1. Tecnología CVD térmica
Los recubrimientos duros son principalmente recubrimientos metalocerámicos (TiN, etc.), que se forman mediante la reacción del metal en el recubrimiento y la gasificación reactiva. Inicialmente, se utilizó la tecnología CVD térmica para proporcionar la energía de activación de la reacción de combinación mediante energía térmica a una alta temperatura de 1000 °C. Esta temperatura solo es adecuada para depositar TiN y otros recubrimientos duros en herramientas de carburo cementado. Hasta la fecha, sigue siendo una tecnología importante para depositar recubrimientos compuestos de TiN-Al20 en cabezales de herramientas de carburo cementado.
2. Recubrimiento iónico de cátodo hueco y recubrimiento iónico de arco de alambre caliente
En la década de 1980, se utilizaron el recubrimiento iónico de cátodo hueco y el recubrimiento iónico de arco de alambre caliente para depositar recubrimientos en herramientas de corte. Ambas tecnologías de recubrimiento iónico son tecnologías de recubrimiento iónico por descarga de arco, con una tasa de ionización del metal de hasta un 20 % a un 40 %.
3. Recubrimiento iónico de arco catódico
La aparición del recubrimiento iónico por arco catódico ha impulsado el desarrollo de la tecnología de deposición de recubrimientos duros en moldes. La tasa de ionización de este proceso oscila entre el 60 % y el 90 %, lo que permite que una gran cantidad de iones metálicos e iones de gas reactivo alcancen la superficie de la pieza y mantengan una alta actividad, dando como resultado la deposición por reacción y la formación de recubrimientos duros como el TiN. Actualmente, la tecnología de recubrimiento iónico por arco catódico se utiliza principalmente para depositar recubrimientos duros en moldes.
La fuente de arco catódico es una fuente de evaporación de estado sólido sin un baño de fusión fijo, y su posición puede colocarse arbitrariamente, lo que mejora la tasa de utilización del espacio en la sala de recubrimiento y aumenta la capacidad de carga del horno. Las formas de las fuentes de arco catódico incluyen fuentes de arco catódico circulares pequeñas, fuentes de arco columnares y fuentes de arco planas rectangulares grandes. Los diferentes componentes de las fuentes de arco pequeñas, columnares y grandes pueden disponerse por separado para depositar películas multicapa y nanopelículas multicapa. Además, debido a la alta tasa de ionización del metal en el recubrimiento iónico de arco catódico, los iones metálicos pueden absorber más gases de reacción, lo que resulta en un amplio rango de procesamiento y una operación sencilla para obtener excelentes recubrimientos duros. Sin embargo, existen gotas gruesas en la microestructura de la capa de recubrimiento obtenida mediante el recubrimiento iónico de arco catódico. En los últimos años, han surgido muchas tecnologías nuevas para refinar la estructura de la capa de película, lo que ha mejorado la calidad de la película de recubrimiento iónico de arco.
—Este artículo fue publicado por Guangdong Zhenhua Technology, unafabricante de máquinas de recubrimiento óptico.
Fecha de publicación: 28 de abril de 2023