Pamoja na maendeleo ya kuongezeka ya mipako sputtering, hasa magnetron sputtering teknolojia ya mipako, kwa sasa, kwa nyenzo yoyote inaweza kuwa tayari na ion bombardment lengo filamu, kwa sababu lengo ni sputtered katika mchakato wa mipako kwa aina fulani ya substrate, ubora wa filamu kipimo ina athari muhimu, kwa hiyo, mahitaji ya nyenzo lengo pia ni kali zaidi. Katika uteuzi wa nyenzo zinazolengwa, pamoja na utumiaji wa filamu yenyewe inapaswa kuchaguliwa, inapaswa pia kuzingatia maswala yafuatayo:
Nyenzo inayolengwa inapaswa kuwa na nguvu nzuri ya mitambo na utulivu wa kemikali baada ya filamu;
Lengo na substrate lazima imara pamoja, vinginevyo inapaswa kuchukuliwa na substrate ina mchanganyiko mzuri wa safu ya membrane, kwanza sputtering filamu ya msingi na kisha maandalizi ya safu ya utando required;
Kama mmenyuko sputtering katika nyenzo ya utando lazima iwe rahisi kuguswa na gesi ili kuzalisha filamu kiwanja.
Chini ya msingi wa kukidhi mahitaji ya utendaji wa utando, tofauti kati ya mgawo wa upanuzi wa joto wa nyenzo inayolengwa na substrate ni ndogo iwezekanavyo, ili kupunguza ushawishi wa mkazo wa joto kwenye membrane iliyopigwa.
Kulingana na mahitaji ya matumizi na utendaji wa utando, nyenzo inayolengwa lazima ikidhi usafi, maudhui ya uchafu, usawa wa sehemu, usahihi wa machining na mahitaji mengine ya kiufundi.
- Nakala hii imetolewa namtengenezaji wa mashine ya mipako ya utupuGuangdong Zhenhua
Muda wa kutuma: Jan-09-2024