1. Технология термического химического осаждения из газовой фазы
Твердые покрытия в основном представляют собой металлокерамические покрытия (TiN и т. д.), которые образуются в результате реакции металла в покрытии и реактивной газификации. Сначала использовалась термическая технология CVD для обеспечения энергии активации комбинированной реакции тепловой энергией при высокой температуре 1000 ℃. Эта температура подходит только для нанесения TiN и других твердых покрытий на инструменты из твердого сплава. До сих пор важной технологией является нанесение композитных покрытий TiN-Al20 на головки инструментов из твердого сплава.
2. Ионное покрытие с полым катодом и ионное покрытие с дугой горячей проволоки
В 1980-х годах для нанесения покрытий на режущие инструменты использовались ионное покрытие с полым катодом и ионное покрытие с горячей проволокой. Обе эти технологии ионного покрытия являются технологиями ионного покрытия с дуговым разрядом, со степенью ионизации металла до 20%~40%.
3. Катодно-дуговое ионное покрытие
Появление катодного дугового ионного покрытия привело к развитию технологии нанесения твердых покрытий на формы. Скорость ионизации катодного дугового ионного покрытия составляет 60%~90%, что позволяет большому количеству ионов металла и ионов реакционного газа достигать поверхности заготовки и при этом сохранять высокую активность, что приводит к реакционному осаждению и образованию твердых покрытий, таких как TiN. В настоящее время технология катодного дугового ионного покрытия в основном используется для нанесения твердых покрытий на формы.
Источник катодной дуги представляет собой твердотельный испарительный источник без фиксированной расплавленной ванны, а положение источника дуги может быть произвольно размещено, что улучшает коэффициент использования пространства помещения для нанесения покрытий и увеличивает загрузочную способность печи. Формы источников катодной дуги включают небольшие круглые катодные источники дуги, столбчатые источники дуги и прямоугольные плоские большие источники дуги. Различные компоненты небольших источников дуги, столбчатых источников дуги и больших источников дуги могут быть расположены отдельно для осаждения многослойных пленок и нано-многослойных пленок. Между тем, из-за высокой скорости ионизации металла катодного дугового ионного покрытия ионы металла могут поглощать больше реакционных газов, что приводит к широкому диапазону процесса и простой эксплуатации для получения превосходных твердых покрытий. Однако в микроструктуре слоя покрытия, полученного катодным дуговым ионным покрытием, имеются грубые капли. В последние годы появилось много новых технологий для улучшения структуры слоя пленки, что улучшило качество пленки дугового ионного покрытия.
——Эта статья была опубликована компанией Guangdong Zhenhua Technology,производитель оптических покрывающих машин.
Время публикации: 28-апр.-2023