ຫຼັງຈາກການຄົ້ນພົບຜົນກະທົບຂອງ photovoltaic ໃນເອີຣົບໃນ 1863, ສະຫະລັດໄດ້ເຮັດຈຸລັງ photovoltaic ທໍາອິດທີ່ມີ (Se) ໃນປີ 1883. ໃນຕອນຕົ້ນ, ຈຸລັງ photovoltaic ໄດ້ຖືກນໍາໃຊ້ຕົ້ນຕໍໃນອາວະກາດ, ການທະຫານແລະຂົງເຂດອື່ນໆ.ໃນ 20 ປີທີ່ຜ່ານມາ, ການຫຼຸດລົງຢ່າງຫຼວງຫຼາຍຂອງຄ່າໃຊ້ຈ່າຍຂອງຈຸລັງ photovoltaic ໄດ້ສົ່ງເສີມການນໍາໃຊ້ຢ່າງກວ້າງຂວາງຂອງ photovoltaic ແສງຕາເວັນໃນທົ່ວໂລກ.ໃນຕອນທ້າຍຂອງ 2019, ຄວາມສາມາດໃນການຕິດຕັ້ງຂອງແສງຕາເວັນ PV ທັງຫມົດບັນລຸ 616GW ໃນທົ່ວໂລກ, ແລະຄາດວ່າຈະບັນລຸ 50% ຂອງການຜະລິດໄຟຟ້າທັງຫມົດໃນທົ່ວໂລກໃນປີ 2050. ນັບຕັ້ງແຕ່ການດູດຊຶມຂອງແສງສະຫວ່າງໂດຍວັດສະດຸ semiconductor photovoltaic ສ່ວນໃຫຍ່ແມ່ນເກີດຂຶ້ນໃນລະດັບຄວາມຫນາຂອງ. ບໍ່ຫຼາຍປານໃດ microns ເຖິງຫຼາຍຮ້ອຍ microns, ແລະອິດທິພົນຂອງພື້ນຜິວຂອງວັດສະດຸ semiconductor ໃນການປະຕິບັດຫມໍ້ໄຟແມ່ນມີຄວາມສໍາຄັນຫຼາຍ, ເຕັກໂນໂລຊີຮູບເງົາບາງສູນຍາກາດຖືກນໍາໃຊ້ຢ່າງກວ້າງຂວາງໃນການຜະລິດຈຸລັງແສງຕາເວັນ.
ຈຸລັງ photovoltaic ອຸດສາຫະກໍາສ່ວນໃຫຍ່ແມ່ນແບ່ງອອກເປັນສອງປະເພດ: ຫນຶ່ງແມ່ນ crystalline silicon ຈຸລັງແສງຕາເວັນ, ແລະອື່ນໆແມ່ນຈຸລັງແສງຕາເວັນບາງ.ເທກໂນໂລຍີຈຸລັງຊິລິໂຄນ crystalline ຫຼ້າສຸດປະກອບມີເທກໂນໂລຍີ passivation emitter ແລະ backside cell (PERC), ເຕັກໂນໂລຊີ heterojunction cell (HJT), passivation emitter back surface full diffusion (PERT) technology, ແລະເຕັກໂນໂລຊີເຊນສໍາຜັດ oxide-piercing contact (Topcn).ຫນ້າທີ່ຂອງຮູບເງົາບາງໆໃນຈຸລັງຊິລິໂຄນ crystalline ສ່ວນໃຫຍ່ແມ່ນປະກອບດ້ວຍ passivation, ຕ້ານການສະທ້ອນ, p / n doping, ແລະ conductivity.ເທັກໂນໂລຍີແບດເຕີຣີ້ແບບຟິມບາງໆ ລວມມີແຄດມີນຽມ ເທເລລູໄຣດ, ທອງແດງອິນເດັຍ ແກລຽມເຊເລໄນດ, ແຄວຊຽມ ແລະເທັກໂນໂລຍີອື່ນໆ.ຮູບເງົາສ່ວນໃຫຍ່ແມ່ນຖືກນໍາໃຊ້ເປັນຊັ້ນດູດຊຶມແສງສະຫວ່າງ, ຊັ້ນ conductive, ແລະອື່ນໆ. ເຕັກໂນໂລຊີຮູບເງົາບາງສູນຍາກາດໄດ້ຖືກນໍາໃຊ້ໃນການກະກຽມຂອງຮູບເງົາບາງໆໃນຈຸລັງ photovoltaic.
Zhenhuaສາຍການຜະລິດການເຄືອບ photovoltaic ແສງຕາເວັນແນະນຳ:
ຄຸນນະສົມບັດອຸປະກອນ:
1. ຮັບຮອງເອົາໂຄງສ້າງ modular, ເຊິ່ງສາມາດເພີ່ມສະພາການຕາມຄວາມຕ້ອງການຂອງການເຮັດວຽກແລະປະສິດທິພາບ, ສະດວກແລະມີຄວາມຍືດຫຍຸ່ນ;
2. ຂະບວນການຜະລິດສາມາດຕິດຕາມໄດ້ຢ່າງສົມບູນ, ແລະຕົວກໍານົດການຂະບວນການສາມາດຕິດຕາມໄດ້, ເຊິ່ງສະດວກໃນການຕິດຕາມການຜະລິດ;
4. ອຸປະກອນການ rack ສາມາດກັບຄືນອັດຕະໂນມັດ, ແລະການນໍາໃຊ້ການຫມູນໃຊ້ສາມາດເຊື່ອມຕໍ່ຂະບວນການໃນອະດີດແລະສຸດທ້າຍ, ຫຼຸດຜ່ອນຄ່າໃຊ້ຈ່າຍແຮງງານ, ລະດັບສູງຂອງອັດຕະໂນມັດ, ປະສິດທິພາບສູງແລະປະຫຍັດພະລັງງານ.
ມັນເຫມາະສົມສໍາລັບ Ti, Cu, Al, Cr, Ni, Ag, Sn ແລະໂລຫະອົງປະກອບອື່ນໆ, ແລະໄດ້ຖືກນໍາໃຊ້ຢ່າງກວ້າງຂວາງໃນອົງປະກອບເອເລັກໂຕຣນິກ semiconductor, ເຊັ່ນ: substrates ceramic, capacitors ceramic, LED ວົງເລັບ ceramic, ແລະອື່ນໆ.
ເວລາປະກາດ: 07-07-2023