Wëllkomm bei Guangdong Zhenhua Technology Co., Ltd.
eenzelt_banner

D'Uewerflächenform an den thermeschen Ausdehnungskoeffizient vum Substrat um Film

Artikelquell: Zhenhua Vakuum
Liesen: 10
Verëffentlecht: 24-02-29

D'Wuesstem vum Film huet e ganz wichtegen Afloss. Wann d'Uewerflächenrauheet vum Substrat grouss ass, a méi a méi mat Uewerflächendefekter kombinéiert gëtt, beaflosst dat d'Haftung an d'Wuesstemsquote vum Film. Dofir gëtt de Substrat virum Ufank vun der Vakuumbeschichtung virbereet, wat d'Roll vun der Uewerflächenrauheet vum Substrat op der Uewerfläch vum Substrat spillt. Nom Ultraschallinterventioun wäert e klenge Kratzer op der Uewerfläch vum Substrat bilden, wat d'Kontaktfläch vun den Dënnfilmpartikelen an der Uewerfläch vum Substrat erhéicht, wat d'Formalitéit vum Rotor an d'Kombinatioun vun der Membranbasis däitlech erhéije kann.

Fir déi meescht Substratmaterialien, wann d'Rauheet vum Substrat ofhëlt, klëmmt d'Filmedhaftung, dat heescht, d'Bindkraaft vun der Membranbasis gëtt méi staark; et gëtt och e puer Substratmaterialien, déi e Spezialfall sinn, wéi zum Beispill d'Filmedhaftung vun der Keramikbasis. Mat engem reduzéierte Grad gëtt d'Bindkraaft vun der Membranbasis geschwächt.

An den Aflossfaktoren, déi mam Film a mam Film iwwereneestëmmen, spillt den thermesche Bulkkoeffizient eng entscheedend Roll. Wann den thermeschen Expansiounskoeffizient vum Film méi grouss ass wéi den thermeschen Expansiounskoeffizient vun der Matrix, ass den Dréimoment negativ, an déi maximal Spannung ass op der fräier Grenz. Et ass no beim Zentrum vum Zentrum fir ze kompriméieren, an de Film kann geschichtet ausgesinn. Huelt de sedimentäre Skinus Dënnfilm als Beispill. Well den thermeschen Expansiounskoeffizient vum Diamant kleng ass, fällt d'Substrattemperatur vun enger méi héijer Sedimenttemperatur op Raumtemperatur erof, wann d'Gasphasoflagerung eriwwer ass, an d'Kontraktioun vum Diamant gëtt am Verglach mam Substrat reduzéiert. Eng grouss thermesch Spannung entsteet dobannen. Wann den thermeschen Expansiounskoeffizient vum Film méi kleng ass wéi den Heizkoeffizient vum Substrat, ass den Dréimoment positiv, an de Film ass net einfach ze schichten.

– Dësen Artikel gouf publizéiert vunHiersteller vu VakuumbeschichtungsmaschinnenGuangdong Zhenhua


Zäitpunkt vun der Verëffentlechung: 29. Februar 2024