1. Termal CVD texnologiyasi
Qattiq qoplamalar asosan metall keramik qoplamalar (TiN va boshqalar) bo'lib, ular qoplamadagi metallning reaksiyasi va reaktiv gazifikatsiya natijasida hosil bo'ladi. Dastlab, termal CVD texnologiyasi 1000 ℃ yuqori haroratda issiqlik energiyasi bilan kombinatsiya reaksiyasining faollashuv energiyasini ta'minlash uchun ishlatilgan. Bu harorat faqat TiN va boshqa qattiq qoplamalarni sementlangan karbid asboblariga qo'llash uchun mos keladi. Hozircha TiN-Al20 kompozit qoplamalarini sementlangan karbid asboblari boshlariga qo'llash hali ham muhim texnologiya hisoblanadi.
2. Bo'sh katodli ion qoplamasi va issiq simli yoyli ion qoplamasi
1980-yillarda qoplangan kesish asboblarini yotqizish uchun ichi bo'sh katod ion qoplamasi va issiq simli yoy ion qoplamasi ishlatilgan. Bu ikkala ion qoplama texnologiyasi ham yoy zaryadsizlanishi ion qoplama texnologiyalari bo'lib, metall ionlanish darajasi 20% ~ 40% gacha.
3. Katod yoyli ion qoplamasi
Katod yoyli ion qoplamasining paydo bo'lishi qoliplarga qattiq qoplamalarni qo'yish texnologiyasining rivojlanishiga olib keldi. Katod yoyli ion qoplamasining ionlanish darajasi 60% ~ 90% ni tashkil qiladi, bu esa ko'p miqdordagi metall ionlari va reaksiya gazi ionlarining ish qismi yuzasiga yetib borishiga va yuqori faollikni saqlab qolishiga imkon beradi, natijada reaksiya cho'kishi va TiN kabi qattiq qoplamalar hosil bo'ladi. Hozirgi vaqtda katod yoyli ion qoplama texnologiyasi asosan qoliplarga qattiq qoplamalarni qo'yish uchun ishlatiladi.
Katod yoy manbai - bu qattiq eritilgan hovuzsiz qattiq holatdagi bug'lanish manbai bo'lib, yoy manbai pozitsiyasini o'zboshimchalik bilan joylashtirish mumkin, bu qoplama xonasining joydan foydalanish tezligini yaxshilaydi va pechning yuklash qobiliyatini oshiradi. Katod yoy manbalarining shakllari kichik dumaloq katod yoy manbalari, ustunli yoy manbalari va to'rtburchaklar yassi katta yoy manbalarini o'z ichiga oladi. Kichik yoy manbalari, ustunli yoy manbalari va katta yoy manbalarining turli komponentlari ko'p qatlamli plyonkalar va nano ko'p qatlamli plyonkalarni yotqizish uchun alohida joylashtirilishi mumkin. Shu bilan birga, katod yoy ion qoplamasining yuqori metall ionlanish tezligi tufayli metall ionlari ko'proq reaksiya gazlarini yutishi mumkin, bu esa keng jarayon diapazoni va ajoyib qattiq qoplamalarni olish uchun oddiy operatsiyani ta'minlaydi. Biroq, katod yoy ion qoplamasi bilan olingan qoplama qatlamining mikrotuzilmasida qo'pol tomchilar mavjud. So'nggi yillarda plyonka qatlamining tuzilishini takomillashtirish uchun ko'plab yangi texnologiyalar paydo bo'ldi, bu esa yoy ion qoplama plyonkasining sifatini yaxshiladi.
——Ushbu maqola Guangdong Zhenhua Technology tomonidan nashr etilganoptik qoplama mashinalari ishlab chiqaruvchisi.
Nashr vaqti: 2023-yil 28-aprel