Crescente progressu technologiae depositionis per pulverizationem cathodicam, praesertim magnetronis, hodie quaevis materia pelliculam scopi per bombardationem ionicam praeparari potest. Quia scopum in processu depositionis per pulverizationem cathodicam in quodam substrato deponitur, qualitas pelliculae mensuratae magnum momentum habet, ergo requisita materiae scopi etiam severiora fiunt. In delectu materiae scopi, praeter usum ipsius pelliculae eligendae, etiam haec consideranda sunt:
Materia destinata bonam firmitatem mechanicam et stabilitatem chemicam post pelliculam habere debet;
Scopus et substratum firmiter coniungi debent, alioquin cum substratum bonam combinationem strati membranae habeat, primum pelliculam basicam spargendo, deinde stratum membranae requisitum praeparando, sumendus est;
Ut reactio per cataractam in membranam materiae facile cum gas reagere debet ad pelliculam compositam generandam.
Sub praemissa requisitis functionis membranae implendis, differentia inter coefficientem expansionis thermalis materiae designatae et substrati quam minima est, ut influxus tensionis thermalis in membranam pulverizatam quam minimum sit.
Secundum usus et requisita functionis membranae, materia destinata puritati, quantitati impuritatum, uniformitati partium, accurationi machinationis, aliisque requisitis technicis satisfacere debet.
–Hic articulus editus est abFabricator machinae ad obducendum vacuumGuangdong Zhenhua
Tempus publicationis: IX Ianuarii MMXXIV