Бөтерелгән каплауның үсеше белән, аеруча магнитрон спуттеринг каплау технологиясе, хәзерге вакытта, теләсә нинди материал өчен ион бомбардировщик пленка белән әзерләнергә мөмкин, чөнки максат аны ниндидер субстратка каплау процессында чәчелгән, үлчәнгән фильмның сыйфаты мөһим йогынты ясый, шуңа күрә максат материалына таләпләр дә катгый. Максатлы материалны сайлауда, фильмны куллануга өстәп, түбәндәге сорауларны да карарга кирәк:
Максатлы материал фильмнан соң яхшы механик көч һәм химик тотрыклылыкка ия булырга тиеш;
Максат һәм субстрат нык кушылырга тиеш, югыйсә аны субстрат белән мембрана катламының яхшы комбинациясе белән алырга кирәк, башта төп пленканы чәчеп, аннары кирәкле мембрана катламын әзерләү;
Мембрана материалына таралган реакция буларак, катнаш фильм ясау өчен газ белән реакция җиңел булырга тиеш.
Мембрананың эш таләпләрен канәгатьләндерү шартларында, максатлы материалның җылылык киңәю коэффициенты белән субстрат арасындагы аерма мөмкин кадәр кечкенә, җылылык стрессының бозылган мембранага тәэсирен киметү өчен.
Мембрананың кулланылышы һәм эш таләпләре буенча, максатлы материал чисталыкка, пычраклыкка, компонентларның бердәмлегенә, эшкәртү төгәллегенә һәм башка техник таләпләргә туры килергә тиеш.
IsБу мәкалә бастырылганвакуум каплау машинасы җитештерүчеГуандун Чжэнхуа
Пост вакыты: Ян-09-2024