Růst filmu má velmi důležitý dopad. Pokud je drsnost povrchu substrátu velká a stále více se kombinuje s povrchovými vadami, ovlivní to rychlost přichycení a růstu filmu. Před zahájením vakuového nanášení je proto substrát předběžně opracován, což hraje roli v drsnosti povrchu substrátu. Po ultrazvukovém zásahu se na povrchu substrátu vytvoří malý škrábanec, který zvětší kontaktní plochu mezi částicemi tenkého filmu a povrchem substrátu, což může výrazně zvýšit formalitu rotoru a membránové základny.
U většiny substrátových materiálů platí, že s klesající drsností substrátu se zvyšuje adheze filmu, tj. síla vazby membrány na bázi membrány se zesiluje; existují také některé substrátové materiály, které jsou zvláštními případy, jako například přilnavost filmu ke keramické bázi. S klesajícím stupněm se síla vazby membrány na bázi membrány oslabuje.
Z faktorů, které ovlivňují vzájemný působení filmu a filmu, hraje rozhodující roli koeficient tepelné roztažnosti. Pokud je koeficient tepelné roztažnosti filmu větší než koeficient tepelné roztažnosti matrice, je točivý moment záporný a maximální napětí je na volné hranici. Blízko středu se film stlačuje a může se jevit vrstevnatý. Vezměte si jako příklad sedimentární tenký film Skinus. Protože koeficient tepelné roztažnosti diamantu je malý, po ukončení depozice v plynné fázi se teplota substrátu sníží z vyšší sedimentární teploty na pokojovou teplotu a smrštění diamantu se ve srovnání se substrátem sníží. Uvnitř vzniká velké tepelné napětí. Pokud je koeficient tepelné roztažnosti filmu menší než koeficient tepelné roztažnosti substrátu, je točivý moment kladný a film se obtížně vrství.
–Tento článek vydávávýrobce vakuových lakovacích strojůGuangdong Zhenhua
Čas zveřejnění: 29. února 2024