மேக்னட்ரான் ஸ்பட்டரிங் முக்கியமாக டிஸ்சார்ஜ் பிளாஸ்மா போக்குவரத்து, இலக்கு பொறித்தல், மெல்லிய படல படிவு மற்றும் பிற செயல்முறைகளை உள்ளடக்கியது, மேக்னட்ரான் ஸ்பட்டரிங் செயல்பாட்டில் உள்ள காந்தப்புலம் ஒரு தாக்கத்தை ஏற்படுத்தும். மேக்னட்ரான் ஸ்பட்டரிங் அமைப்பு மற்றும் செங்குத்து காந்தப்புலத்தில், எலக்ட்ரான்கள் லோரென்ட்ஸ் விசையின் பங்கிற்கு உட்பட்டவை மற்றும் சுழல் பாதை இயக்கத்தை செய்கின்றன, படிப்படியாக அனோடை நோக்கி நகர நிலையான மோதலுக்கு உட்படுத்தப்பட வேண்டும், மோதல் காரணமாக எலக்ட்ரான்களின் ஒரு பகுதியை ஆற்றல் சிறியதாக இருந்த பிறகு அனோடை அடையச் செய்கிறது, அடி மூலக்கூறின் மீது குண்டுவீச்சு வெப்பமும் பெரிதாக இல்லை. கூடுதலாக, இலக்கு காந்தப்புலக் கட்டுப்பாடுகளால் எலக்ட்ரான் இருப்பதால், வெளியேற்ற ஓடுபாதையில் உள்ள பகுதியின் காந்த விளைவின் இலக்கு மேற்பரப்பில் இந்த உள்ளூர் சிறிய அளவிலான எலக்ட்ரான் செறிவு மிக அதிகமாக உள்ளது, மேலும் அடி மூலக்கூறு மேற்பரப்பிற்கு வெளியே உள்ள பகுதியின் காந்த விளைவில், குறிப்பாக மேற்பரப்புக்கு அருகிலுள்ள காந்தப்புலத்திலிருந்து விலகி, எலக்ட்ரான் செறிவு மிகவும் குறைவான மற்றும் ஒப்பீட்டளவில் சீரான விநியோகத்தின் சிதறல் காரணமாகவும், இருமுனை ஸ்பட்டரிங் நிலைமைகளை விடக் குறைவாகவும் உள்ளது (அளவு வரிசையின் இரண்டு வேலை வாயு அழுத்த வேறுபாடு காரணமாக). அடி மூலக்கூறின் மேற்பரப்பில் எலக்ட்ரான்கள் தாக்குவது குறைந்த அடர்த்தியாகும், இதனால் குறைந்த வெப்பநிலை உயர்வால் ஏற்படும் அடி மூலக்கூறின் மீது தாக்குதல் குறைவாக இருக்கும், இது மேக்னட்ரான் ஸ்பட்டரிங் அடி மூலக்கூறு வெப்பநிலை உயர்வின் முக்கிய வழிமுறையாகும். கூடுதலாக, ஒரு மின்சார புலம் மட்டுமே இருந்தால், எலக்ட்ரான்கள் மிகக் குறுகிய தூரத்திற்குப் பிறகு அனோடை அடைகின்றன, மேலும் வேலை செய்யும் வாயுவுடன் மோதுவதற்கான நிகழ்தகவு 63.8% மட்டுமே. மேலும் காந்தப்புலத்தைச் சேர்க்கவும், சுழல் இயக்கத்தைச் செய்ய அனோடிற்கு நகரும் செயல்பாட்டில் எலக்ட்ரான்கள், காந்தப்புலம் பிணைக்கப்பட்டு எலக்ட்ரான்களின் பாதையை நீட்டிக்கிறது, எலக்ட்ரான்கள் மற்றும் வேலை செய்யும் வாயுக்களின் மோதலின் நிகழ்தகவை பெரிதும் மேம்படுத்துகிறது, இது அயனியாக்கம், அயனியாக்கம் மற்றும் மீண்டும் எலக்ட்ரான்களை உற்பத்தி செய்வதை பெரிதும் ஊக்குவிக்கிறது, மேலும் மோதலின் நிகழ்தகவை பல அளவு ஆர்டர்களால் அதிகரிக்கலாம், எலக்ட்ரான்களின் ஆற்றலை திறம்பட பயன்படுத்தலாம், இதனால் அதிக அடர்த்தி உருவாவதில் பிளாஸ்மா அடர்த்தி பிளாஸ்மாவின் ஒழுங்கற்ற பளபளப்பு வெளியேற்றத்தில் அதிகரிக்கிறது. இலக்கிலிருந்து அணுக்களை வெளியேற்றும் வீதமும் அதிகரிக்கிறது, மேலும் நேர்மறை அயனிகளால் இலக்கு மீது குண்டு வீசுவதால் ஏற்படும் இலக்கு துப்புதல் மிகவும் பயனுள்ளதாக இருக்கும், இது மேக்னட்ரான் ஸ்பட்டரிங் படிவு விகிதத்தின் உயர்விற்கு காரணமாகும். கூடுதலாக, காந்தப்புலத்தின் இருப்பு, குறைந்த காற்று அழுத்தத்தில் ஸ்பட்டரிங் அமைப்பை இயக்கச் செய்யலாம், காற்று அழுத்தத்திற்கு குறைந்த 1, உறை அடுக்கு பகுதியில் அயனிகளை உருவாக்கி, மோதலைக் குறைக்கலாம், ஒப்பீட்டளவில் பெரிய இயக்க ஆற்றலுடன் இலக்கை குண்டு வீசலாம், மேலும் நாள் சிதறடிக்கப்பட்ட இலக்கு அணுக்கள் மற்றும் நடுநிலை வாயு மோதலைக் குறைக்க முடியும், இலக்கு அணுக்கள் சாதனத்தின் சுவரில் சிதறடிக்கப்படுவதைத் தடுக்க அல்லது இலக்கு மேற்பரப்புக்குத் திரும்புவதைத் தடுக்க, மெல்லிய படல படிவின் வீதத்தையும் தரத்தையும் மேம்படுத்த.
இலக்கு காந்தப்புலம் எலக்ட்ரான்களின் பாதையை திறம்பட கட்டுப்படுத்த முடியும், இது பிளாஸ்மா பண்புகளையும் இலக்கில் அயனிகளின் பொறிப்பையும் பாதிக்கிறது.
சுவடு: இலக்கு காந்தப்புலத்தின் சீரான தன்மையை அதிகரிப்பது இலக்கு மேற்பரப்பு பொறிப்பின் சீரான தன்மையை அதிகரிக்கும், இதனால் இலக்கு பொருளின் பயன்பாட்டை மேம்படுத்துகிறது; நியாயமான மின்காந்த புல விநியோகம் தெளித்தல் செயல்முறையின் நிலைத்தன்மையையும் திறம்பட மேம்படுத்தும். எனவே, மேக்னட்ரான் ஸ்பட்டரிங் இலக்குக்கு, காந்தப்புலத்தின் அளவு மற்றும் விநியோகம் மிகவும் முக்கியமானது.
–இந்தக் கட்டுரையை வெளியிட்டதுவெற்றிட பூச்சு இயந்திர உற்பத்தியாளர்குவாங்டாங் ஜென்ஹுவா
இடுகை நேரம்: டிசம்பர்-14-2023