Mat der zouhuelender Entwécklung vun der Sputterbeschichtung, besonnesch der Magnetron-Sputterbeschichtungstechnologie, kann de Moment fir all Material mat engem Ionenbombardement-Zilfilm virbereet ginn. Well d'Zil beim Beschichtungsprozess op eng Zort Substrat gesputtert gëtt, huet d'Qualitéit vum gemoossene Film e wichtegen Afloss. Dofir sinn d'Ufuerderunge fir d'Zilmaterial och méi streng. Bei der Auswiel vum Zilmaterial sollten, nieft der Notzung vum Film selwer, och déi folgend Punkte berécksiichtegt ginn:
D'Zilmaterial soll no der Folie eng gutt mechanesch Stäerkt a chemesch Stabilitéit hunn;
D'Zil an de Substrat mussen fest kombinéiert sinn, soss soll mam Substrat eng gutt Kombinatioun vun der Membranschicht gemaach ginn, fir d'éischt e Basisfilm ze sputteren an dann déi gewënscht Membranschicht virzebereeden;
Als Reaktioun muss d'Sputtering an d'Membranmaterial einfach mam Gas reagéiere kënnen, fir e Verbindungsfilm ze generéieren.
Ënnert der Viraussetzung, d'Leeschtungsufuerderunge vun der Membran ze erfëllen, ass den Ënnerscheed tëscht dem thermesche Expansiounskoeffizient vum Zilmaterial an dem Substrat sou kleng wéi méiglech, fir den Afloss vum thermesche Stress op d'Sputtermembran ze minimiséieren.
Geméiss den Ufuerderunge vun der Notzung an den Leeschtunge vun der Membran muss d'Zilmaterial d'Reinheet, den Onreinheetsgehalt, d'Komponentenuniformitéit, d'Bearbechtungsgenauegkeet an aner technesch Ufuerderunge erfëllen.
– Dësen Artikel gouf publizéiert vunHiersteller vu VakuumbeschichtungsmaschinnenGuangdong Zhenhua
Zäitpunkt vun der Verëffentlechung: 09.01.2024