Magnetron püskürtme, asosan, zaryadsizlanish plazmasini tashish, maqsadli kesish, yupqa plyonkani cho'ktirish va boshqa jarayonlarni o'z ichiga oladi, magnetronni püskürtme jarayoniga magnit maydon ta'sir qiladi. Magnitron chayqash tizimida va ortogonal magnit maydonda elektronlar Lorentz kuchining roliga bo'ysunadi va spiral traektoriya harakatini amalga oshiradi, asta-sekin anodga o'tish uchun doimiy to'qnashuvdan o'tishi kerak, to'qnashuv tufayli elektronlarning bir qismini energiya kichik bo'lgandan keyin anodga etib boradi, bombardimonning issiqligi ham substratda katta emas. Bundan tashqari, maqsadli magnit maydon cheklovlari bilan elektron tufayli, tushirish uchish-qo'nish yo'lagida joylashgan hududning magnit ta'sirining maqsadli yuzasida elektron kontsentratsiyasining bu mahalliy kichik diapazoni juda yuqori bo'ladi va substrat sirtidan tashqarida joylashgan hududning magnit ta'sirida, ayniqsa sirt yaqinidagi magnit maydondan uzoqda, elektron kontsentratsiyasining tarqalishiga qaraganda ancha past va nisbiy bir tekis taqsimlanish shartlari. (kattalik tartibidagi ikkita ishchi gaz bosimi farqi tufayli). Substratning sirtini bombardimon qiluvchi elektronlarning past zichligi, shuning uchun substratning magnetronli sputtering substrat harorati ko'tarilishining asosiy mexanizmi bo'lgan past harorat ko'tarilishidan kelib chiqadigan substratning bombardimon qilinishi past bo'ladi. Bundan tashqari, agar faqat elektr maydoni mavjud bo'lsa, elektronlar juda qisqa masofadan keyin anodga etib boradi va ish gazi bilan to'qnashuv ehtimoli faqat 63,8% ni tashkil qiladi. Va magnit maydonni qo'shing, spiral harakatni amalga oshirish uchun anodga o'tish jarayonida elektronlar, magnit maydon bog'lanadi va elektronlar traektoriyasini kengaytiradi, elektronlar va ish gazlarining to'qnashuvi ehtimolini sezilarli darajada yaxshilaydi, bu ionlanish, ionlanish paydo bo'lishiga katta yordam beradi va keyin yana elektronlar hosil bo'ladi, shuningdek, bir nechta to'qnashuv jarayoniga qo'shilishi mumkin, kattaligi, elektronlar energiyasidan samarali foydalanish va shuning uchun yuqori zichlik hosil bo'lishida plazma zichligi plazmaning anomal porlashi zaryadsizlanishida ortadi. Nishondan atomlarni chiqarish tezligi ham oshadi va nishonni musbat ionlar bilan bombardimon qilish natijasida yuzaga keladigan maqsadli chayqalish samaraliroq bo'ladi, bu esa magnetronning purkash cho'kishining yuqori tezligining sababidir. Bundan tashqari, magnit maydonning mavjudligi, shuningdek, chayqalish tizimini pastroq havo bosimida ishlashiga olib kelishi mumkin, havo bosimi uchun past 1 to'qnashuvni kamaytirish uchun g'ilof qatlami hududida ionlar hosil qilishi mumkin, nishonni nisbatan katta kinetik energiya bilan bombardimon qilish va kunni kamaytirish imkoniyatiga ega bo'lishi mumkin bo'lgan nishon atomlari va neytral gaz to'qnashuvi, nishon atomlarining devorga o'rnatilishini oldini olish yoki devorga o'rnatilishini oldini olish. sirt, yupqa plyonka cho'kmasining tezligi va sifatini yaxshilash uchun.
Maqsadli magnit maydon elektronlarning traektoriyasini samarali ravishda cheklab qo'yishi mumkin, bu esa o'z navbatida plazma xususiyatlariga va nishondagi ionlarning parchalanishiga ta'sir qiladi.
Iz: maqsadli magnit maydonning bir xilligini oshirish, maqsadli sirtni kesishning bir xilligini oshirishi mumkin, shu bilan maqsadli materialdan foydalanishni yaxshilaydi; elektromagnit maydonning oqilona taqsimlanishi, shuningdek, püskürtme jarayonining barqarorligini samarali ravishda yaxshilashi mumkin. Shuning uchun, magnetronni püskürtme maqsadi uchun magnit maydonning o'lchami va taqsimlanishi juda muhimdir.
- Ushbu maqola nashr etilganvakuumli qoplama mashinasi ishlab chiqaruvchisiGuangdong Chjenxua
Yuborilgan vaqt: 2023 yil 14-dekabr