Percikan magnetron terutamanya merangkumi pengangkutan plasma nyahcas, etsa sasaran, pemendapan filem nipis dan proses lain, medan magnet pada proses percikan magnetron akan memberi kesan. Dalam sistem percikan magnetron ditambah medan magnet ortogon, elektron tertakluk kepada peranan daya Lorentz dan melakukan pergerakan trajektori lingkaran, mesti mengalami perlanggaran berterusan untuk bergerak secara beransur-ansur ke anod, disebabkan oleh perlanggaran yang membuatkan sebahagian elektron sampai ke anod selepas tenaganya kecil, haba pengeboman pada substrat juga tidak besar. Di samping itu, disebabkan oleh kekangan medan magnet sasaran oleh elektron, pada permukaan sasaran kesan magnet kawasan yang berada dalam landasan nyahcas, julat kepekatan elektron tempatan yang kecil ini adalah sangat tinggi, dan dalam kesan magnet kawasan di luar permukaan substrat, terutamanya jauh dari medan magnet berhampiran permukaan, kepekatan elektron disebabkan oleh penyebaran taburan yang jauh lebih rendah dan agak seragam, dan lebih rendah daripada keadaan percikan dipol (kerana perbezaan tekanan gas kerja dua peringkat magnitud). Ketumpatan elektron yang rendah membedil permukaan substrat, jadi pengeboman substrat yang disebabkan oleh kenaikan suhu yang lebih rendah, yang merupakan mekanisme utama peningkatan suhu substrat magnetron adalah rendah. Di samping itu, jika hanya terdapat medan elektrik, elektron akan sampai ke anod selepas jarak yang sangat pendek, dan kebarangkalian perlanggaran dengan gas kerja hanya 63.8%. Dan tambah medan magnet, elektron dalam proses bergerak ke anod untuk melakukan gerakan lingkaran, medan magnet terikat dan melanjutkan trajektori elektron, dengan ketara meningkatkan kebarangkalian perlanggaran elektron dan gas kerja, yang sangat menggalakkan berlakunya pengionan, pengionan dan kemudian menghasilkan elektron juga menyertai proses perlanggaran, kebarangkalian perlanggaran boleh ditingkatkan dengan beberapa peringkat magnitud, penggunaan tenaga elektron yang berkesan, dan dengan itu dalam pembentukan ketumpatan tinggi Ketumpatan plasma meningkat dalam pelepasan cahaya anomali plasma. Kadar percikan atom keluar dari sasaran juga meningkat, dan percikan sasaran yang disebabkan oleh pengeboman sasaran oleh ion positif adalah lebih berkesan, yang merupakan sebab kadar pemendapan percikan magnetron yang tinggi. Di samping itu, kehadiran medan magnet juga boleh menjadikan sistem percikan beroperasi pada tekanan udara yang lebih rendah, 1 rendah untuk tekanan udara boleh menjadikan ion di kawasan lapisan sarung untuk mengurangkan perlanggaran, pengeboman sasaran dengan tenaga kinetik yang agak besar, dan hari untuk dapat mengurangkan perlanggaran atom sasaran yang terpercik dan gas neutral, untuk mengelakkan atom sasaran daripada berselerak ke dinding peranti atau melantun kembali ke permukaan sasaran, untuk meningkatkan kadar dan kualiti pemendapan filem nipis.
Medan magnet sasaran boleh mengekang trajektori elektron secara berkesan, yang seterusnya mempengaruhi sifat plasma dan pengetsaan ion pada sasaran.
Jejak: meningkatkan keseragaman medan magnet sasaran boleh meningkatkan keseragaman ukiran permukaan sasaran, sekali gus meningkatkan penggunaan bahan sasaran; taburan medan elektromagnet yang munasabah juga boleh meningkatkan kestabilan proses percikan dengan berkesan. Oleh itu, untuk sasaran percikan magnetron, saiz dan taburan medan magnet adalah sangat penting.
–Artikel ini dikeluarkan olehpengeluar mesin salutan vakumGuangdong Zhenhua
Masa siaran: 14 Dis-2023