Menghadapi pertumbuhan filem mempunyai kesan yang sangat penting. Jika kekasaran permukaan substrat besar, dan semakin banyak digabungkan dengan kecacatan permukaan, ia akan menjejaskan kadar pelekatan dan pertumbuhan filem. Oleh itu, sebelum salutan vakum bermula, substrat akan diproses terlebih dahulu, yang memainkan peranan kekasaran permukaan substrat pada permukaan substrat. Selepas intervensi ultrasonik, permukaan substrat akan membentuk calar kecil, yang meningkatkan luas sentuhan zarah filem nipis dan permukaan substrat, yang boleh meningkatkan formaliti rotor dan gabungan asas membran dengan ketara.
Bagi kebanyakan bahan substrat, apabila kekasaran substrat berkurangan, lekatan filem meningkat, iaitu daya ikatan asas membran menjadi lebih kuat; terdapat juga beberapa bahan substrat yang merupakan kes khas, seperti pelekatan filem pada asas seramik. Darjah yang berkurangan, iaitu daya ikatan asas membran menjadi lemah.
Dalam faktor-faktor yang mempengaruhi filem dan filem, pekali pukal terma memainkan peranan penting. Apabila pekali pengembangan terma filem lebih besar daripada pekali pengembangan terma matriks, tork adalah negatif, dan tegangan maksimum berada pada sempadan bebas. Ia hampir dengan pusat pusat untuk dimampatkan, dan filem mungkin kelihatan berlapis. Ambil filem nipis Skinus sedimen sebagai contoh. Oleh kerana pekali pengembangan terma berlian adalah kecil, apabila pemendapan fasa gas tamat, suhu substrat dikurangkan daripada suhu sedimen yang lebih tinggi kepada suhu bilik, dan pengecutan berlian berkurangan berbanding substrat. Tegasan terma yang besar akan terhasil di dalam. Apabila pekali pengembangan terma filem kurang daripada pekali lejar pemanasan substrat, tork adalah positif, dan filem tidak mudah dilapisi.
–Artikel ini dikeluarkan olehpengeluar mesin salutan vakumGuangdong Zhenhua
Masa siaran: 29 Feb-2024