Le Matafaioi a le Maneta i le Magnetron Sputtering

Magnetron sputtering e masani lava e aofia ai felauaiga plasma lafoaia, etching sini, faʻapipiʻi ata manifinifi ma isi faiga, o le maneta i luga o le magnetron sputtering faagasologa o le ai ai se aafiaga. I totonu o le magnetron sputtering system ma orthogonal magnetic field, o le electrons e noatia i le matafaioi a le malosi Lorentz ma faia le taamilosaga o le taamilosaga, e tatau ona feagai ma feteʻenaʻiga faifaipea e faasolosolo malie atu i le anode, ona o le fetoʻai e faia ai se vaega o le eletise e oʻo atu i le anode pe a uma le malosi, e le tele foi le vevela o le pomu i luga o le substrate. E le gata i lea, ona o le eletise e ala i le faʻalavelave faʻamaneta, i luga o le faʻaogaina o le faʻamaneta o le itulagi o loʻo i totonu o le ala faʻasalalau e maualuga tele le faʻaogaina o le eletise eletise i le lotoifale, ma i le aafiaga faʻamaneta o le itulagi i fafo atu o le substrate, aemaise lava le mamao ese mai le maneta lata ane i luga, o le faʻaogaina o le eletise ona o le faʻasalalauina o le tele o le faʻaogaina o le kasa, ma e oʻo lava i lalo ifo o le vaeluaga o le mamafa o le kasa, ma e oʻo lava i lalo ifo o le vaeluaga o le mamafa o le kasa. se faasologa o le tele). Le maualalo density o electrons bombarding luga o le substrate, ina ia o le pomu o le substrate mafua mai i le maualuga o le vevela maualalo, lea o le faiga autu o le magnetron sputtering substrate vevela siitia e maualalo. E le gata i lea, afai e naʻo se eletise eletise, e oʻo atu le eletise i le anode pe a maeʻa sina mamao, ma o le avanoa o le faʻalavelaveina ma le kesi galue e na o le 63.8%. Ma faʻaopopo le maneta, eletise i le faagasologa o le agai atu i le anode e fai ai le taamilosaga, o le maneta o loʻo fusifusia ma faʻalautele le ala o le eletise, faʻaleleia atili le avanoa o le fetoʻai o electrons ma kasa galue, lea e faʻateleina ai le tupu mai o le ionization, ionization ma toe gaosia ai le eletise e auai foi i le faagasologa o le faʻalavelave, o le faʻateleina o le faʻaogaina o le malosi, e mafai ona faʻateleina le faʻaogaina o le faʻalavelave faʻafuaseʻi. le eletise, ma faʻapea i le faʻavaeina o le maualuga maualuga O le maualuga o le plasma e faʻateleina i le faʻafefe o le glow anomalous o le plasma. O le fua o le sputtering i fafo atoms mai le taulaiga ua faateleina foi, ma sputtering taulaiga e mafua mai i le pomuina o le sini e ions lelei e sili atu ona aoga, o le mafuaaga lea o le maualuga o le magnetron sputtering deposition. E le gata i lea, o le i ai o le maneta e mafai foi ona faʻaogaina ai le faiga o le sputtering i lalo ifo o le mamafa o le ea, maualalo le 1 mo le mamafa o le ea e mafai ona faia ai ions i totonu o le faʻailoga o le faʻailoga e faʻaitiitia ai le faʻalavelave, osofaʻia o le sini ma se malosi tele, ma le aso e mafai ai ona faʻaitiitia le sputtered atoms taulaʻi ma faʻalavelave faʻafefete, e puipuia ai le faʻatatau o le faʻapipiʻiina i luga o le puipui o le faʻataʻapeʻapeina o le masini. ma le lelei o le teuina o ata manifinifi.

E mafai e le maneta fa'atatau ona taofiofia le ala o electrons, lea e a'afia ai meatotino plasma ma le togiina o ion i luga o le sini.

Su'ega: fa'ateleina le tutusa o le maneta fa'amoemoe e mafai ona fa'atuputeleina le tutusa o le fa'atatau i luga o le etching, fa'apea le fa'aleleia o le fa'aogaina o mea fa'atatau; e mafai foi ona faʻaleleia lelei le faʻamautuina o le faagasologa o le sputtering. O le mea lea, mo le magnetron sputtering target, o le tele ma le tufatufaina o le maneta e matua taua lava.

–O lenei tusiga ua tatalaina emasini fa'apipi'i gaogao gaosimeaGuangdong Zhenhua