Med den økende utviklingen av sputterbelegg, spesielt magnetron-sputterbeleggteknologi, kan man for tiden fremstille et hvilket som helst materiale med ionbombardement av målfilm. Fordi målet sputteres i prosessen med å belegge det på et slags substrat, har kvaliteten på den målte filmen en viktig innvirkning. Derfor er kravene til målmaterialet også strengere. Ved valg av målmateriale bør man i tillegg til bruken av selve filmen også vurdere følgende punkter:
Målmaterialet bør ha god mekanisk styrke og kjemisk stabilitet etter filmen;
Målet og substratet må være godt kombinert, ellers bør det tas hensyn til at substratet har en god kombinasjon av membranlag, først forstøves en basefilm og deretter forberedes det nødvendige membranlaget;
Som en reaksjon må sputtering inn i membranmaterialet lett kunne reagere med gassen for å generere en sammensatt film.
Under forutsetningen om å oppfylle membranens ytelseskrav, er forskjellen mellom termisk ekspansjonskoeffisient for målmaterialet og substratet så liten som mulig, for å minimere påvirkningen av termisk stress på den forstøvede membranen.
I henhold til membranens bruks- og ytelseskrav må målmaterialet oppfylle tekniske krav til renhet, urenhetsinnhold, komponentensartethet, maskineringsnøyaktighet og andre.
– Denne artikkelen er publisert avprodusent av vakuumbeleggsmaskinerGuangdong Zhenhua
Publisert: 09.01.2024