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La forma de la superficie y el coeficiente de expansión térmica del sustrato en la película

Fuente del artículo: Aspiradora Zhenhua
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Publicado: 24-02-29

El crecimiento de la película tiene un impacto muy importante. Si la rugosidad superficial del sustrato es elevada y presenta numerosos defectos, afectará la adherencia y la velocidad de crecimiento de la película. Por lo tanto, antes de comenzar el recubrimiento al vacío, se realiza un pretratamiento del sustrato, que reduce la rugosidad superficial. Tras la intervención ultrasónica, la superficie del sustrato presenta pequeñas estrías que aumentan el área de contacto entre las partículas de la película delgada y la superficie del sustrato, lo que incrementa significativamente la adherencia del rotor y la unión de la membrana.

Para la mayoría de los materiales de sustrato, a medida que disminuye la rugosidad del sustrato, aumenta la adhesión de la película, es decir, la fuerza de unión de la membrana a la base se fortalece; también existen algunos materiales de sustrato que constituyen casos especiales, como la adhesión de la película a la base cerámica. En estos casos, la adhesión disminuye, es decir, la fuerza de unión de la membrana a la base se debilita.

En los factores que influyen en la interacción entre la película y la matriz, el coeficiente de expansión térmica juega un papel decisivo. Cuando el coeficiente de expansión térmica de la película es mayor que el de la matriz, el par es negativo y la tensión máxima se encuentra en el límite libre. Cerca del centro, se comprime y la película puede presentar estratificación. Tomemos como ejemplo la película delgada sedimentaria de Skinus. Debido a que el coeficiente de expansión térmica del diamante es pequeño, cuando finaliza la deposición en fase gaseosa, la temperatura del sustrato se reduce desde una temperatura sedimentaria más alta hasta la temperatura ambiente, y la contracción del diamante se reduce en comparación con el sustrato. Esto produce una gran tensión térmica interna. Cuando el coeficiente de expansión térmica de la película es menor que el coeficiente de expansión térmica del sustrato, el par es positivo y la película no se estratifica fácilmente.

–Este artículo es publicado porfabricante de máquinas de recubrimiento al vacíoGuangdong Zhenhua


Fecha de publicación: 29 de febrero de 2024