রন স্পাটারিং পদ্ধতি ব্যবহার করার কারণে ম্যাগনেট্রন স্পাটারিং আরও কঠিন হয়ে পড়ে। তাই, এই ধরনের টার্গেট তৈরির জন্য তথাকথিত “গ্যাপ টার্গেট টাইপ” সহ সিটি টার্গেট ব্যবহার করা হয়। এর মূলনীতি হলো টার্গেট মেটেরিয়ালের পৃষ্ঠে অনেকগুলো ফাঁক কেটে ফেলা, যাতে ম্যাগনেটিক সিস্টেম টার্গেট মেটেরিয়ালের পৃষ্ঠে লিকেজ ম্যাগনেটিক ফিল্ড তৈরি করতে পারে, যার ফলে টার্গেটের পৃষ্ঠে একটি অর্থোগোনাল ম্যাগনেটিক ফিল্ড তৈরি হয় এবং ম্যাগনেট্রন স্পাটারিং ফিল্মের উদ্দেশ্য পূরণ হয়। বলা হয়ে থাকে যে, এই টার্গেট মেটেরিয়ালের পুরুত্ব ২০ মিমি পর্যন্ত হতে পারে।
–এই নিবন্ধটি প্রকাশ করেছেভ্যাকুয়াম কোটিং মেশিন প্রস্তুতকারকগুয়াংডং জেনহুয়া
পোস্টের সময়: ২৪-জানুয়ারি-২০২৪