스퍼터링 코팅, 특히 마그네트론 스퍼터링 코팅 기술의 급속한 발전으로, 현재 모든 소재에 대해 이온 충격 타겟 필름을 제조할 수 있습니다. 타겟은 스퍼터링 과정에서 특정 기판에 코팅되기 때문에 측정된 필름의 품질이 중요한 영향을 미치므로 타겟 소재에 대한 요구 사항 또한 더욱 엄격해지고 있습니다. 타겟 소재를 선택할 때는 필름 자체의 용도 외에도 다음과 같은 사항을 고려해야 합니다.
목표 물질은 필름 형성 후 우수한 기계적 강도와 화학적 안정성을 가져야 합니다.
타겟과 기판은 단단히 결합되어야 하며, 그렇지 않은 경우 기판과 멤브레인 층의 좋은 조합으로 결합되어야 하며, 먼저 기본 필름을 스퍼터링한 다음 필요한 멤브레인 층을 준비해야 합니다.
반응으로서 막 물질에 스퍼터링이 일어나면 가스와 쉽게 반응하여 복합막을 생성해야 합니다.
막의 성능 요구 사항을 충족한다는 전제 하에, 타겟 물질과 기판의 열팽창 계수의 차이가 가능한 한 작아야 스퍼터링 막에 열응력이 미치는 영향을 최소화할 수 있습니다.
멤브레인의 사용 및 성능 요구 사항에 따라 대상 재료는 순도, 불순물 함량, 구성 요소 균일성, 가공 정확도 및 기타 기술 요구 사항을 충족해야 합니다.
–이 기사는 다음에서 발행합니다.진공 코팅기 제조업체광둥진화
게시 시간: 2024년 1월 9일