Com o crescente desenvolvimento do revestimento por pulverização catódica, especialmente da tecnologia de revestimento por pulverização catódica magnetron, atualmente, qualquer material pode ser preparado por meio de um filme alvo de bombardeamento iônico. Como o alvo é pulverizado durante o processo de revestimento em algum tipo de substrato, a qualidade do filme medido tem um impacto significativo, portanto, os requisitos para o material alvo também são mais rigorosos. Na seleção do material alvo, além da utilização do próprio filme, devem ser considerados os seguintes aspectos:
O material alvo deve ter boa resistência mecânica e estabilidade química após o filme;
O alvo e o substrato devem ser firmemente combinados, caso contrário, deve-se tomar como base uma boa combinação de camada de membrana para o substrato, primeiro pulverizando uma película de base e depois preparando a camada de membrana necessária;
Como uma reação de pulverização catódica no material da membrana deve ser fácil de reagir com o gás para gerar um filme composto.
Sob a premissa de atender aos requisitos de desempenho da membrana, a diferença entre o coeficiente de expansão térmica do material alvo e do substrato é a menor possível, de modo a minimizar a influência do estresse térmico na membrana pulverizada.
De acordo com os requisitos de uso e desempenho da membrana, o material alvo deve atender à pureza, ao teor de impurezas, à uniformidade dos componentes, à precisão de usinagem e outros requisitos técnicos.
–Este artigo foi publicado porfabricante de máquinas de revestimento a vácuoGuangdongZhenhua
Horário da postagem: 09/01/2024