ʻO ka Magnetron sputtering ka mea nui e pili ana i ka lawe ʻana o ka plasma hoʻokuʻu, ka etching target, ka waiho ʻana o ka ʻili lahilahi a me nā kaʻina hana ʻē aʻe, e loaʻa ka hopena o ke kahua magnetic ma ke kaʻina hana magnetron sputtering. I loko o ka ʻōnaehana magnetron sputtering me ke kahua magnetic orthogonal, ua pili nā electrons i ke kuleana o ka ikaika Lorentz a hana i ka neʻe ʻana o ke ala spiral, pono e hele i ka collision mau e neʻe mālie i ka anode, ma muli o ka collision e hiki ai i kahi hapa o nā electrons i ka anode ma hope o ka liʻiliʻi o ka ikehu, ʻaʻole nui ka wela o ka hoʻouka ʻana ma luna o ka substrate. Eia kekahi, ma muli o ke electron e nā palena o ke kahua magnetic target, ma ka ʻili target o ka hopena magnetic o ka ʻāpana i loko o ke ala holo hoʻokuʻu he kiʻekiʻe loa kēia pae liʻiliʻi o ka nui o ka electron, a ma ka hopena magnetic o ka ʻāpana ma waho o ka ʻili substrate, ʻoi aku ka mamao mai ke kahua magnetic kokoke i ka ʻili, ʻo ka nui o ka electron ma muli o ka hoʻolaha ʻana o ka haʻahaʻa loa a me ka like like, a ʻoi aku ka haʻahaʻa ma mua o nā kūlana dipole sputtering (ma muli o ka ʻokoʻa o ke kaomi kinoea hana ʻelua o ke kauoha o ka nui). ʻO ka haʻahaʻa o ka nui o nā electrons e hoʻouka ana i ka ʻili o ka substrate, no laila ʻo ka hoʻouka ʻana o ka substrate i hoʻokumu ʻia e ka piʻi ʻana o ka mahana haʻahaʻa, ʻo ia ke ʻano nui o ka piʻi ʻana o ka mahana o ka substrate magnetron he haʻahaʻa. Eia kekahi, inā he kahua uila wale nō, hiki nā electrons i ka anode ma hope o kahi mamao pōkole loa, a ʻo ka likelika o ke kuʻi ʻana me ke kinoea hana he 63.8% wale nō. A hoʻohui i ke kahua magnetic, nā electrons i ke kaʻina hana o ka neʻe ʻana i ka anode e hana i ka neʻe spiral, ua hoʻopaʻa ʻia ke kahua magnetic a hoʻolōʻihi i ke ala o nā electrons, e hoʻomaikaʻi nui ana i ka likelika o ke kuʻi ʻana o nā electrons a me nā kinoea hana, kahi e hoʻolaha nui ai i ka hanana o ka ionization, ionization a laila hana hou i nā electrons e hui pū me ke kaʻina hana o ke kuʻi ʻana, hiki ke hoʻonui ʻia ka likelika o ke kuʻi ʻana e kekahi mau kauoha o ka nui, ka hoʻohana pono ʻana i ka ikehu o nā electrons, a pēlā i ka hoʻokumu ʻana o ka nui o ka nui o ka plasma e hoʻonui i ka hoʻokuʻu ʻana o ka plasma anomalous glow. Hoʻonui ʻia ka wikiwiki o ka hoʻokuʻu ʻana i nā ʻātoma mai ka pahuhopu, a ʻoi aku ka maikaʻi o ka hoʻokuʻu ʻana o ka pahuhopu i hoʻokumu ʻia e ka hoʻouka kaua ʻana o ka pahuhopu e nā ion maikaʻi, ʻo ia ke kumu o ka wikiwiki kiʻekiʻe o ka hoʻopaʻa ʻana o ka magnetron sputtering. Eia kekahi, hiki i ke alo o ke kahua magnetic ke hana i ka ʻōnaehana sputtering e hana ana ma ke kaomi ea haʻahaʻa, hiki i ka haʻahaʻa 1 no ke kaomi ea ke hana i nā ion i loko o ka ʻāpana papa sheath e hōʻemi i ka collision, ka hoʻouka kaua ʻana o ka pahuhopu me ka ikehu kinetic nui, a me ka lā e hiki ai ke hōʻemi i nā ʻātoma pahuhopu sputtering a me ka collision kinoea neutral, e pale i nā ʻātoma pahuhopu mai ka hoʻopuehu ʻia ʻana i ka paia o ka hāmeʻa a i ʻole e hoʻihoʻi ʻia i ka ʻili o ka pahuhopu, e hoʻomaikaʻi i ka wikiwiki a me ke ʻano o ka hoʻopaʻa ʻana o ka kiʻiʻoniʻoni lahilahi.
Hiki i ke kahua magnetic i manaʻo ʻia ke kāohi pono i ke ala o nā electrons, a ʻo ia hoʻi ka mea e hoʻopilikia ai i nā waiwai plasma a me ke kahakaha ʻana o nā ions ma ka pahuhopu.
Trace: hiki i ka hoʻonui ʻana i ke ʻano like o ke kahua magnetic target ke hoʻonui i ke ʻano like o ke kālai ʻana o ka ʻili target, a laila e hoʻomaikaʻi ana i ka hoʻohana ʻana i nā mea target; hiki i ka hoʻolaha kūpono o ke kahua electromagnetic ke hoʻomaikaʻi maikaʻi i ke kūpaʻa o ke kaʻina hana sputtering. No laila, no ka pahuhopu magnetron sputtering, he mea nui loa ka nui a me ka hoʻolaha ʻana o ke kahua magnetic.
–Ua hoʻokuʻu ʻia kēia ʻatikala emea hana mīkini uhi hakahakaGuangdong Zhenhua
Ka manawa hoʻouna: Dec-14-2023