1. Cible de chrome. Le chrome, utilisé comme matériau de pulvérisation cathodique, adhère facilement au substrat et forme un film de CrO₃. Ce film présente d'excellentes propriétés mécaniques, une résistance accrue aux acides et une stabilité thermique supérieure. De plus, le chrome à l'état d'oxydation incomplet peut également former un film faiblement absorbant. Il a été démontré que des cibles rectangulaires ou cylindriques en chrome d'une pureté supérieure à 98 % sont fabriquées. Par ailleurs, la technique de frittage pour la fabrication de cibles rectangulaires en chrome est bien maîtrisée.
2. Préparation des cibles ITO. Auparavant, les cibles à film ITO étaient généralement fabriquées à partir d'alliages In-Sn, puis recouvertes d'oxygène pour former le film ITO. Cette méthode présentait des difficultés de contrôle des gaz de réaction et une faible reproductibilité. C'est pourquoi, ces dernières années, elle a été remplacée par le frittage des cibles ITO. Le procédé typique de fabrication des cibles ITO consiste à broyer les matériaux selon leur rapport massique afin d'obtenir un mélange homogène. Un agent composite en poudre organique spécifique est ensuite ajouté pour obtenir la forme requise. Après compactage sous pression, la plaque est chauffée à 1600 °C à une vitesse de 100 °C/h, maintenue à cette température pendant 1 heure, puis refroidie à température ambiante à une vitesse de 100 °C/h. Lors de la fabrication des cibles, leur surface doit être polie afin d'éviter les points chauds lors de la pulvérisation cathodique.
3. Les cibles en or et en alliage d'or, au lustre exceptionnel et à la bonne résistance à la corrosion, constituent des matériaux de revêtement décoratifs idéaux. La méthode de placage humide utilisée auparavant présentait une faible adhérence du film, une faible résistance mécanique et une mauvaise résistance à l'abrasion, ainsi que des problèmes de pollution des liquides résiduaires ; elle a donc été inévitablement remplacée par le placage à sec. Il existe différents types de cibles : planes, composites localisées, tubulaires, tubulaires composites localisées, etc. Leur fabrication repose principalement sur un processus comprenant la fusion sous vide, le décapage, le laminage à froid, le recuit, le laminage fin, le cisaillement, le nettoyage de surface, le laminage à froid et l'encapsulation composite. Cette technologie a été validée en Chine et son utilisation a donné d'excellents résultats.
4. Cible en matériau magnétique. Les cibles en matériau magnétique sont principalement utilisées pour le dépôt de couches minces magnétiques sur des têtes, des disques et autres dispositifs à couches minces magnétiques. La pulvérisation cathodique magnétronique à courant continu étant plus complexe pour les matériaux magnétiques, on utilise des cibles CT de type « cible à fente ». Le principe consiste à découper de nombreuses fentes à la surface du matériau cible afin de générer un champ magnétique de fuite. Ce champ magnétique orthogonal à la surface de la cible permet le dépôt de la couche par pulvérisation cathodique magnétronique. L'épaisseur de ces cibles peut atteindre 20 mm.
–Cet article est publié parfabricant de machines de revêtement sous videGuangdong Zhenhua
Date de publication : 24 janvier 2024