Att möta filmens tillväxt har en mycket viktig inverkan. Om substratets ytjämnhet är stor och i kombination med ytdefekter kommer det att påverka filmens vidhäftning och tillväxthastighet. Därför kommer substratet att förbehandlas innan vakuumbeläggningen påbörjas, vilket påverkar substratets ytjämnhet på substratets yta. Efter ultraljudsinterventionen kommer substratets yta att bildas en liten repa, vilket ökar kontaktytan mellan de tunna filmpartiklarna och substratets yta, vilket avsevärt kan öka rotorns och membranbasens kombination av formalitet.
För de flesta substratmaterial, allt eftersom substratets ojämnhet minskar, ökar filmens vidhäftning, det vill säga att membranbasens bindningskraft blir starkare; det finns också vissa substratmaterial som är specialfall, såsom filmens vidhäftning på den keramiska basen. Minskad grad, det vill säga att membranbasens bindningskraft försvagas.
Bland de påverkande faktorerna som matchar filmen spelar den termiska bulkkoefficienten en avgörande roll. När filmens termiska expansionskoefficient är större än matrisens termiska expansionskoefficient är vridmomentet negativt och den maximala spänningen är vid den fria gränsen. Den är nära mitten av filmens centrum för att komprimeras, och filmen kan se skiktad ut. Ta den sedimentära Skinus-tunnfilmen som ett exempel. Eftersom diamantens termiska expansionskoefficient är liten, sänks substrattemperaturen från en högre sedimentär temperatur till rumstemperatur när gasfasavsättningen är över, och diamantens kontraktion minskar jämfört med substratet. En stor termisk spänning kommer att produceras inuti. När filmens termiska expansionskoefficient är mindre än substratets värmeledgerkoefficient är vridmomentet positivt och filmen är inte lätt att skikta.
–Denna artikel är publicerad avtillverkare av vakuumbeläggningsmaskinerGuangdong Zhenhua
Publiceringstid: 29 februari 2024